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公开(公告)号：CN109478530B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201780044701.7
申请日：2017-07-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，放置处理对象物；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，加热器板具有：第1、2支撑板；加热器元件，设置在第1支撑板与第2支撑板之间；第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间；及第2树脂层，设置在第2支撑板与加热器元件之间，当在层叠方向上观察时，第1支撑板的第2支撑板侧的面具有：第1区域，重叠于加热器元件；及第2区域，并不重叠于加热器元件，第2区域比第1区域更向第2支撑板侧突出。
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公开(公告)号：CN110277342A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910149338.6
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间，疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部，在与第1方向大致正交的第2方向上，壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
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公开(公告)号：CN108604570A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009357.8
申请日：2017-03-13
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，放置处理对象物；基座板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1、第2支撑板，包含金属；第1、第2树脂层，设置在第1支撑板与第2支撑板之间；及第1、第2导电部，设置在第1树脂层与第2树脂层之间且在面内方向上离开，具有：加热器元件，因电流的流动而发热；及空间部，被在第1导电部的面内方向上的侧端部、第1树脂层、第2树脂层所划分，第1树脂层在第1导电部与第2导电部之间连接于第2树脂层。
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公开(公告)号：CN116313981A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310336113.8
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/20 , H01J37/32
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间，疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部，在与第1方向大致正交的第2方向上，壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
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公开(公告)号：CN108604570B
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN201780009357.8
申请日：2017-03-13
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，放置处理对象物；基座板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1、第2支撑板，包含金属；第1、第2树脂层，设置在第1支撑板与第2支撑板之间；及第1、第2导电部，设置在第1树脂层与第2树脂层之间且在面内方向上离开，具有：加热器元件，因电流的流动而发热；及空间部，被在第1导电部的面内方向上的侧端部、第1树脂层、第2树脂层所划分，第1树脂层在第1导电部与第2导电部之间连接于第2树脂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104952779A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510105529.4
申请日：2015-03-11
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够降低等离子对粘接剂的损伤。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面、从第2主面设置到第1主面的穿通孔；金属制基座板，支撑陶瓷电介体基板且具有与穿通孔连通的气体导入路；及接合层，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间且包含树脂材料，接合层具有设置在第2主面上的穿通孔的开口部与气体导入路之间的与开口部相比水平方向上更大的空间，空间侧的接合层的端面与第2主面相交的第1区域比不同于第1区域的端面的另外的第2区域还要从开口部后退。
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公开(公告)号：CN107112274B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201680005123.1
申请日：2016-01-15
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面；基座板，设置在远离陶瓷电介体基板的位置，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1支撑板，包含金属；第2支撑板，包含金属；加热器元件，设置在第1支撑板与第2支撑板之间，通过流电而发热；第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间；及第2树脂层，设置在第2支撑板与加热器元件之间。
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公开(公告)号：CN104952779B
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201510105529.4
申请日：2015-03-11
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够降低等离子对粘接剂的损伤。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面、从第2主面设置到第1主面的穿通孔；金属制基座板，支撑陶瓷电介体基板且具有与穿通孔连通的气体导入路；及接合层，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间且包含树脂材料，接合层具有设置在第2主面上的穿通孔的开口部与气体导入路之间的与开口部相比水平方向上更大的空间，空间侧的接合层的端面与第2主面相交的第1区域比不同于第1区域的端面的另外的第2区域还要从开口部后退。
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公开(公告)号：CN109564890A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780044740.7
申请日：2017-07-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , H05B3/20
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面；基座板，设置在离开陶瓷电介体基板的位置，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1支撑板，包含金属；加热器元件，设置成与第1支撑板重叠，因电流的流动而发热；及第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间，加热器元件具有：第1面，与第1树脂层相对；及第2面，朝向第1面的相反侧，第1面的宽度不同于第2面的宽度。
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公开(公告)号：CN107112274A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680005123.1
申请日：2016-01-15
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面；基座板，设置在远离陶瓷电介体基板的位置，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1支撑板，包含金属；第2支撑板，包含金属；加热器元件，设置在第1支撑板与第2支撑板之间，通过流电而发热；第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间；及第2树脂层，设置在第2支撑板与加热器元件之间。
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