公开(公告)号：CN113053728B

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202011545248.8

申请日：2020-12-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 阿部博史 ,  太田乔 ,  石津岳明 ,  小林健司 ,  村元僚 ,  根来世 ,  奥谷学 ,  酒井渉

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 基板处理方法及装置，方法包括：液膜形成工序，在基板的上表面形成处理液的液膜；液膜保温工序，将基板的整体加热至比处理液的沸点更低的温度以对液膜进行保温；气相层形成工序，一边执行液膜保温工序，一边从照射单元朝设定在基板的上表面中央部的照射区域照射光来对基板进行加热，由此使接触基板的上表面中央部的处理液蒸发，而在液膜的中央部形成保持处理液的气相层；开口形成工序，将由气相层保持的处理液排除以在液膜的中央部形成开口；基板旋转工序，使基板环绕旋转轴线进行旋转；及开口扩大工序，一边执行液膜保温工序及基板旋转工序，一边使照射区域朝基板的周缘部移动，由此一边维持在液膜的内周缘形成有气相层的状态，一边使开口扩大。

公开(公告)号：CN111095520B

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN201880055892.1

申请日：2018-08-01

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 村元僚

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/304

Abstract: 提供能够调整飞散至外侧的处理液的流速的基板保持装置。基板保持装置(1)用在对基板(W)供给处理液的基板处理装置(100)中。基板保持装置(1)具备保持部件(10)、环状部件(20)和旋转机构(30)。保持部件(10)将基板(W)保持为水平姿态。环状部件(20)具有包围保持于保持部件(10)的基板(W)的周缘的环状形状，环状形状的上表面(20a)位于与基板(W)的表面相比靠下方的位置。旋转机构(30)以通过保持于保持部件(10)的基板(W)且沿着铅垂方向的轴线为旋转轴(Q1)，使保持部件(10)和环状部件(20)以彼此不同的旋转速度和/或彼此不同的旋转方向旋转。

公开(公告)号：CN117957640A

公开(公告)日：2024-04-30

申请号：CN202280060626.4

申请日：2022-07-07

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田原香奈 ,  鳅场真树 ,  村元僚

IPC: H01L21/306 ,  C23F1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置包含：基板保持构件，将基板保持为规定的处理姿势；聚合物膜形成构件，将含有光致产酸剂以及聚合物的聚合物膜形成于被所述基板保持构件保持的基板的第一主表面，光致产酸剂通过光的照射而生成酸；光射出构件，射出光，并对被所述基板保持构件保持的基板的第一主表面的周缘部照射光；以及反射抑制构件，包含第一部分，第一部分能够配置于邻接位置，邻接位置为从所述基板的第一主表面的中心部侧邻接于被所述基板保持构件保持的基板的第一主表面的周缘部中被来自所述光射出构件的光照射的照射区域的位置。

公开(公告)号：CN110164791B

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN201811574249.8

申请日：2018-12-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 冲田展彬 ,  村元僚 ,  西田崇之

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种减轻基板的下表面的污染的基板处理装置。保护盘(10)配置在旋转底座分离的分离位置与比分离位置更接近基板(W)的接近位置之间进行升降。保护盘(10)的上表面包括：内方面(12S)，设置在比多个保持销(20)更靠径向内方的位置上；以及平坦面(13S)，设置在比内方面(12S)更靠径向外方的位置，并且设置在比内方面(12S)更靠上方的位置。平坦面(13S)与基板(W)的周缘部(WEP1)之中、比外周端WE更靠径向内方的部分的下表面相向。(21)与基板(W)之间，能够在与基板(W)朝向下方

