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公开(公告)号：CN110690098A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201911120497.X
申请日：2015-01-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , T·K·赵
IPC: H01J37/32
Abstract: 本文描述基板支撑组件以及用于处理基板的设备。本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。
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公开(公告)号：CN105431924A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201580001474.0
申请日：2015-03-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , T·K·赵 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯
IPC: H01L21/02 , H01L21/203 , H01L21/205
Abstract: 本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室，以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。
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公开(公告)号：CN105408984A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201580001473.6
申请日：2015-01-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , T·K·赵
IPC: H01L21/02
Abstract: 本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112366128A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011249512.3
申请日：2015-03-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , T·K·赵 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯
Abstract: 本申请公开了一种用于在处理腔室中提供对称的流动路径的流动模块。本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室，以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。
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公开(公告)号：CN105431924B
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201580001474.0
申请日：2015-03-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , T·K·赵 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯
IPC: H01L21/02 , H01L21/203 , H01L21/205
Abstract: 本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室，以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。
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公开(公告)号：CN105408984B
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201580001473.6
申请日：2015-01-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , T·K·赵
IPC: H01L21/02
Abstract: 本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。
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公开(公告)号：CN102341901B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201080010832.1
申请日：2010-01-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/08
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/68707
Abstract: 提供了用于在电子元件制造中移动基板的系统、方法及设备。在一些方面中，提供了具有基座部分及至少三个垫的末端执行器。每个所述垫的具有一个接触表面，且至少一个接触表面具有曲面形状。由末端执行器所支撑的基板可以相对高的横向惯性力移动，而不会相对于垫产生大幅度滑动。本发明还提供了附加的方面。
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公开(公告)号：CN102341901A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201080010832.1
申请日：2010-01-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/08
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/68707
Abstract: 提供了用于在电子元件制造中移动基板的系统、方法及设备。在一些方面中，提供了具有基座部分及至少三个垫的末端执行器。每个所述垫的具有一个接触表面，且至少一个接触表面具有曲面形状。由末端执行器所支撑的基板可以相对高的横向惯性力移动，而不会相对于垫产生大幅度滑动。本发明还提供了附加的方面。
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