公开(公告)号：CN101408729A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200810210008.5

申请日：2003-01-03

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： J·E·奥伯兰德 ,  R·R·达默尔 ,  李丁术季 ,  M·O·尼瑟尔 ,  M·A·图卡伊

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/09 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含光酸产生剂和聚合物，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的吸收性、可光成像并可含水碱显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含聚合物、染料和光酸产生剂，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的用正性光刻胶和新型可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物形成正像的方法，其中抗反射涂料包含聚合物，该聚合物包含酸不稳定基团。本发明进一步涉及这样的组合物。本发明也涉及用于将可光成像的抗反射涂料组合物成像的方法。

公开(公告)号：CN101034259A

公开(公告)日：2007-09-12

申请号：CN200710101248.7

申请日：2003-01-03

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： M·O·尼瑟尔 ,  J·E·奥伯兰德 ,  M·A·图卡伊 ,  R·萨卡穆里 ,  李丁术季

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/151

Abstract: 本发明公开一种在衬底上形成图像的方法，其包括以下步骤：(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物；(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上；(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光；和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像；其中，将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光；使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影；其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物，具有的固含量最高至约8％固体分，并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n]，其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长，且n为B.A.R.C.组合物的折射率。

公开(公告)号：CN101006394A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200580028062.2

申请日：2005-08-23

Applicant: 株式会社瑞萨科技 ,  AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  高桥清久 ,  高野佑辅

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/3088

Abstract: 本发明提供一种微细图案形成材料，该微细图案形成材料的pH值超过7，含有水溶性树脂例如聚乙烯醇衍生物，水溶性交联剂例如三聚氰胺衍生物、尿素衍生物，胺化合物，非离子性表面活性剂及水或水与水溶性有机溶剂的混合溶液。将此微细图案形成材料涂布于光阻图案(3)来形成披覆层(4)，加热该披覆层(4)后显影形成交联披覆层(5)，当图案形成材料使用仲胺化合物及/或叔胺化合物时，与不添加胺的情况相比，交联披覆层的膜厚增大，相反地，当使用季胺化合物为胺化合物时，与不添加胺化合物相比，交联披覆层的膜厚减少。

公开(公告)号：CN1226670C

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN00801314.4

申请日：2000-06-16

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 河户俊二 ,  高桥修一

IPC: G03F7/022

CPC classification number: G03F7/0226

Abstract: 本发明涉及一个敏射线树脂组合物，该组合物包含有一个碱溶性树脂，一个敏射线物质和一个具有酚式羟基，并如下列公式1所示的其参数(P)是30或以上的化合物，[公式1]：参数(P)＝[(13.0x添加物中的羟基数)/(添加物中的苯环数)]+[(14.0x添加物中的重氮偶合反应部位数)/(添加物中的苯环数)]。式中的重氮偶合反应部位数是上述化合物中的苯环中的相对于羟基位置居邻位和对位的未取代的碳原子数量；本发明还涉及一个改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法，其中使用上述敏射线树脂组合物。本发明的敏射线树脂组合物适用于形成优良的抗蚀图案，其中具有优良的抗干蚀刻性能和高敏感(光)性能。

公开(公告)号：CN1215382C

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN00811514.1

申请日：2000-08-04

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： S·S·迪克斯特 ,  M·D·拉曼 ,  D·N·坎纳 ,  J·E·奥博兰德 ,  D·L·杜哈姆

IPC: G03F7/09 ,  C09D179/02

CPC classification number: G03F7/091

Abstract: 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，包括以下物质的混合物：a)由以下结构(I)定义的聚合物，其中R1和R2独立地为氢、或C1-C6烷基，R3是甲基、乙基、丙基或丁基，R4-R7独立地为氢、或C1-C5烷基，n＝10-5000；(b)含氟、微水溶性(在水中，0.1-10%重量)有机C3-C13脂族羧酸；(c)非金属氢氧化物；和(d)溶剂。本发明还涉及一种生产该抗反射涂料组合物的方法和一种与光刻胶组合物结合使用该抗反射涂料组合物来生产微电子设备的方法。

公开(公告)号：CN1646628A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN03808173.3

