公开(公告)号：CN116598224A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202310109141.6

申请日：2023-02-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  山之内祐太 ,  濑川悠太 ,  青木陆太 ,  林宗儒 ,  泽岛隼

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备：药液喷嘴(31)，其包括朝向基板(W)的上表面内的目标位置(P1)沿相对于基板(W)的上表面倾斜的药液吐出方向(D1)吐出药液的药液吐出口(95)；飞沫遮蔽件(101)，其包括与基板(W)的上表面直接对置的遮蔽面(104)，遮蔽面(104)俯视下与目标位置(P1)重叠，当从下观察药液喷嘴(31)和遮蔽面(104)时，药液吐出口(95)的任意部分都配置于遮蔽面(104)的外缘的外侧或遮蔽面(104)的外缘上；以及喷嘴移动单元(38)，其使药液喷嘴(31)与飞沫遮蔽件(101)一起移动。

公开(公告)号：CN119517792A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411156296.6

申请日：2024-08-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  加藤拓司 ,  青木陆太 ,  山之内祐太 ,  池上裕

IPC: H01L21/67 ,  F26B11/18 ,  B01D12/00 ,  F26B21/00 ,  F26B21/14

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将清洗处理后的基板上残留的清洗液以具有比清洗液低的表面张力的置换液置换。在该置换时，将喷嘴装置配置到比处理承杯靠上方的喷嘴上位置。从喷嘴装置朝向下方喷出置换液，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。然后，对基板进行干燥。在该干燥时，从喷嘴装置朝向下方喷射气体，同时喷嘴装置在基板中心的上方位置处从喷嘴上位置下降至与基板W接近的喷嘴下位置。另外，继续气体的喷射，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。

公开(公告)号：CN115116891A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210219838.4

申请日：2022-03-08

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 青木陆太 ,  水上大乘 ,  相原友明

IPC: H01L21/67 ,  B01D35/00

Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(1)具备处理液罐(30)、第一循环配管(31)、过滤器(39)、泵(37)和控制部(3A)。第一循环配管(31)的上游端(31a)与处理液罐(30)连接，并且下游端(31b)与处理液罐(30)连接，使处理液循环。过滤器(39)配置于第一循环配管(31)，捕捉处理液所含的颗粒。泵(37)配置于第一循环配管(31)。泵(37)具有旋转体(371)，通过使旋转体(371)旋转来送出处理液。在驱动停止状态的泵(37)的情况下，控制部(3A)控制泵(37)，以使旋转体(371)以400rpm/秒以下的旋转加速度旋转。

公开(公告)号：CN114944349A

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN202210134253.2

申请日：2022-02-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  泽岛隼 ,  远藤亨 ,  青木陆太

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板处理装置及筒状护罩的加工方法。基板处理装置具备：旋转保持部件，其在保持基板的同时使上述基板绕着规定的旋转轴线旋转；液体供给部件，其向保持于上述旋转保持部件的基板供给液体；和树脂制的筒状护罩，其包围保持于上述旋转保持部件的基板。上述筒状护罩具有内周面和设于上述内周面的凹凸部。上述凹凸部具有多个凹部和位于彼此相邻的上述凹部彼此之间的多个凸部。上述凹部具有比从保持于上述旋转保持部件的基板飞散的液滴的直径小的宽度、和在上述液滴与多个上述凸部接触的状态下使上述液滴不与上述凹部的底部接触的深度。上述凸部具有比上述液滴的直径小且比上述凹部的宽度小的宽度。

公开(公告)号：CN119856255A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202380063625.X

申请日：2023-07-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  青木陆太

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 基板处理装置(100)具有：基板保持部(20)，保持基板(W)并使基板(W)旋转；以及混合液供给部(50)，向通过基板保持部(20)旋转的基板(W)供给混合了硫酸以及双氧水的硫酸双氧水混合液。混合液供给部(50)在第一期间中以第一流量向基板供给硫酸双氧水混合液，在第一期间之后的第二期间中以比第一流量小的第二流量向基板供给硫酸双氧水混合液。在第二期间中硫酸双氧水混合液的硫酸的比例比在第一期间中硫酸双氧水混合液的硫酸的比例小。

公开(公告)号：CN118872032A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202380028060.1

申请日：2023-03-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 青木陆太 ,  山口贵大 ,  远藤亨 ,  续木凉介 ,  上前昭司

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/304

Abstract: 在基板处理装置(100)中，控制部(102)基于第一流量计(112b)的测量结果计算从第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)而供给至贮存槽(116)的第一成分液体的第一供给量，基于第二流量计(114b)的测量结果计算从第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)而供给至贮存槽(116)的第二成分液体的第二供给量；在成分液体供给期间中基于第一供给量以及第二供给量来控制第一成分液体供给部(112)以及第二成分液体供给部(114)，成分液体供给期间为第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)供给第一成分液体的期间以及第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)供给第二成分液体的期间中的至少一个期间。

公开(公告)号：CN117501413A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202280042202.5

申请日：2022-04-15

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岛野达矢 ,  山口贵大 ,  远藤亨 ,  青木陆太

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供能够进行更适当的异常处理的技术。基板处理方法具有设定工序、基板处理工序、检测工序(S1)以及第一异常处理工序(S4)。在设定工序中，将用于规定对基板的一系列处理的复数个处理内容中的一个处理内容以与复数个处理内容中的各个处理内容对应的方式设定为跳转目的地。在基板处理工序中，对基板开始一系列处理。在检测工序(S1)中检测异常。在第一异常处理工序(S4)中，当检测到异常时，从与执行中的处理内容即执行内容对应地设定的跳转目的地开始进行一系列处理。

公开(公告)号：CN308913359S

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202330729593.5

申请日：2023-11-08

Applicant: 株式会社斯库林集团

Designer： 泽岛隼 ,  山之内祐太 ,  远藤亨 ,  青木陆太

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板处理装置用抑制飞沫扩散部件。
2.本外观设计产品的用途：本产品在基板处理装置中使用，用于抑制飞沫扩散。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。