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公开(公告)号：CN117941035A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202280061924.5
申请日：2022-09-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具有：基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括：时间变化获取部(22b)，基于在从处理液供给部(130)开始向基板(W)供给处理液之后至结束之前的处理液供给期间内的特定期间，成分存在量测定部(140)测定到的基板(W)的特定成分的存在量，获取特定成分的存在量的时间变化；预测线制作部(22c)，基于时间变化获取部(22b)获取的特定成分的存在量的时间变化，制作预测处理液供给期间中的特定期间之后的基板(W)的特定成分的存在量的时间变化的预测线；以及处理条件变更部(22d)，基于预测线，在停止处理液的供给之前变更用于处理基板的基板处理条件。
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公开(公告)号：CN110648941B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201910549224.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能恰当调节向处理液罐返回的处理液的温度的处理液温度调节装置、供给方法及基板处理装置。温度调节装置调节包括：上游路，从供从处理液罐向基板处理单元供给的处理液通过的供给流路分支，而供向处理液罐返回的处理液流入；第一及第二分流路，与上游路的下游端连接，使处理液分流；下游路，与第一及第二分流路的下游端连接，使处理液合流并向处理液罐引导；冷却单元，冷却在第一分流路流动的处理液；流量比率变更单元，变更从上游路流入第一及第二分流路的处理液的流量的比率；下游温度检测单元，检测在下游路流动的处理液的温度；控制器，控制流量比率变更单元以使下游检测温度接近规定的目标温度。
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公开(公告)号：CN119852212A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510072038.8
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(5lAl)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(5lAl)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN115176335A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202180017449.7
申请日：2021-01-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理装置在处理容器内使用超临界状态的处理流体来处理基板的技术中，防止混入到处理流体中的杂质被紊流运送而附着于基板。在处理容器(12)且在俯视时在相比基板(S)的一端部的外侧设有面向处理空间中的比基板靠上方的空间开口的第一导入口(123a)和面向比支撑托盘(15)靠下方的空间开口的第二导入口(124a)。并且，在俯视时在相比基板的另一端部的外侧设有面向处理空间中的比支撑托盘靠上方的空间开口的第一排出口(125a)和面向比支撑托盘靠下方的空间开口的第二排出口(126a)。超临界状态且为第一温度的处理流体经由第一导入口向处理空间供给，并且更低温的第二温度的处理流体经由第二导入口向处理空间供给。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119852213A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510072039.2
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的开闭机构、切换机构以及衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN113314437A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202110220015.9
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN113314437B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202110220015.9
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN117981058A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280061923.0
申请日：2022-09-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具有基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括：时间变化获取部(22b)，基于在处理液供给部(130)向基板(W)供给处理液的期间由成分存在量测定部(140)测定出的基板(W)的特定成分的存在量，获取特定成分的存在量的时间变化；以及处理条件变更部(22c)，基于通过向学习完成模型(LM)输入表示时间变化获取部(22b)获取的特定成分的存在量的时间变化的输入信息而获得的输出信息，在停止供给处理液之前变更用于处理基板的基板处理条件，所述学习完成模型(LM)通过对将对于学习对象基板的处理条件以及处理结果建立关联的学习用数据进行机械学习而构建。
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公开(公告)号：CN110648941A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201910549224.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能恰当调节向处理液罐返回的处理液的温度的处理液温度调节装置、供给方法及基板处理装置。温度调节装置调节包括：上游路，从供从处理液罐向基板处理单元供给的处理液通过的供给流路分支，而供向处理液罐返回的处理液流入；第一及第二分流路，与上游路的下游端连接，使处理液分流；下游路，与第一及第二分流路的下游端连接，使处理液合流并向处理液罐引导；冷却单元，冷却在第一分流路流动的处理液；流量比率变更单元，变更从上游路流入第一及第二分流路的处理液的流量的比率；下游温度检测单元，检测在下游路流动的处理液的温度；控制器，控制流量比率变更单元以使下游检测温度接近规定的目标温度。
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