Invention Grant
CN1215382C 用于光刻胶的抗反射涂料
失效 - 权利终止
- Patent Title: 用于光刻胶的抗反射涂料
- Patent Title (English): Antireflective coating material for photoresists
-
Application No.: CN00811514.1Application Date: 2000-08-04
-
Publication No.: CN1215382CPublication Date: 2005-08-17
- Inventor: S·S·迪克斯特 , M·D·拉曼 , D·N·坎纳 , J·E·奥博兰德 , D·L·杜哈姆
- Applicant: AZ电子材料日本株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: AZ电子材料日本株式会社
- Current Assignee: AZ电子材料日本株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 陈季壮
- Priority: 09/373,319 1999.08.12 US
- International Application: PCT/EP2000/007572 2000.08.04
- International Announcement: WO2001/013180 EN 2001.02.22
- Date entered country: 2002-02-08
- Main IPC: G03F7/09
- IPC: G03F7/09 ; C09D179/02

Abstract:
本发明涉及一种抗反射涂料组合物,包括以下物质的混合物:a)由以下结构(I)定义的聚合物,其中R1和R2独立地为氢、或C1-C6烷基,R3是甲基、乙基、丙基或丁基,R4-R7独立地为氢、或C1-C5烷基,n=10-5000;(b)含氟、微水溶性(在水中,0.1-10%重量)有机C3-C13脂族羧酸;(c)非金属氢氧化物;和(d)溶剂。本发明还涉及一种生产该抗反射涂料组合物的方法和一种与光刻胶组合物结合使用该抗反射涂料组合物来生产微电子设备的方法。
Public/Granted literature
- CN1382268A 用于光刻胶的抗反射涂料 Public/Granted day:2002-11-27
Information query
IPC分类: