公开(公告)号：CN101523295A

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200780037797.0

申请日：2007-10-12

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 能谷刚 ,  岛崎龙太 ,  小林政一

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 本发明提供了一种用于改善显影后图案表面上瑕疵的抗蚀基板处理溶液，还提供了一种使用该处理溶液的抗蚀基板处理方法。该抗蚀基板处理溶液包含溶剂和含氮水溶性聚合物或含氧水溶性聚合物如聚胺、多羟基化合物或聚醚。该处理方法中，用该抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图，然后用纯水洗涤。

公开(公告)号：CN101384969A

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200780005364.7

申请日：2007-02-13

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 能谷刚 ,  小林政一 ,  岛崎龙太

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂基底处理液和使用该处理液形成图形的方法，能够同时容易地解决诸如基底表面上外来杂质、图形坍塌和图形粗糙的问题。处理液包含水和具有含11～30个碳原子的烃基的伯胺或氨的烯化氧加合物。本发明的图形形成方法包括用该处理液处理显影图形的步骤。

公开(公告)号：CN101523296B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200780038343.5

申请日：2007-10-12

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 能谷刚 ,  岛崎龙太 ,  小林政一

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/11 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明提供了一种用于不明显增加生产成本或削弱生产效率而使图案小型化的方法。本发明还提供了一种精细的抗蚀图和用于形成该精细图案的抗蚀基板处理溶液。该图案形成方法包括处理步骤。在该处理步骤中，用含有含氨基，优选含叔聚胺的水溶性聚合物的抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图，以便减小由显影形成的抗蚀图的有效尺寸。本发明还涉及通过该方法形成的抗蚀图，此外还涉及用于此方法的处理溶液。

公开(公告)号：CN101384969B

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200780005364.7

申请日：2007-02-13

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 能谷刚 ,  小林政一 ,  岛崎龙太

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂基底处理液和使用该处理液形成图形的方法，能够同时容易地解决诸如基底表面上外来杂质、图形坍塌和图形粗糙的问题。处理液包含水和具有含11～30个碳原子的烃基的伯胺或氨的烯化氧加合物。本发明的图形形成方法包括用该处理液处理显影图形的步骤。

公开(公告)号：CN101523296A

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200780038343.5

申请日：2007-10-12

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 能谷刚 ,  岛崎龙太 ,  小林政一

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/11 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明提供了一种用于不明显增加生产成本或削弱生产效率而使图案小型化的方法。本发明还提供了一种精细的抗蚀图和用于形成该精细图案的抗蚀基板处理溶液。该图案形成方法包括处理步骤。在该处理步骤中，用含有含氨基，优选含叔聚胺的水溶性聚合物的抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图，以便减小由显影形成的抗蚀图的有效尺寸。本发明还涉及通过该方法形成的抗蚀图，此外还涉及用于此方法的处理溶液。

公开(公告)号：CN101473271A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200780022977.1

申请日：2007-06-22

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 能谷刚 ,  小林政一 ,  岛崎龙太

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/40 ,  H01L21/0273 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明涉及一种微细化的抗蚀图案的形成方法，具体公开了一种使显影后的抗蚀图案微细化而不大大增加生产成本或降低生产效率的图案形成方法，该方法包括如下步骤：让显影后的抗蚀图案与优选包含非离子表面活性剂的处理液接触60秒或更长时间，从而降低通过显影形成的抗蚀图案的有效尺寸。本发明还提供了通过该方法而微细化的抗蚀图案。