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公开(公告)号:CN105321553A
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:CN201410276164.7
申请日:2014-06-19
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: G11C11/413
Abstract: 本发明提供一种抗单粒子效应的静态随机存储器单元,所述存储单元至少包括:第一交叉耦合型反相器,由第一上拉管和第二上拉管组成;第二交叉耦合型反相器,由第一下拉管和第二下拉管组成;传输管,由第一存取管、第二存取管、第三存取管及第四存取管组成。本发明的静态随机存储器单元可以有效延长存储单元翻转所需要的反馈时间,在恢复时间不变的情况下可以提高存储单元的抗单粒子翻转能力;本发明的抗单粒子静态随机存储器单元所采取的工艺与数字逻辑工艺完全兼容,具有寄生电容小、功耗低、天然的抗单粒子闩锁能力的同时,不会增大额外工艺成本。
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公开(公告)号:CN105068166A
公开(公告)日:2015-11-18
申请号:CN201510275299.6
申请日:2015-05-26
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 德国亥姆霍兹德累斯顿罗森多夫研究中心
IPC: G02B5/18
CPC classification number: B81C1/00031 , B81C2201/0198 , H01L21/2633 , H01L21/302
Abstract: 本发明的高线密度极紫外多层膜闪耀光栅的制备方法,包括步骤:首先,提供一衬底,采用低能离子束辐射所述衬底的表面,形成锯齿状纳米结构周期阵列;然后在所述锯齿状纳米结构周期阵列的表面生长周期性多层膜,形成极紫外多层膜闪耀光栅。本发明制备极紫外多层膜闪耀光栅只需要两步,大大简化了传统制备方法的复杂工艺。此外,采用本发明的制备方法,将大大增加闪耀光栅的栅线密度,从而大幅度地提高极紫外多层膜闪耀光栅的衍射效率和光谱分辨率。
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公开(公告)号:CN103204455B
公开(公告)日:2015-10-28
申请号:CN201210008150.8
申请日:2012-01-12
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明提供一种可控石墨烯阵列的制备方法,采用晶向相同的两硅衬底进行小角度键合形成方形网格状的螺旋位错,由于位错引起硅表面应力分布不均,利用应力选择性腐蚀,对位错线影响的垂向对应的区域进行刻蚀,形成正方形网格状的图形化硅岛,采用电子束外延形成具有偏析特性的金属纳米颗粒,最后采用化学气相沉积法与偏析方法制备出所述石墨烯阵列。采用本发明制备的石墨烯阵列具有很高的可控性和可靠性,石墨烯阵列的分布通过硅硅小角度键合进行控制,可达到较高的精度。本发明制备方法工艺简单,效果显著,且兼容于一般的半导体工艺,适用于工业生产。
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公开(公告)号:CN103558254B
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN201310573864.8
申请日:2013-11-15
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: G01N27/00 , G01N27/414 , H01L21/336 , H01L29/10 , H01L29/08 , H01L29/78
Abstract: 本发明提供一种基于垂直结构隧穿场效应晶体管的生物传感器及其制备方法,所述制备方法至少包括以下步骤:步骤一、制备垂直结构的隧穿场效应晶体管作为转换器,所述隧穿场效应晶体管中的沟道悬空,所述沟道与源极、漏极形成垂直结构;步骤二、采用表面修饰剂对所述沟道表面进行表面活化修饰。本发明提供的生物传感器由于作为转换器的隧穿场效应晶体管中的源极、沟道和漏极采用了垂直结构,且沟道为悬空结构,使器件的亚阈斜率更加陡峭,因此,器件对沟道表面电荷的变化感应也更加的灵敏,从而提高生物传感器的工作性能。
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公开(公告)号:CN103208425B
公开(公告)日:2015-08-26
申请号:CN201310095306.5
申请日:2013-03-22
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L21/336
CPC classification number: H01L21/28255 , H01L21/02115 , H01L21/02181 , H01L21/02252 , H01L21/02271 , H01L21/0228 , H01L21/02315 , H01L21/02321 , H01L21/0234 , H01L21/02381 , H01L21/26513 , H01L21/2855 , H01L21/324 , H01L22/14 , H01L29/16 , H01L29/1606 , H01L29/42364 , H01L29/513 , H01L29/517 , H01L29/66431 , H01L29/66477 , H01L29/6659 , H01L29/7781 , H01L29/7833
Abstract: 本发明提供一种石墨烯调制的高k金属栅Ge基MOS器件的制作方法,包括步骤:1)于Ge基衬底上引入石墨烯薄膜;2)对石墨烯薄膜进行氟化处理形成氟化石墨烯;3)采用臭氧等离子体活化氟化石墨烯表面,然后通过原子层沉积技术于氟化石墨烯表面形成高k栅介质;4)于高k栅介质表面形成金属电极。本发明利用石墨烯作为钝化层抑制Ge基衬底表面非稳定氧化物GeOx形成,同时阻挡栅介质与Ge基衬底间的互扩散,提高Ge与高k栅介质层之间的界面性质。氟化石墨烯能够在保持石墨烯优良特性的基础上使石墨烯变为质量较好的绝缘体,减少其对Ge 基器件电学性能的影响。采用臭氧等离子处理Ge基石墨烯,然后采用原子层沉积技术可以获得超薄的Hf基高k栅介质层。