公开(公告)号：CN111066127B

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN201880056266.4

申请日：2018-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岩尾通矩 ,  村元僚

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/04 ,  H01L21/306

Abstract: 基板处理装置包含：基板保持单元，包含具有上表面的旋转基座以及立设于所述上表面的多个销，用以通过所述多个销保持基板；阻隔构件，具有：基板对向面，与被所述基板保持单元保持的基板的上表面对向；以及内周面，与被所述基板保持单元保持的基板的外周端以及所述旋转基座的外周端双方对向；旋转单元，使所述旋转基座以及所述阻隔构件绕着预定的旋转轴线旋转；以及正压生成构件，在被所述旋转基座的所述上表面、所述基板对向面以及所述内周面划分的空间中，以能伴随所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转而旋转的方式设置于比所述销还远离所述旋转轴线的位置，且随着所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转将所述正压生成构件的旋转方向后方设定成正压区域。

公开(公告)号：CN115863206A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202210882203.2

申请日：2022-07-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  村元僚

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，在支承基板(9)的下支承体(21)上可分离地载置作为环状构件的上支承体(31)。上支承体(31)覆盖基板(9)的外缘部并且与下支承体(21)一并旋转。上支承体(31)包括与基板(9)的外周以及上支承体(31)的外周在径向上相对置的环状侧壁部(311)、和从环状侧壁部(311)向径向内方扩展且与基板(9)的上表面的外缘部在上下方向上相对置的环状上部(312)。环状上部(312)的开口面积为基板(9)的面积的1/2以上。

公开(公告)号：CN115863205A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202210877128.0

申请日：2022-07-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  村元僚

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)的下表面供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，设置可分离地载置在下支承体(21)上的上支承体(31)、从上支承体(31)向下方突出的、用来把持基板(9)的多个上把持构件(32)、能够使上把持构件(32)与基板(9)的外缘部接触或者分离地移动上把持构件(32)的上把持驱动部(33)。优选地，上把持驱动部(33)利用把持侧磁性体(331)与环状的驱动侧磁性体(332)之间的磁力作用，移动上把持构件(32)。

公开(公告)号：CN108701584A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780012578.0

申请日：2017-03-16

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田锁学 ,  村元僚

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67706 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67781

Abstract: 基板处理装置将具有由外壁所包围的内部区域，其内部区域通过第一隔壁划分为第一及第二基板搬送区域。基板处理装置具备：第一及第二基板搬送机械手，分别配置于上述第一及第二基板搬送区域；处理单元，与上述第二基板搬送区域邻接设置；控制部，控制上述第一及第二基板搬送机械手的动作；选择性开启电源单元，在关闭上述第一基板搬送机械手的电源的情况下，选择性地开启上述第二基板搬送机械手的电源；控制器，将调整上述第二基板搬送机械手的动作的调整信号输入至上述控制部；与联锁单元，按照各区域分别检测对上述第一及第二基板搬送区域的人的进入，并将对应区域的基板搬送机械手的电源关闭。

公开(公告)号：CN115863207A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202210884878.0

申请日：2022-07-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  村元僚

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，在支承基板(9)的下支承体(21)上可分离地载置作为载置构件的上支承体(31)。上支承体(31)通过升降部来升降。上支承体(31)在比基板(9)的外周更靠径向外侧包括第1抵接部(34)。当升降部的第2抵接部(132)上升时，第2抵接部(132)与第1抵接部(34)相接使上支承体(31)上升。当第2抵接部(132)下降时，上支承体(31)载置在下支承体(21)上，第2抵接部(132)与第1抵接部(34)分离，在该状态下下支承体(21)能够旋转。

公开(公告)号：CN110911267A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201910688477.6

申请日：2019-07-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  村元僚

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在基板处理装置中，在使形成有图案的第一主面朝向下方的状态下保持基板(9)，并且对朝向上方的第二主面用处理液进行处理。在与外部的搬运机构交接基板时，由升降部(22)的多个升降支撑面从下方支撑基板的外周缘。夹具部(23)的多个夹具抵接面与由升降部支撑的基板的外周端面抵接，从而保持基板。由此，能够抑制第一主面的外周缘附近的图案的损伤。在夹具部中，在使一部分的夹具抵接面从基板的外周端面分离的状态下，能够保持基板，在向第二主面供给处理液的期间，由夹具切换机构切换从外周端面分离的夹具抵接面。由此，能够抑制基板的外周缘的处理液的痕迹的产生。