衬底处理装置及衬底位置调整方法

    公开(公告)号:CN114256095A

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN202111055253.5

    申请日:2021-09-09

    Abstract: 本发明涉及一种处理衬底的衬底处理装置及衬底位置调整方法。本发明的衬底处理装置具备:基座,具有将圆板状衬底以水平姿势保持的保持面;旋转单元,使所述基座绕铅直的旋转轴线旋转;加热单元,加热保持在所述保持面的衬底的周缘部;偏心量测定单元,具有发出光的发光部及接收从所述发光部发出的光的受光部,在保持在所述保持面的衬底的周缘部位于所述发光部与所述受光部间的检测空间内时,测定所述衬底相对于所述旋转轴线的偏心量;定心单元,使所述保持面上的衬底相对于所述基座移动,使得所述衬底的中心部靠近所述旋转轴线;及气氛置换单元,由所述检测空间外的气氛置换存在于所述检测空间内的气氛。

    衬底处理方法及衬底处理装置

    公开(公告)号:CN111602230A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN201880085719.6

    申请日:2018-11-19

    Abstract: 本发明提供能够改善图案倒塌及颗粒问题的衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序:表面改性工序,针对在表面具有氧化物的衬底的表面,实施将该表面的粗糙加以改善的改性;表面清洗工序,向上述衬底的经改性的上述表面供给处理液,通过该处理液对衬底的表面进行清洗;和疏水化工序,向上述衬底的经清洗的上述表面供给疏水化剂,将上述衬底的表面疏水化。

    基板处理装置以及过滤器的气泡去除方法

    公开(公告)号:CN119948601A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202380066304.5

    申请日:2023-08-09

    Abstract: 基板处理装置(100)具备基板处理单元(10)、配管(32)、过滤器(141)、上游侧配管(151)、下游侧配管(161)以及去除液供给部(165)。基板处理单元(10)处理基板(W)。配管(32)供处理液流通至基板处理单元(10)。过滤器(141)配置于配管(32)。上游侧配管(151)在过滤器(141)的上游侧处连接于配管(32)。下游侧配管(161)在过滤器(141)的下游侧处连接于配管(32)。去除液供给部(165)将气泡去除液供给至上游侧配管(151)以及下游侧配管(161)中的一者。基板处理装置(100)使气泡去除液从上游侧配管(151)以及下游侧配管(161)中的一者经由过滤器(141)通过上游侧配管(151)以及下游侧配管(161)中的另一者。

    衬底处理方法及衬底处理装置

    公开(公告)号:CN111602230B

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN201880085719.6

    申请日:2018-11-19

    Abstract: 本发明提供能够改善图案倒塌及颗粒问题的衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序:表面改性工序,针对在表面具有氧化物的衬底的表面,实施将该表面的粗糙加以改善的改性;表面清洗工序,向上述衬底的经改性的上述表面供给处理液,通过该处理液对衬底的表面进行清洗;和疏水化工序,向上述衬底的经清洗的上述表面供给疏水化剂,将上述衬底的表面疏水化。

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