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公开(公告)号：CN103192317A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310113435.2
申请日：2013-04-02
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光头。所述抛光头包括气缸、旋转基盘组件、固定盘组件、吸附盘组件和保持环组件。气缸包括：缸体，缸体内具有腔室，缸体上设有分别与腔室连通的第一和第二进气通道，第一和第二进气通道适于与气源相连；活塞，活塞设在腔室内以将腔室分隔为上子腔室和下子腔室，其中第一进气通道与上子腔室连通且第二进气通道与下子腔室连通；和活塞杆，活塞杆设在腔室内且活塞杆的下端伸出缸体，活塞杆与活塞相连以便在活塞的带动下上下移动。根据本发明实施例的抛光头不仅可以带动晶圆上下移动，而且可以传递较大的扭矩。
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公开(公告)号：CN110977750B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN201910414517.8
申请日：2019-05-18
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/00
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器，压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元；正压控制单元的输入端连接正压供给源，负压控制单元的输入端连接负压供给源，正压控制单元的输出端与负压控制单元的输出端共同连接终端元件；第一压力传感器连接在终端元件的气路端口处；正压控制单元、负压控制单元和第一压力传感器分别与控制器连接；控制器获取第一压力传感器采集的终端元件的端口压力，并控制正压控制单元和/或负压控制单元的开关，以使端口压力稳定在预设目标压力。化学机械抛光装置包括与承载头内的压力腔室气路连接的压力控制装置。
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公开(公告)号：CN109227359A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811222269.9
申请日：2018-10-19
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
CPC classification number: B24B37/345 , B24B27/0076 , B24B37/042 , H01L21/67034 , H01L21/67051
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光系统及方法、晶圆的后处理单元。晶圆的后处理单元，包括：清洗模块，所述清洗模块包括驱动组件以及清洗组件，所述驱动组件带动所述晶圆旋转的同时所述清洗组件绕垂直于所述晶圆表面的轴线摆动以向所述晶圆表面喷射流体；干燥模块，所述干燥模块用于对所述晶圆进行干燥，所述干燥模块与所述清洗模块并排布置且位于所述清洗模块的下游。根据本发明实施例的晶圆的后处理单元可以防止清洗晶圆的过程中损坏晶圆，而且清洗效果好。
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公开(公告)号：CN105598827B
公开(公告)日：2018-05-22
申请号：CN201610010189.1
申请日：2016-01-05
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B37/04 , B23Q41/02 , B24B27/0023 , B24B27/0069 , B24B37/105 , B24B37/27 , B24B37/30 , B24B37/345
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光机，化学机械抛光机包括：多个抛光组件，多个所述抛光组件间隔设置且每个所述抛光组件包括：支架、抛光头和抛光盘，所述抛光头设置在所述支架上且适于在抛光位置和传输位置之间移动，所述抛光头处于所述抛光位置时，所述抛光头位于所述抛光盘上方；传输组件，所述传输组件包括：转盘和多个装卸平台，多个所述装卸平台间隔开设置在所述转盘上且随所述转盘转动，所述抛光头处于所述传输位置时，所述抛光头与多个所述装卸平台中的一个相对应。由此，支架的安装稳定性好，抛光组件的工作可靠性高，抛光机的工艺稳定性好。
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公开(公告)号：CN106891244A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201710117233.3
申请日：2017-03-01
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B37/11 , B24B41/002
Abstract: 本发明提出一种抛光头，该抛光头包括基板、驱动件、上浮动件、下浮动件、传动件，以及吸附件，其中，驱动件包括：第一连接端，和第一传动端；上浮动件包括：第二连接端和上浮动端，第二连接端与第一连接端同轴心固定相连，上浮动端为凹球面或者凹圆锥面；下浮动件包括：下浮动端和第三连接端，下浮动端为凸球面；下浮动端的凸球面与上浮动端的凹球面或者凹圆锥面相适配，且可拆卸地相连，且上浮动件与下浮动件之间进行浮动的转动中心不高于工件的抛光表面。通过本发明能够减小接触点变形，减少工件与抛光盘间的偏摆，弥补抛光头与抛光盘之间的平行度误差，使工件贴合在抛光盘表面，且提升抛光效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104384127B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201410536152.3
申请日：2014-10-11
Applicant: 清华大学
IPC: B08B3/02
Abstract: 本发明公开了一种用于清洗修整器的清洗装置，所述修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头，所述清洗装置包括：基座，所述基座内具有清洗液通道，所述清洗液通道具有进液口；环形的防溅射挡板，所述防溅射挡板设在所述基座上，所述防溅射挡板与所述基座之间形成容纳腔，所述防溅射挡板上设有排液口，其中所述防溅射挡板的形状与所述修整器的形状适配；和喷嘴，所述喷嘴设在所述基座上且位于所述容纳腔内，所述喷嘴与所述清洗液通道连通。根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置可以防止清洗液溅射到清洗装置外。
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公开(公告)号：CN106449510A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610855022.5
申请日：2016-09-26
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/687 , H01L21/677
Abstract: 本发明公开了一种晶圆传输装置，晶圆传输装置包括：晶圆夹持组件；竖直移动组件，所述竖直移动组件设置成驱动所述晶圆夹持组件竖直移动；水平移动组件，所述水平移动组件设置成驱动所述竖直移动组件水平移动。通过设置竖直移动组件和水平移动组件，可以在上下方向上输送和输出晶圆，可以避免在工艺腔室的侧面开设窗口，从而一方面可以避免泄露以及液体溅射，可以降低工艺腔室的密封要求，另一方面可以减小晶圆传输装置的占地面积，降低晶圆传输装置的生产成本。
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公开(公告)号：CN106334997A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201610912181.4
申请日：2016-10-20
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B41/002 , B24B29/00
Abstract: 本发明公开了一种抛光头以及具有其的抛光机，抛光头包括：连接板，所述连接板具有第一球面；安装板，所述安装板具有第二球面，所述第一球面与所述第二球面相配合；变形连接件，所述变形连接件连接在所述连接板和所述安装板之间以使所述连接板和所述安装板同步转动并适于变形以允许所述第一球面和所述第二球面相互滚动。该抛光头的安装板可以相对连接板转动，从而可以便于工件安装面相对工件表面和抛光盘进行角度调节以补偿角度误差，进而可以提高抛光机的抛光效果。
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公开(公告)号：CN103231303B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201310180314.X
申请日：2013-05-15
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于输送晶圆的晶圆转移装置；第一机械手；化学机械抛光机；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第二机械手；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内的第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件；晶圆刷洗装置，晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件；晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件；和第三机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
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公开(公告)号：CN103144027B
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201310113402.8
申请日：2013-04-02
Applicant: 清华大学
IPC: B24B41/047
Abstract: 本发明公开了一种用于抛光头的气缸。所述气缸包括缸体，缸体内具有腔室，缸体上设有第一和第二进气通道；活塞，活塞设在腔室内以将腔室分隔为上子腔室和下子腔室，其中第一进气通道与上子腔室连通且第二进气通道与下子腔室连通；和活塞杆，活塞杆设在腔室内且活塞杆的下端伸出缸体，活塞杆与活塞相连以便在活塞的带动下上下移动，其中腔室的顶壁和活塞杆的上表面中的一个上设有凹槽，腔室的顶壁和活塞杆的上表面中的另一个上设有配合在凹槽内的凸起，凹槽的形状与凸起的形状适配以便缸体带动活塞杆旋转。根据本发明实施例的用于抛光头的气缸不仅可以带动晶圆上下移动，而且可以传递较大的扭矩。
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