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公开(公告)号：CN105431924B
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201580001474.0
申请日：2015-03-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , T·K·赵 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯
IPC: H01L21/02 , H01L21/203 , H01L21/205
Abstract: 本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室，以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。
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公开(公告)号：CN105408984B
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201580001473.6
申请日：2015-01-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , T·K·赵
IPC: H01L21/02
Abstract: 本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。
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公开(公告)号：CN110544611A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201910455516.8
申请日：2019-05-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯
Abstract: 提供了用于处理基板的工艺配件、处理腔室和方法。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第二环部件的下表面包含上部对准耦合件，且所述可调整调节环的上表面包含下部对准耦合件。所述可调整调节环的所述下部对准耦合件被配置成与所述第二环部件的所述上部对准耦合件相配合，以形成界面。所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接。所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。
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公开(公告)号：CN109545642A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811106975.7
申请日：2018-09-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , S·E·巴巴扬 , S·D·普劳蒂 , A·施密特
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开内容的各个方面总体上涉及用于在处理腔室中进行边缘环替换的设备和方法。在一个方面中，公开一种用于支撑边缘环的载体。在其他方面，公开了用于支撑载体的机械叶片。在另一方面中，公开一种用于在脱气腔室中支撑载体的支撑结构。在另一方面中，公开一种在载体上传送边缘环的方法。
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公开(公告)号：CN108369922A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680067775.8
申请日：2016-12-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68735 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H01J37/32715 , H01J2237/334 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , H01L21/6831 , H01L21/68742
Abstract: 在本文中描述了包括可调整高度的边缘环的装置及用于使用该装置的方法。在一个示例中，基板支撑组件包括可调整高度的边缘环，且基板支撑组件定位在处理腔室内。基板支撑组件包括静电夹盘、定位在该静电夹盘的一部分上的边缘环以及用以透过一或更多个推动销调整边缘环的高度的一或更多个致动器。可调整高度的边缘环可用以补偿边缘环随时间的腐蚀。此外，可在不将处理腔室排气及不开启处理腔室的情况下透过狭缝阀开口从处理腔室移除可调整高度的边缘环。可通过该一或更多个致动器来倾斜可调整高度的边缘环，以改良基板边缘处的方位均匀性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN210123715U
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201920784482.2
申请日：2019-05-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯
Abstract: 提供了用于基板处理腔室的工艺配件及处理腔室。所述工艺配件包括边缘环、滑环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述滑环定位在所述边缘环的下方。所述可调整调节环定位在所述滑环的下方。所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接，并且被配置为致动所述可调整调节环从而使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。在一个或多个示例中，滑环包括基质和涂层，所述基质包含导电材料，并且所述涂层包含电绝缘材料。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209571382U
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201821554985.2
申请日：2018-09-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , S·E·巴巴扬 , S·D·普劳蒂 , A·施密特
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开内容的各个方面总体上涉及用于支撑边缘环的载体和机械叶片。在一个方面中，公开一种用于支撑边缘环的载体，载体包括板，第一多个插口，第二多个插口，第一弓形支撑结构，第二弓形支撑结构。在其他方面，公开了用于支撑载体的机械叶片，包括基部，两个指状物，基部载体接合特征，指状物载体接合特征。在另一方面中，公开一种用于在脱气腔室中支撑载体的支撑结构。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209298062U
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201820319046.3
申请日：2018-03-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·阮 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , X·Y·常
IPC: H01J37/32
Abstract: 本实用新型涉及用于处理基板的设备。提供了用于在等离子体腔室的串接处理区域中处理基板的方法和设备。在一个示例中，设备被体现为等离子体腔室，等离子体腔室包括具有第一腔室侧部和第二腔室侧部的腔室主体，第一腔室侧部具有第一处理区域，第二腔室侧部具有第二处理区域。腔室主体具有前壁和底壁。第一腔室侧部端口、第二腔室侧部端口和真空端口穿过底壁设置。真空端口是处理区域中的每一者的排气路径的至少一部分。真空壳体从前壁延伸，并且限定真空端口的第二部分。基板支撑件设置在处理区域中的每一者中，并且杆耦接到每个基板支撑件。每个杆延伸穿过腔室侧部端口。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN210123716U
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201920784671.X
申请日：2019-05-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯
Abstract: 提供了用于基板处理腔室的工艺配件和处理腔室。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第二环部件的下表面包含上部对准耦合件，且所述可调整调节环的上表面包含下部对准耦合件。所述可调整调节环的所述下部对准耦合件被配置成与所述第二环部件的所述上部对准耦合件相配合，以形成界面。所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接。所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN210120110U
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201920786258.7
申请日：2019-05-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯
Abstract: 提供了用于处理基板的工艺配件和处理腔室。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第二环部件具有的内厚度小于外厚度，并且所述第二环部件的上表面的至少一部分朝向所述第一环部件向内成角度。所述可调整调节环具有上表面，所述上表面与所述第二环部件的所述下表面接触。致动机构，所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接，且所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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