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公开(公告)号:CN104795100A
公开(公告)日:2015-07-22
申请号:CN201510232374.0
申请日:2015-05-08
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: G11C11/413
Abstract: 本发明提出了一种半刷新机制的单端口静态随机存储器单元,至少包括:单稳态锁存器及连接于所述单稳态锁存器的传输门;所述单稳态锁存器包括上拉管及下拉管;所述传输门包括第一获取管及第二获取管。本发明相对传统静态随机存储器单端口单元而言,其单元晶体管数量减少1/3,从而可以提高单元存储密度;相对传统动态随机存储器单元而言,某电平可以稳定保持,故可以减少刷新次数;此外,本单元不要求晶体管之间尺寸匹配;这样可以有利于减少先进工艺下由于单元内部晶体管尺寸失配而造成电学性能下降问题;另外,其工艺与传统普通CMOS逻辑工艺相兼容,故可以降低成本。
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公开(公告)号:CN104730643A
公开(公告)日:2015-06-24
申请号:CN201510173591.7
申请日:2015-04-13
Applicant: 江苏尚飞光电科技有限公司 , 中科院南通光电工程中心 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: G02B6/27
CPC classification number: G02B6/278
Abstract: 本发明提供一种具有偏振不敏感特性的90°相移光混合器及其设计方法,其中,所述设计方法至少包括:将所述多模干涉耦合器中的多模区设计为矩形波导,确定所述多模区的尺寸,其方法如下:分析计算所述多模区各阶模的有效折射率,以得到横电波TE模式和横磁波TM模式的拍长差及其与所述多模区的宽度、厚度的对应关系图;预先选定所述多模区所需的厚度,在所述横电波TE模式和横磁波TM模式的拍长差为零的条件下,根据所述对应关系图确定所述多模区所需的宽度和长度,以使所述多模干涉耦合器工作时能够具有偏振不敏感特性。本发明的设计方法,通过最佳化的设计器件各个尺寸,实现偏振不敏感特性的90°相移光混合器。
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公开(公告)号:CN104681054A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201510107430.8
申请日:2015-03-11
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: G11C7/06
Abstract: 本发明提供一种应用于静态随机存储器电路的灵敏放大器,所述灵敏放大器至少包括:获取电路,用于感知输入信号电压差;连接于所述获取电路的隔离电路,用于隔离所述输入信号及差分输出信号,削弱所述输入信号及所述差分输出信号的耦合作用;连接于所述隔离电路的辅助电路,用于稳定所述差分输出信号的初始电压;连接于所述隔离电路的锁存电路,用于锁存所述隔离电路的输出信号,放大并输出所述差分输出信号;连接于所述锁存电路的偏置电路,用于为所述锁存电路提供偏置。本发明可以有效缩短灵敏放大器读取时间,从而提高存储器读速度。另外,基于0.13微米SOI CMOS工艺,其仿真结果显示:当灵敏放大器输出电压高电平为70%VDD时,所需时间为93pS。
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公开(公告)号:CN104570207A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201510028170.5
申请日:2015-01-20
Applicant: 江苏尚飞光电科技有限公司 , 中科院南通光电工程中心 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: G02B6/122
CPC classification number: G02B6/1225
Abstract: 本发明提供一种大角度准自准直光子晶体及其准直度定量方法,所述大角度准自准直光子晶体至少包括:矩形晶格光子晶体介质柱;位于该光子晶体外起抗反射层作用的单排抗反射介质柱;所述光子晶体介质柱及所述抗反射介质柱处在空气介质中,可通过刻蚀SOI衬底的顶层硅得到。本发明的优点包括:基于最小二乘法来定量光子晶体等频线的准直度,改变光子晶体晶格对称性可实现准自准直光束传播,同时通过优化单排光子晶体介质柱的结构参数,可使得大角度入射光束能高效耦合进入准自准直光子晶体,制作工艺与CMOS工艺完全兼容,无需复杂工艺,加工成本低。
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公开(公告)号:CN102779837B
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201210289657.5
申请日:2012-08-15
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L29/08 , H01L27/11 , H01L21/8244 , G11C11/413
CPC classification number: H01L27/1104 , G11C11/412 , H01L29/66659 , H01L29/7835
Abstract: 本发明提供一种六晶体管静态随机存储器单元及其制作方法,属于存储器设计及制造技术领域,所述存储器单元包括两个反相器及传输门,所述反相器由一结构对称的NMOS晶体管及结构对称的PMOS晶体管互连组成,所述传输门由两个源漏结构非对称的NMOS晶体管组成,所述源漏结构非对称NMOS晶体管的源极结构具有袋区及浅掺杂延伸区,而漏极结构不具有袋区及浅掺杂延伸区。本发明采用了具有非对称结构的传输门N型晶体管,通过去掉漏极的浅掺杂延伸区(LDD)和袋区(Pocket)引入的非对称,不改变器件加工工艺,不额外增加版图,不破坏器件使用寿命,且由此引起的电学非对称性明显优于现有的结构。本发明工艺简单,有利于降低成本,适用于工业生产。
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