申请日：2003-04-08

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： J·N·埃尔贝克 ,  A·D·迪奥斯

IPC: C08L61/06 ,  G03F7/023 ,  G03C1/52

CPC classification number: G03F7/0236 ,  C08K5/08 ,  C08L61/06 ,  C08L2666/16

Abstract: 本发明公开了一种碱溶性成膜线性酚醛清漆树脂混合物，其包含至少两种线性酚醛清漆树脂，每种线性酚醛清漆树脂包含由至少一种酚类化合物与至少一种醛源生成的加成缩合反应产物，其中用于第一线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含90－100摩尔％间甲酚，和用于第二线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含低于50摩尔％的间甲酚。还公开了一种光敏组合物，其包含以下物质的掺混物：a)上述线性酚醛清漆树脂混合物；b)至少一种邻醌光活性化合物；和c)至少一种光刻胶溶剂。还公开了一种通过在基材上形成图像而生产微电子器件的方法，其包括：a)提供上述光敏组合物；b)然后用步骤a)得到的光刻胶组合物涂覆合适的基材;c)然后，热处理涂覆基材直至基本上所有的溶剂被去除；成像式曝光涂覆基材；并随后用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。

公开(公告)号：CN1171123C

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：CN99803750.8

申请日：1999-01-20

Applicant: 克拉里安特国际有限公司

Inventor： J·E·奥伯兰德

IPC: G03F7/022

CPC classification number: G03F7/022 ,  G03F7/023

Abstract: 本发明提供用固体碱性催化剂，优选为阴离子交换树脂以制造高纯度光活性酯化合物的方法。本发明还提供制造包括这种光活性化合物、成膜树脂和溶剂组合物并使之成象的方法。

公开(公告)号：CN1160598C

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：CN98811345.7

申请日：1998-11-10

Applicant: 克拉里安特国际有限公司

Inventor： S·F·瓦奈特 ,  K·H·詹森 ,  卢炳宏 ,  D·S·麦肯基

IPC: G03F7/023 ,  C08G61/00

CPC classification number: G03F7/0233 ,  G03F7/0236

Abstract: 一种包括成膜树脂、光活性组合物以及溶剂的光刻胶组合物。成膜树脂是由酚衍生物和取代的二苯醚缩合得到的。此光刻胶还可以含碱溶性的成膜树脂，如酚醛清漆树脂。本发明的光刻胶改进了光刻胶图象的拍摄速度、分辨率和热稳定性。

公开(公告)号：CN1145651C

公开(公告)日：2004-04-14

申请号：CN99806602.8

申请日：1999-05-18

Applicant: 克拉里安特国际有限公司

Inventor： I·麦克库罗克 ,  A·J·伊斯特 ,  康明 ,  R·克西安 ,  H-N·尹

IPC: C08F246/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: C08F246/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 一种水溶性聚合物，当该聚合物与光致酸生成剂(PAG)一起使用时，形成负性水溶性光刻胶。该聚合物包括通过连接基团与缩醛保护的β-酮酸基团偶联的主链，如聚乙烯基醚。通过加入大量的市购光致酸生成剂，聚合物制剂形成水溶性负性光刻胶。照射曝光会造成光致酸催化缩醛基团脱保护，生成β-酮酸，该β-酮酸在加热时会发生脱羧，得到水不溶性光致产品并放出二氧化碳副产品。该光化学诱导反应导致聚合物溶解度参数明显变化，且产品不再溶于水。由于溶解度改变不需要交联，因此显影期间暴露于含水基质时不会出现刻蚀图象溶胀，因此不会降低分辨率。这使所用的光刻胶在i-线和深UV波长下具有高分辨率。

公开(公告)号：CN1478220A

公开(公告)日：2004-02-25

申请号：CN02803208.X

申请日：2002-09-24

Applicant: 克拉瑞特国际有限公司

Inventor： 浜田贵広 ,  李东官 ,  宫崎真治

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0045

Abstract: 在具有高敏感性和高分辨率的正型化学增强的辐射敏感性树脂组合物中(该组合物包含：用酸不稳定的保护基团保护的碱不溶性或碱微溶性树脂和辐射时经光照产生酸的化合物)，在电路图案中孤立和密集图案的分辨率线宽的差值(其中孤立和密集图案混合)可以通过使用下述树脂组合物而减少，该树脂组合物包括：具有可使保护基断裂的25Kcal/mole或更高的活化能值(ΔE)的树脂作为酸不稳定的保护基团保护的碱不溶性或碱微溶性树脂，以及作为产酸剂的辐射时经光照产生羧酸的化合物及辐射时经光照产生磺酸的化合物的混合物。