具有磨料在其中的打印的化学机械抛光垫

    公开(公告)号:CN105706217B

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201480060461.6

    申请日:2014-10-22

    Abstract: 一种制造抛光垫的抛光层的方法包括以下步骤:确定将嵌入在所述抛光层的聚合物母体内的颗粒的期望的分布。利用3D打印机相继地沉积所述聚合物母体的多个层,所述聚合物母体的所述多个层中的每一个层通过从喷嘴喷出聚合物母体前体来沉积。根据所述期望的分布、利用所述3D打印机来相继地沉积所述颗粒的多个层。使聚合物母体前体凝固成具有以所述期望的分布嵌入的颗粒的聚合物母体。

    具有磨料在其中的打印的化学机械抛光垫

    公开(公告)号:CN105706217A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201480060461.6

    申请日:2014-10-22

    Abstract: 一种制造抛光垫的抛光层的方法包括以下步骤:确定将嵌入在所述抛光层的聚合物母体内的颗粒的期望的分布。利用3D打印机相继地沉积所述聚合物母体的多个层,所述聚合物母体的所述多个层中的每一个层通过从喷嘴喷出聚合物母体前体来沉积。根据所述期望的分布、利用所述3D打印机来相继地沉积所述颗粒的多个层。使聚合物母体前体凝固成具有以所述期望的分布嵌入的颗粒的聚合物母体。

    多腔室基板处理系统
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104081514A

    公开(公告)日:2014-10-01

    申请号:CN201380007166.X

    申请日:2013-01-31

    Abstract: 在此提供一种用于处理多个基板的基板处理系统,且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统,该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件,且能够连续地旋转该等基板支撑组件,每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上,且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理,该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站,每一双基板处理站包括两个基板支撑组件,以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。

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