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公开(公告)号：CN104835725A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510198987.7
申请日：2008-05-30
申请人： 株式会社IHI
IPC分类号： H01L21/268 , B23K26/073 , B23K26/04
CPC分类号： B23K26/0608 , B23K26/0676 , B23K26/0738 , B23K26/082 , H01L21/02532 , H01L21/02678 , H01L21/02686 , H01L21/02691 , H01L21/268 , B23K26/08
摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。
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公开(公告)号：CN103596893A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280029250.7
申请日：2012-05-28
申请人： 旭硝子株式会社
IPC分类号： C03B33/09 , B23K26/073 , B23K26/08 , B23K26/38 , B23K26/40
CPC分类号： C03B33/091 , B23K26/0006 , B23K26/0738 , B23K26/359 , B23K26/53 , B23K2103/50 , C03B33/093
摘要： 本发明提供一种玻璃板的切割方法。该玻璃板的切割方法具有通过对玻璃板（10）的表面（12）照射激光（20）而在玻璃板（10）上形成裂纹（30）的工序，其特征在于，激光（20）具有5000nm～11000nm的波长，且在玻璃板（10）的表面（12）上呈线状光束（22），线状光束（22）形成为沿着切割方向的形状，且沿着切割方向具有10mm以上的长度和2mm以下的宽度，并且沿着切割预定线具有大致均匀的强度分布，在上述工序中，线状光束（22）在玻璃板（10）的表面（12）上的位置被固定规定时间，并且线状光束（22）的至少一端部位于玻璃板（10）的外周部（16）。
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公开(公告)号：CN103468925A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310384555.6
申请日：2013-08-29
IPC分类号： C21D10/00
CPC分类号： C21D10/005 , B23K26/0622 , B23K26/0738 , B23K26/0861 , B23K26/146 , B23K26/356 , C21D9/0068 , C21D10/00
摘要： 本发明涉及一种飞机叶片榫槽底部平面激光冲击强化方法和装置，根据榫槽底部的几何特征，采用光路变换系统将激光束的圆形光斑变为高功率密度的条形光斑，同时在榫槽底部的两个端面分别设置导流喷射装置和抽水装置以实现均匀稳定的水约束层对榫槽底部平面进行激光冲击强化。本发明能有效避免“等离子体屏蔽”效应和水约束层不均匀、不稳定现象，保证榫槽底部平面强化的质量，可应用于飞机叶片榫槽底部平面强化。
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公开(公告)号：CN103399405A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310300229.2
申请日：2013-07-17
申请人： 苏州大学
CPC分类号： B23K26/0608 , B23K26/0676 , B23K26/0738 , B23K26/144 , B23K26/34
摘要： 本发明公开了一种激光宽带熔覆装置及方法，该装置主要由分光棱镜和聚光镜两个镜片组成。分光棱镜由对称设置并成一定角度相交的两个分光平面组成型面，两个分光平面可将入射的实心激光束对称反射为两个反向出射的激光束；聚光镜有两个，分别与分光棱镜的两个分光面相对布置，聚光镜可将分光棱镜反射的两束激光分别反射为平行的近矩形激光束，两束近矩形光在聚焦行程中距离越来越近，形成狭长的聚焦光斑并在焦平面上重叠。本发明熔覆宽度大、效率高；粉束在下落过程中不会过早与光束发生干涉，光束反射损失小；粉末入光准、直、细、挺，分布均匀，扩散度小，利用率高；粉末与激光束的耦合精度高，能实现来回程扫描成形，熔道组织均匀、搭接质量好。
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公开(公告)号：CN103379980A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201280010462.0
申请日：2012-02-21
申请人： 法国圣戈班玻璃厂
CPC分类号： F26B3/30 , B05D3/0263 , B05D3/06 , B05D5/063 , B05D2203/35 , B05D2502/00 , B05D2503/00 , B23K26/0738 , B23K26/0838 , C03C17/32 , C03C2218/32
摘要： 本发明涉及用于加热被施加到基材(1)，尤其镜子基材上的有机涂层的方法。在基材连续行进的同时，将激光辐射施用到该有机涂层上。该方法尤其允许干燥或烘烤漆或墨，而很少的热量被传递到该基材上。
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公开(公告)号：CN102157375B
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201110073309.X
申请日：2006-03-30
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： B23K26/0608 , B23K26/0604 , B23K26/0613 , B23K26/073 , B23K26/0732 , B23K26/0736 , B23K26/0738 , B23K26/352 , H01L21/02675 , H01L21/2026 , H01L21/268 , H01L21/324
