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公开(公告)号：CN1662854A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN03813936.7
申请日：2003-06-10
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/38 , G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 一种防止显影缺陷的组合物，其包含(1)C4－15全氟烷基羧酸、C4－10全氟烷基磺酸或全氟己二酸与铵、四烷基铵或C1－4烷醇胺的盐或(2)无机酸与全氟烷基季铵盐的盐，其中酸/碱当量比为1/1到1/3。该组合物被施覆到形成于直径为8英寸或更大基底上的正型化学增强光致抗蚀剂膜上。在涂覆防止显影缺陷组合物之前或之后，烘干化学增强光致抗蚀剂膜。将该光致抗蚀剂膜进行曝光和后曝光烘干，然后显影。因此，通过显影光致抗蚀剂膜厚的减少比未施覆防止显影缺陷组合物的情况增大了100－600埃。在直径为8英寸或更大基底上的显影缺陷减少了，形成了无T顶等的具有令人满意的截面形状的抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN1215382C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN00811514.1
申请日：2000-08-04
Applicant: AZ电子材料日本株式会社
IPC: G03F7/09 , C09D179/02
CPC classification number: G03F7/091
Abstract: 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，包括以下物质的混合物：a)由以下结构(I)定义的聚合物，其中R1和R2独立地为氢、或C1-C6烷基，R3是甲基、乙基、丙基或丁基，R4-R7独立地为氢、或C1-C5烷基，n＝10-5000；(b)含氟、微水溶性(在水中，0.1-10%重量)有机C3-C13脂族羧酸；(c)非金属氢氧化物；和(d)溶剂。本发明还涉及一种生产该抗反射涂料组合物的方法和一种与光刻胶组合物结合使用该抗反射涂料组合物来生产微电子设备的方法。
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公开(公告)号：CN1646628A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03808173.3
申请日：2003-04-08
Applicant: AZ电子材料日本株式会社
CPC classification number: G03F7/0236 , C08K5/08 , C08L61/06 , C08L2666/16
Abstract: 本发明公开了一种碱溶性成膜线性酚醛清漆树脂混合物，其包含至少两种线性酚醛清漆树脂，每种线性酚醛清漆树脂包含由至少一种酚类化合物与至少一种醛源生成的加成缩合反应产物，其中用于第一线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含90－100摩尔％间甲酚，和用于第二线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含低于50摩尔％的间甲酚。还公开了一种光敏组合物，其包含以下物质的掺混物：a)上述线性酚醛清漆树脂混合物；b)至少一种邻醌光活性化合物；和c)至少一种光刻胶溶剂。还公开了一种通过在基材上形成图像而生产微电子器件的方法，其包括：a)提供上述光敏组合物；b)然后用步骤a)得到的光刻胶组合物涂覆合适的基材;c)然后，热处理涂覆基材直至基本上所有的溶剂被去除；成像式曝光涂覆基材；并随后用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
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公开(公告)号：CN1643066A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03806271.2
申请日：2003-04-04
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
Inventor： 田代裕治
IPC: C08L83/14 , C08G77/54 , G02F1/1333 , C08J5/18 , H01J11/02 , G02F1/1337
CPC classification number: H01J11/12 , C08G77/54 , C08K5/5415 , C08K5/5465 , C08L83/14 , C09D183/14 , C09D183/16 , G02F1/133345 , H01J11/36 , H01J11/38 , H01J11/48 , H01J2211/366 , Y10T428/31663
Abstract: 一种组合物，包含交联剂和数均分子量为500－1,000,000的含硅共聚物，该含硅共聚物含有由式(I)和(II)表示的必要单元，并可以包含由式(III)－(VII)表示的任选单元，在-20－100℃反应1－3小时。所得组合物涂覆于基底上，并在150℃或更高(例如250℃)的温度下热固化。因此得到了各种材料性能均优异的含硅聚合物的固化制品。(通式中，A是NH或氧，其比例Si－O/(Si－N+Si－O)为0.01－0.99)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101144979B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200710146009.3
申请日：2007-09-03
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物。提供不降低固体成分含量、能够进行狭缝涂敷的高速涂敷的光致抗蚀剂用溶剂，以及能够通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物。该溶剂是可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中使用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，10重量％以上为20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。该光致抗蚀剂组合物含有上述溶剂、碱可溶性树脂以及光敏性物质。
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公开(公告)号：CN101384969B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200780005364.7
申请日：2007-02-13
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC classification number: G03F7/425
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂基底处理液和使用该处理液形成图形的方法，能够同时容易地解决诸如基底表面上外来杂质、图形坍塌和图形粗糙的问题。处理液包含水和具有含11～30个碳原子的烃基的伯胺或氨的烯化氧加合物。本发明的图形形成方法包括用该处理液处理显影图形的步骤。
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公开(公告)号：CN101794073A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN201010003193.8
申请日：2010-01-14
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
Abstract: 提供一种感光性树脂组合物，其在进行狭缝涂敷后，在不采用减压干燥或真空干燥的方法而进行自然干燥的情况下，干燥时间短、没有涂敷不匀、涂敷膜厚均一，曝光、显影后的抗蚀图案的形状良好。作为感光性树脂组合物，采用含有碱可溶性酚醛树脂、含醌二叠氮基的感光剂、以及丙二醇单甲醚乙酸酯(A)与沸点为145℃以下且乙酸正丁酯蒸发速度为50以上的溶剂(B)的混合溶剂的感光性树脂组合物，将其通过狭缝涂敷法涂敷于基板上，不采用减压干燥或真空干燥的方法而进行干燥，然后进行曝光、显影，形成抗蚀图案。
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公开(公告)号：CN1875323B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200480031943.5
申请日：2004-09-14
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/022
Abstract: 在诸如形成磁头的磁极或形成突块之类要求形成厚抗蚀图案膜的光敏树脂组合物中，提供一种适合用于形成厚膜和超厚膜的化学放大光敏树脂组合物，它具有高灵敏度、高膜残余性能、良好涂敷性能、高分辨率和良好图案形状，并且它能给出耐热性优良的图案。一种化学放大光敏树脂组合物，含有：碱溶性酚醛清漆树脂(A)、自身不溶或微溶于碱但通过酸的作用变得能溶于碱的树脂或化合物(B)、酸产生剂(C)和含醌二叠氮基的光敏剂(D)，如果需要还含有碱溶性丙烯酸树脂(E)和用于改善膜质量的交联剂(F)。
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公开(公告)号：CN1802608B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200480015867.9
申请日：2004-06-04
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
CPC classification number: G03F7/0226 , G03F7/085
Abstract: 一种粘合促进剂，包含下述通式(1)-(5)表示的磺酰基取代的氮化合物或下述通式(6)-(8)表示的噻重氮化合物，一种包含碱溶性树脂和光敏剂的光敏树脂组合物，包含该粘合促进剂。
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