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公开(公告)号：CN110277343B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201910149763.5
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够提高强度。提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述穿通孔，其特征为，所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域，所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触，所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
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公开(公告)号：CN110277341B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201910149165.8
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , H01J37/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够实现电弧放电的降低及气体流动的顺畅化。提供一种静电吸盘，其特征为，陶瓷电介体基板具有位于第1主面与第1多孔质部之间的第1孔部，陶瓷电介体基板及第1多孔质部中的至少任意一个具有位于第1孔部与第1多孔质部之间的第2孔部，在与从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向大致正交的第2方向上，第2孔部的尺寸比第1多孔质部的尺寸更小，比第1孔部的尺寸更大。
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公开(公告)号：CN110277341A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910149165.8
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , H01J37/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够实现电弧放电的降低及气体流动的顺畅化。提供一种静电吸盘，其特征为，陶瓷电介体基板具有位于第1主面与第1多孔质部之间的第1孔部，陶瓷电介体基板及第1多孔质部中的至少任意一个具有位于第1孔部与第1多孔质部之间的第2孔部，在与从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向大致正交的第2方向上，第2孔部的尺寸比第1多孔质部的尺寸更小，比第1孔部的尺寸更大。
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公开(公告)号：CN108780774A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780017182.5
申请日：2017-05-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与所述第1主面的相反侧的第2主面；及基座板，设置于所述第2主面侧，支撑所述陶瓷电介体基板，其特征为，所述基座板具有调整所述处理对象物的温度的介质通过的第1连通路，所述第1连通路具有上面、侧面及下面，相对于所述第1连通路的高度，在所述上面上的最大高度Sz的偏差之比为1％以下。
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公开(公告)号：CN108695222A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810270110.8
申请日：2018-03-29
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6833 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/68785 , H05B3/283
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。具体而言，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面；电极层，设置于陶瓷电介体基板；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在基座板与第1主面之间，其特征为，加热器板具有：第1加热器元件，因电流的流动而发热；及第2加热器元件，因电流的流动而发热，当在垂直于第1主面的方向上观察时，第1加热器元件比第2加热器元件折曲更多，第1加热器元件具有位于第2加热器元件的间隙的部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110767596B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201911099608.3
申请日：2015-03-11
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够降低等离子对粘接剂的损伤。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面、从第2主面设置到第1主面的穿通孔；金属制基座板，支撑陶瓷电介体基板且具有与穿通孔连通的气体导入路；及接合层，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间且包含树脂材料，接合层具有设置在第2主面上的穿通孔的开口部与气体导入路之间的与开口部相比水平方向上更大的空间，空间侧的接合层的端面与第2主面相交的第1区域比不同于第1区域的端面的另外的第2区域还要从开口部后退。
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公开(公告)号：CN110277342B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN201910149338.6
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间，疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部，在与第1方向大致正交的第2方向上，壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
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公开(公告)号：CN108780774B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201780017182.5
申请日：2017-05-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与所述第1主面的相反侧的第2主面；及基座板，设置于所述第2主面侧，支撑所述陶瓷电介体基板，其特征为，所述基座板具有调整所述处理对象物的温度的介质通过的第1连通路，所述第1连通路具有上面、侧面及下面，相对于所述第1连通路的高度，在所述上面上的最大高度Sz的偏差之比为1％以下。
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公开(公告)号：CN110767596A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201911099608.3
申请日：2015-03-11
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够降低等离子对粘接剂的损伤。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面、从第2主面设置到第1主面的穿通孔；金属制基座板，支撑陶瓷电介体基板且具有与穿通孔连通的气体导入路；及接合层，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间且包含树脂材料，接合层具有设置在第2主面上的穿通孔的开口部与气体导入路之间的与开口部相比水平方向上更大的空间，空间侧的接合层的端面与第2主面相交的第1区域比不同于第1区域的端面的另外的第2区域还要从开口部后退。
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公开(公告)号：CN110277343A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910149763.5
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够提高强度。提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述穿通孔，其特征为，所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域，所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触，所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
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