Invention Publication
CN1646628A 线性酚醛清漆树脂混合物和包含它的光敏组合物
失效 - 权利终止
- Patent Title: 线性酚醛清漆树脂混合物和包含它的光敏组合物
- Patent Title (English): Novolak resin mixtures and photosensitive compositions comprising the same
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Application No.: CN03808173.3Application Date: 2003-04-08
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Publication No.: CN1646628APublication Date: 2005-07-27
- Inventor: J·N·埃尔贝克 , A·D·迪奥斯
- Applicant: AZ电子材料日本株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: AZ电子材料日本株式会社
- Current Assignee: AZ电子材料日本株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 刘明海
- Priority: 10/120,893 2002.04.11 US
- International Application: PCT/EP2003/003609 2003.04.08
- International Announcement: WO2003/085045 EN 2003.10.16
- Date entered country: 2004-10-11
- Main IPC: C08L61/06
- IPC: C08L61/06 ; G03F7/023 ; G03C1/52

Abstract:
本发明公开了一种碱溶性成膜线性酚醛清漆树脂混合物,其包含至少两种线性酚醛清漆树脂,每种线性酚醛清漆树脂包含由至少一种酚类化合物与至少一种醛源生成的加成缩合反应产物,其中用于第一线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含90-100摩尔%间甲酚,和用于第二线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含低于50摩尔%的间甲酚。还公开了一种光敏组合物,其包含以下物质的掺混物:a)上述线性酚醛清漆树脂混合物;b)至少一种邻醌光活性化合物;和c)至少一种光刻胶溶剂。还公开了一种通过在基材上形成图像而生产微电子器件的方法,其包括:a)提供上述光敏组合物;b)然后用步骤a)得到的光刻胶组合物涂覆合适的基材;c)然后,热处理涂覆基材直至基本上所有的溶剂被去除;成像式曝光涂覆基材;并随后用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
Public/Granted literature
- CN1286905C 线性酚醛清漆树脂混合物和包含它的光敏组合物 Public/Granted day:2006-11-29
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