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公开(公告)号：CN108962809B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN201810515992.X
申请日：2018-05-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置以及基板保持部的制造方法，能够高效地进行伴随紫外线处理的基板处理。所述基板处理装置具有：第一保持部，其保持被处理基板(W)；第二保持部，其与第一保持部相向配置，并对支承基板(S)进行静电吸附来保持支承基板(S)；以及紫外线照射部，其对设置在被第一保持部保持的被处理基板(W)与被第二保持部保持的支持基板(S)之间的粘接剂(G)照射紫外线。支承基板(S)和第二保持部分别由透过紫外线的材料构成。在第二保持部的内部设置有用于对支承基板(S)进行静电吸附的电极。在第二保持部的内部中的比电极靠支承基板(S)侧的位置形成有用于使紫外线的透过方向扩散的扩散层。
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公开(公告)号：CN110718495A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910628978.5
申请日：2019-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种接合装置和接合方法，能够在将基板彼此接合的接合装置中抑制基板间的位置偏离。基于本公开的接合装置具备第一保持部、第二保持部、摄像单元以及移动机构。第一保持部保持第一基板。第二保持部与第一保持部相向地配置，用于保持与第一基板接合的第二基板。摄像单元包括：第一摄像部，其拍摄在第一基板的与第二基板相向的面形成的第一对准标记；以及第二摄像部，其拍摄在第二基板的与第一基板相向的面形成的第二对准标记。移动机构使摄像单元在第一保持部与第二保持部之间的平面区域内沿第一方向以及与第一方向交叉的第二方向移动。
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公开(公告)号：CN108962809A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810515992.X
申请日：2018-05-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置以及基板保持部的制造方法，能够高效地进行伴随紫外线处理的基板处理。所述基板处理装置具有：第一保持部，其保持被处理基板(W)；第二保持部，其与第一保持部相向配置，并对支承基板(S)进行静电吸附来保持支承基板(S)；以及紫外线照射部，其对设置在被第一保持部保持的被处理基板(W)与被第二保持部保持的支持基板(S)之间的粘接剂(G)照射紫外线。支承基板(S)和第二保持部分别由透过紫外线的材料构成。在第二保持部的内部设置有用于对支承基板(S)进行静电吸附的电极。在第二保持部的内部中的比电极靠支承基板(S)侧的位置形成有用于使紫外线的透过方向扩散的扩散层。
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公开(公告)号：CN102671835B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201210071652.5
申请日：2012-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。
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公开(公告)号：CN102671835A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210071652.5
申请日：2012-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102192915A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110061107.3
申请日：2011-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置，在浮动方式的无旋转涂布法中高精度地可靠检测有可能使基板上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的有害背面异物。该抗蚀剂涂布装置具备背面异物检测装置，该背面异物检测装置能够在比狭缝喷嘴更靠基板输送方向即X方向上游侧可靠地检测有害即有可能使基板G上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的背面异物Q。并且，响应于背面异物检测装置检测到这种有害背面异物Q时产生的警报信号WS，主控制部通过喷嘴升降机构使狭缝喷嘴立即上升移动，由此狭缝喷嘴能够躲避即避免摩擦或者碰撞基板G的凸起部分GQ，从而防止狭缝喷嘴受损伤。
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公开(公告)号：CN102157424A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110025022.X
申请日：2011-01-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/677 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供基板输送装置及基板输送方法，在以张的形式1张1张地水平输送被处理基板的基板处理装置中缩短了从基板搬入到输送开始的生产节拍时间并提高了生产率。该基板输送装置具有：悬浮用载物台，其使被处理基板悬浮；一对导轨，其平行配置在悬浮用载物台的左右侧方；多个基板载持件，其能分别沿着一对导轨移动，能从下方吸附保持基板的边缘部；对准部件，其相对于被搬入到悬浮用载物台的基板搬入位置的基板从待机位置到规定位置自由进退，与基板接触而将该基板配置在规定位置；基板支承部件，其在悬浮用载物台的基板搬入位置处从该基板的下方支承被对准部件配置在规定位置的基板；控制部，其控制基板载持件、对准部件及基板支承部件的动作。
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公开(公告)号：CN102005402A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010268514.7
申请日：2010-08-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置以及基板输送方法，不用停止基板的输送而将其从浮起台运出，抑制产生对基板的被处理面的转印痕，能够提高生产能力。该基板输送装置具有将基板(G)以浮起的状态输送的浮起输送部(2A)以及配置在所述浮起输送部的后段，从所述浮起输送部取得所述基板，由输送滚体输送的滚动输送部(2B)。所述浮起输送部具有：使所述基板浮起的浮起台(3)；与所述浮起台的左右侧方平行配置并延伸到所述滚动输送部的左右侧方的导轨(5)；以及、沿所述导轨分别能够移动地设置，能够从下方吸附保持所述基板的缘部的基板载体(6)，所述基板由所述基板载体吸附保持，沿所述导轨输送，所述基板的前端到达所述滚动输送部的规定位置时，解除基板载体的吸附。
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公开(公告)号：CN101431008B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200810174786.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/06 , G03F7/16 , B05C13/02 , B05C5/00 , B05D1/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。
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公开(公告)号：CN100587479C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200610159929.4
申请日：2006-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能以良好的灵敏度检测平面状基板的异常状态的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。使以水平状态被载置在载物台上的被处理基板与具有沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴相对移动，将从处理液供给喷嘴呈带状喷出的处理液涂布在基板的表面。在相对于上述基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载有由投光部和受光部构成的光透过型传感器单元。上述传感器单元构成为：具有检测受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元、和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
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