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公开(公告)号：CN103904024A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201310516715.8
申请日：2013-10-28
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: H01L21/768 , H01L21/311 , H01L23/522
CPC classification number: H01L21/76804 , H01L21/76808 , H01L23/5226 , H01L23/53295 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了形成半导体器件的双镶嵌结构的方法以及由其制造的半导体器件。该方法包括：（a）在衬底上形成第一和第二绝缘层；（b）形成具有在第二绝缘层上形成通孔的图案的抗蚀剂掩模；（c）形成向下至第一绝缘层下端的通孔；（d）以旋涂法在通孔中和第二绝缘层上形成硬掩模层；（e）形成具有在硬掩模层上形成槽孔的图案的抗蚀剂掩模；（f）形成通过抗蚀剂掩模向下深入到第二绝缘层下端的第一槽孔；（g）去除通孔中和第二绝缘层上的硬掩模层的一部分；（h）通过去除通孔的顶角和第一槽孔的底角之间的第二绝缘层的一部分形成第二槽孔；（i）去除保留在通孔中和第二绝缘层上的硬掩模层；（j）通过用导电材料填充通孔和第二槽孔形成上部导线。
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公开(公告)号：CN104768912A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380056460.X
申请日：2013-03-19
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07C49/792 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , C07C49/788 , C07C49/792 , C07C49/796 , C07C49/798 , C07C49/83 , C07C49/835 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 本发明是关于一种由化学式1表示的硬掩膜组成物用单体、一种含括所述单体的硬掩膜组成物，及一种使用所述硬掩膜组成物形成图案的方法。
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公开(公告)号：CN104250228A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201410163675.8
申请日：2014-04-22
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07D215/14 , C07D311/58 , C07D409/14 , C07D405/10 , C07D333/16 , C07C37/00 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C29/143 , C07C35/21 , C07C213/02 , C07C217/58 , C07C253/30 , C07C255/53 , C07C17/16 , C07C22/04 , C07C319/12 , C07C323/19 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , C07C22/04 , C07C39/12 , C07C39/225 , C07C217/58 , C07C255/53 , C07C323/19 , C07C2601/14 , C07C2603/50 , C07C2603/52 , C07C2603/54 , C07D215/14 , C07D311/58 , C07D333/16 , C07D333/50 , G03F7/09 , G03F7/094 , C07C35/21 , C07C39/17 , C07D405/10 , C07D409/14 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种由以下化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、包括该单体的硬掩膜组合物、以及使用该硬掩膜组合物形成图案的方法。在以下化学式1中，A、A'、A″、L、L'、X、X'、m、和n与在具体实施方式中的定义相同。[化学式1]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104024940A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280065648.6
申请日：2012-11-29
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F1/38 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: C07C39/21 , C07C39/225 , C08G65/38 , G03F1/00 , G03F7/094 , G03F7/20 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/31144
Abstract: 本发明涉及一种由式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。
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公开(公告)号：CN104250228B
公开(公告)日：2019-05-10
申请号：CN201410163675.8
申请日：2014-04-22
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07D215/14 , C07D311/58 , C07D409/14 , C07D405/10 , C07D333/16 , C07C37/00 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C29/143 , C07C35/21 , C07C213/02 , C07C217/58 , C07C253/30 , C07C255/53 , C07C17/16 , C07C22/04 , C07C319/12 , C07C323/19 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种由以下化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、包括该单体的硬掩膜组合物、以及使用该硬掩膜组合物形成图案的方法。在以下化学式1中，A、A'、A″、L、L'、X、X'、m、和n与在具体实施方式中的定义相同。[化学式1]
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公开(公告)号：CN105026389B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201380073499.2
申请日：2013-05-08
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07D407/10 , G03F7/004 , C08G59/22
CPC classification number: G03F7/11 , C07D303/14 , C07D303/32 , C09D5/00 , C09D7/63 , C09D163/00 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/34
Abstract: 本发明揭示一种用于硬遮罩组成物的单体、包含所述单体的硬遮罩组成物及使用所述组成物形成图案的方法。本发明的用于硬遮罩组成物的单体，是以下列化学式1表示：[化学式1]其中，在以上的化学式1中，A是取代或未取代的多环芳香基，A'是取代或未取代的C6‑C20亚芳基，X是环氧基，Y是氢、羟基、C1至C10的烷基氨基、氨基、＝O或它们的组合，l是0至6的整数，及m和n是各自独立地为1至4的整数。本发明提供的用于硬遮罩组成物的单体，由于优异的交联而减少释气。
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公开(公告)号：CN103959170B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201280059402.8
申请日：2012-11-21
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: C07C39/14 , B05D1/005 , B05D3/007 , B05D3/0254 , B05D3/06 , C07C39/12 , C07C2603/50 , C07C2603/54 , C09D173/00 , G03F7/004 , G03F7/0752 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 本发明涉及一种由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包括该单体的硬掩模组合物、以及使用其的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN103959170A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059402.8
申请日：2012-11-21
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: C07C39/14 , B05D1/005 , B05D3/007 , B05D3/0254 , B05D3/06 , C07C39/12 , C07C2603/50 , C07C2603/54 , C09D173/00 , G03F7/004 , G03F7/0752 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 本发明涉及一种由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包括该单体的硬掩模组合物、以及使用其的图案形成方法。
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