公开(公告)号：CN119852212A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202510072038.8

申请日：2021-02-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  宫川纱希 ,  小林健司

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(5lAl)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(5lAl)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。

公开(公告)号：CN113314435A

公开(公告)日：2021-08-27

申请号：CN202011373950.0

申请日：2020-11-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  小林健司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间对向配置，因此能够防止排气管妨碍配管通过的通路，所述配管是用来向保持在保持旋转部上的衬底供给药液。另外，以往是由2种处理单元构成，而本发明中通过1种处理单元即可解决。因此，能够使零件在所有处理单元中共通化。

公开(公告)号：CN114121719A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202110980004.0

申请日：2021-08-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  泽岛隼 ,  圆札昭寿

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明提供一种衬底处理装置，包含：分度器块；及处理块，在所述分度器块的横向上相邻，在上下方向积层着多个处理块层。所述分度器块包含：收容器保持部，用来保持收容衬底的衬底收容器；及第1搬送机构，在保持在所述收容器保持部的衬底收容器与所述处理块之间搬送衬底。各处理块层包含：多个处理单元，对衬底进行处理；衬底载置部，暂时保持在所述第1搬送机构与所述处理块层之间交接的衬底；伪衬底收容部，收容所述多个处理单元中能使用的伪衬底；及第2搬送机构，在所述衬底载置部与所述多个处理单元之间搬送衬底，在所述伪衬底收容部与所述多个处理单元之间搬送伪衬底。

公开(公告)号：CN113363180A

公开(公告)日：2021-09-07

申请号：CN202110243978.0

申请日：2021-03-05

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  泽岛隼 ,  东克栄 ,  小林健司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明的课题在于提高蚀刻轮廓的自由度。本发明的衬底处理方法包括如下工序：使衬底旋转；使用中央喷嘴向旋转的衬底的中央部喷出第1处理液；以及使用边缘喷嘴向旋转的衬底的边缘部喷出第2处理液，俯视时该边缘部包围着中央部；边缘喷嘴从相对于衬底的主表面倾斜的方向，顺着衬底的旋转方向喷出第2处理液，且边缘喷嘴向如下位置的衬底的边缘部喷出第2处理液，即，俯视时从连结衬底的中心和中央喷嘴的线，顺着衬底的旋转方向前进半周后的位置。

公开(公告)号：CN116598224A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202310109141.6

申请日：2023-02-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  山之内祐太 ,  濑川悠太 ,  青木陆太 ,  林宗儒 ,  泽岛隼

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备：药液喷嘴(31)，其包括朝向基板(W)的上表面内的目标位置(P1)沿相对于基板(W)的上表面倾斜的药液吐出方向(D1)吐出药液的药液吐出口(95)；飞沫遮蔽件(101)，其包括与基板(W)的上表面直接对置的遮蔽面(104)，遮蔽面(104)俯视下与目标位置(P1)重叠，当从下观察药液喷嘴(31)和遮蔽面(104)时，药液吐出口(95)的任意部分都配置于遮蔽面(104)的外缘的外侧或遮蔽面(104)的外缘上；以及喷嘴移动单元(38)，其使药液喷嘴(31)与飞沫遮蔽件(101)一起移动。

公开(公告)号：CN114242613A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202111056125.2

申请日：2021-09-09

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  小林健司 ,  泽岛隼 ,  吉田武司 ,  根来世 ,  折坂昌幸

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(1)具备：筒状护罩(53A)，接住从衬底(W)向外侧飞溅的液体；腔室(12)，包围护罩(53A)；间隔板(81)，将腔室(12)内的护罩(53A)周围的空间上下隔开；以及排气管，将护罩(53A)内侧的气体与间隔板(81)下侧的气体吸引到在腔室(12)内配置在比间隔板(81)更靠下方的上游端内，并排出到腔室(12)的外部。间隔板(81)包含：外周端(81o)，从腔室(12)的内周面(12i)向内侧离开；以及内周端，包围护罩(53A)。护罩升降单元通过使护罩(53A)升降，而改变从间隔板(81)的内周端(内周面(83i))到护罩(53A)的最短距离。

公开(公告)号：CN119852213A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202510072039.2

申请日：2021-02-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  宫川纱希 ,  小林健司

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的开闭机构、切换机构以及衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。

公开(公告)号：CN119297117A

公开(公告)日：2025-01-10

申请号：CN202411394697.5

申请日：2020-07-03

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 深津英司 ,  太田乔 ,  泽岛隼

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。

公开(公告)号：CN114429924A

公开(公告)日：2022-05-03

申请号：CN202111260217.2

申请日：2021-10-28

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的衬底处理装置对衬底供给流体而进行处理，所述装置包含以下要素：第1处理壳体；处理部，设置在所述第1处理壳体的内部，用于利用流体对载置于载置部的衬底进行处理；第1供给部，从所述第1处理壳体的供进行维护的正侧面观察时，配置在所述处理部的一侧方，对所述处理部供给第1流体；及第2供给部，从所述正侧面观察时，配置在所述处理部的另一侧方，对所述处理部供给第2流体。

公开(公告)号：CN113314437A

公开(公告)日：2021-08-27

申请号：CN202110220015.9

申请日：2021-02-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  宫川纱希 ,  小林健司

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。