公开(公告)号：CN101006394A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200580028062.2

申请日：2005-08-23

Applicant: 株式会社瑞萨科技 ,  AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  高桥清久 ,  高野佑辅

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/3088

Abstract: 本发明提供一种微细图案形成材料，该微细图案形成材料的pH值超过7，含有水溶性树脂例如聚乙烯醇衍生物，水溶性交联剂例如三聚氰胺衍生物、尿素衍生物，胺化合物，非离子性表面活性剂及水或水与水溶性有机溶剂的混合溶液。将此微细图案形成材料涂布于光阻图案(3)来形成披覆层(4)，加热该披覆层(4)后显影形成交联披覆层(5)，当图案形成材料使用仲胺化合物及/或叔胺化合物时，与不添加胺的情况相比，交联披覆层的膜厚增大，相反地，当使用季胺化合物为胺化合物时，与不添加胺化合物相比，交联披覆层的膜厚减少。

公开(公告)号：CN100476598C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN03815458.7

申请日：2003-06-26

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 秋山靖 ,  高野佑辅

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0046 ,  H01L21/0276 ,  Y10S430/111

Abstract: 在化学增强光致抗蚀剂膜上施覆抗反射涂层组合物，形成了抗反射涂层膜，该组合物包含碱溶性含氟聚合物、酸、胺和适于溶解这些组分的溶剂，pH为7或更小。所形成的抗反射涂层膜可以用于防止在光致抗蚀剂膜内的多次反射，提高了曝光后显影液显影时的光致抗蚀剂膜的厚度减少量，并形成了具有矩形横截面图形且无T顶或圆顶的图形。

公开(公告)号：CN100461005C

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：CN03813936.7

申请日：2003-06-10

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 秋山靖 ,  高野佑辅 ,  高桥清久 ,  洪圣恩 ,  冈安哲雄

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/168

Abstract: 一种防止显影缺陷的组合物，其包含(1)C4-15全氟烷基羧酸、C4-10全氟烷基磺酸或全氟己二酸与铵、四烷基铵或C1-4烷醇胺的盐或(2)无机酸与全氟烷基季铵盐的盐，其中酸/碱当量比为1/1到1/3。该组合物被施覆到形成于直径为8英寸或更大基底上的正型化学增强光致抗蚀剂膜上。在涂覆防止显影缺陷组合物之前或之后，烘干化学增强光致抗蚀剂膜。将该光致抗蚀剂膜进行曝光和后曝光烘干，然后显影。因此，通过显影光致抗蚀剂膜厚的减少比未施覆防止显影缺陷组合物的情况增大了100-600埃。在直径为8英寸或更大基底上的显影缺陷减少了，形成了无T顶等的具有令人满意的截面形状的抗蚀图形。

公开(公告)号：CN1666154A

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：CN03815458.7

申请日：2003-06-26

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 秋山靖 ,  高野佑辅

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0046 ,  H01L21/0276 ,  Y10S430/111

Abstract: 在化学增强光致抗蚀剂膜上施覆抗反射涂层组合物，形成了抗反射涂层膜，该组合物包含碱溶性含氟聚合物、酸、胺和适于溶解这些组分的溶剂，pH为7或更小。所形成的抗反射涂层膜可以用于防止在光致抗蚀剂膜内的多次反射，提高了曝光后显影液显影时的光致抗蚀剂膜的厚度减少量，并形成了具有矩形横截面图形且无T顶或圆顶的图形。

公开(公告)号：CN1662854A

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN03813936.7

申请日：2003-06-10

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 秋山靖 ,  高野佑辅 ,  高桥清久 ,  洪圣恩 ,  冈安哲雄

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/168

Abstract: 一种防止显影缺陷的组合物，其包含(1)C4－15全氟烷基羧酸、C4－10全氟烷基磺酸或全氟己二酸与铵、四烷基铵或C1－4烷醇胺的盐或(2)无机酸与全氟烷基季铵盐的盐，其中酸/碱当量比为1/1到1/3。该组合物被施覆到形成于直径为8英寸或更大基底上的正型化学增强光致抗蚀剂膜上。在涂覆防止显影缺陷组合物之前或之后，烘干化学增强光致抗蚀剂膜。将该光致抗蚀剂膜进行曝光和后曝光烘干，然后显影。因此，通过显影光致抗蚀剂膜厚的减少比未施覆防止显影缺陷组合物的情况增大了100－600埃。在直径为8英寸或更大基底上的显影缺陷减少了，形成了无T顶等的具有令人满意的截面形状的抗蚀图形。