摘要： 本发明涉及双波长热流激光退火。本发明公开了一种热处理设备和方法，其中第一激光源(40)，例如以10.6μm发射的CO2激光器，作为线光源(48)聚焦到硅晶片(20)上，并且第二激光源(26)，例如以808nm发射的GaAs激光器棒作为围绕线光束的更大光束(34)聚焦到晶片上。两个光束在线光源的窄方向上同步扫描，以产生在通过更大光束进行活化时由线光束产生窄加热脉冲。GaAs辐射的能级大于硅带隙能级，并产生了自由载流子。CO2辐射的能级小于硅带隙能级，因此硅对此是透明的，但是长波长辐射被自由载流子吸收。
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公开(公告)号：CN101677061B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200910160531.6
申请日：2005-03-24
申请人： 株式会社半导体能源研究所
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/20 , H01L21/336 , B23K26/00 , B23K26/073
CPC分类号： B23K26/066 , B23K26/0738 , H01L27/1285
摘要： 本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置，该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分，用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面，同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中，从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分，镜子103使该激光束的前进方向发生改变，并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。
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公开(公告)号：CN101044597B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200580036125.9
申请日：2005-10-18
申请人： 株式会社半导体能源研究所
IPC分类号： H01L21/268
CPC分类号： H01L21/02683 , B23K26/0736 , B23K26/0738 , B23K26/0853 , H01L21/02422 , H01L21/02532 , H01L21/02686 , H01L21/2026 , H01L21/268 , H01L27/1255 , H01L27/1266 , H01L27/1285 , H01L27/1296 , H01L29/78621 , H01L29/78648 , Y10T117/1076
摘要： 在使用CW激光器或准CW激光器进行激光退火时，与准分子激光器相比，生产率不高，因此有必要进一步提高生产率。根据本发明，使用基波而不将激光引入非线性光学元件，并且通过用具有高重复频率的脉冲激光照射半导体薄膜来进行激光退火。因为不使用非线性光学元件，并因此光不被转换成谐波，所以可以使用具有高输出功率的激光振荡器来进行激光退火。因此，可以增加通过一次扫描形成的具有大颗粒晶体的区域的宽度，从而可以大大提高生产率。
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公开(公告)号：CN102513701A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201210017054.X
申请日：2008-05-30
申请人： 株式会社IHI
IPC分类号： B23K26/073 , B23K26/04 , H01L21/268
CPC分类号： B23K26/0608 , B23K26/0676 , B23K26/0738 , B23K26/082 , H01L21/02532 , H01L21/02678 , H01L21/02686 , H01L21/02691 , H01L21/268
摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。
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公开(公告)号：CN101136438B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200710142239.2
申请日：2007-08-31
申请人： 株式会社半导体能源研究所
发明人： 宫入秀和
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/04 , H01L21/20 , H01L21/336
CPC分类号： H01L29/04 , B23K26/0626 , B23K26/066 , B23K26/0738 , B23K26/0884 , B23K2101/006 , H01L21/02532 , H01L21/02678 , H01L21/02683 , H01L21/02691 , H01L27/1285 , H01L27/1296 , H01L29/66757 , H01L29/78675 , H01L29/78696
摘要： 本发明提供一种通过激光晶化法使晶界在一个方向上一致的晶态半导体膜及其制造方法。当通过利用线状激光使形成在衬底上的半导体膜晶化时，使用凹凸被形成为条形的相移掩模。形成在相移掩模上的条形凹凸与线状激光的长轴方向形成近似于垂直的角度地被形成。使用连续振荡激光作为激光，并且该激光的扫描方向与条形凹凸(槽)的方向大体上平行。通过在长轴方向上周期性地改变激光的亮度，可以控制完全熔化的半导体膜的结晶核生成位置。
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