-
公开(公告)号：CN115145107B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202210879116.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PDMS柔性基底；微米级凹形反射镜阵列，形成于PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；多个纳米级沟槽疏水结构，形成于PDMS柔性基底的上层，每个纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个凹形反射镜之间，并且分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。制备方法包括采用激光直写3D光刻技术将投影幕布结构制备到光刻胶上；基于光刻胶的结构制备PDMS模具；将PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上；在柔性基底表面磁控溅射镀银投影幕布。本发明利用微形凹反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构，使投影幕布具有153.7°水滴接触角、2.1°水滴滚动角、增益倍数达到了2.32。
-
公开(公告)号：CN114885509B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202210399721.9
申请日：2022-04-15
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种飞秒、纳秒激光制备图案化柔性传感器及其制备方法。制备方法包括以下步骤：1)混合聚二甲基硅氧烷(PDMS)单体和固化剂，旋涂制备透明柔性的PDMS基底；2)用氧气等离子体(Plasma)辐照PDMS基底；3)在基底上面旋涂银纳米线浆料；4)对银纳米线浆料施加压力；5)飞秒激光扫描PDMS基底上的银纳米线浆料；6)纳秒激光熔融、击飞多余银纳米线，绘制图案；7)旋涂PDMS，封装图案化银纳米线浆料。本发明提供的方法制备速度快，精度高。所制备的传感器质地柔软，具有优异的透光性能和可拉伸性能。
-
公开(公告)号：CN110838390A
公开(公告)日：2020-02-25
申请号：CN201911149767.X
申请日：2019-11-21
Applicant: 武汉大学
IPC: H01B13/00
Abstract: 本发明涉及一种激光制备图案化透明导电薄膜的方法，包括以下步骤：1)清洗基底；2)在基底上面旋涂光刻胶，烤干；3)使用激光直写设备设计图案并在覆盖有光刻胶的基底上曝光图案化的区域，然后用显影液去除对应图案化区域的光刻胶；4)将银纳米浆料涂至图案化区域，占据去除光刻胶后的区域，再使用研磨的方法，保证银纳米浆料与剩余光刻胶厚度均匀一致；5)把透光片压在步骤4)得到的图案化区域上，然后激光穿过透光片扫描基底的图案化区域，烧结固化银纳米浆料；6)去除剩余光刻胶，即得图案化透明导电薄膜。本方法可以任意设计图案，方便快捷地实现透明导电薄膜的图案化，灵活性强，可重复性好。
-
公开(公告)号：CN110640149A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201910885828.2
申请日：2019-09-19
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供了一种激光诱导制备纳米合金颗粒的方法，包括以下步骤：步骤1.将至少两种金属纳米材料溶液加入到离心管中，再添加适量的挥发性溶剂形成混合溶液；步骤2.超声混合溶液，使所有金属纳米材料混合均匀；步骤3.离心浓缩超声后的混合溶液，获得纳米浆料；步骤4.旋涂纳米浆料至基板上；步骤5.对旋涂完成后的基板进行真空加热干燥，在基板表面形成干燥涂覆层；步骤6.把透光片压在形成有干燥涂覆层的基板面上，然后激光穿过透光片扫描基板上的金属纳米材料，即可制得纳米合金颗粒，其中，激光的功率不低于220mW，光斑直径大于70um。本方法具有重复性好，生产速度快，效率高、耗时短，操作简单等优点。
-
公开(公告)号：CN105716523B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201610078903.0
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明公开了一种适合于大幅面运动规划的高精、高速运动测量系统，借助该系统可以实现高达亚纳米级的二维位移测量精度，特别适合于诸如光刻机、光栅刻划机、液晶面板加工机、精密机床等高端设备中运动控制所必须的反馈测量。具体为将不同频率的一维或二维光栅错位搭接、同频错位过渡铺设以实现大幅面铺设，从而实现任意大幅面运动规划所必须的路径控制范围，再配合以多个光栅位移测量探头的电气协调细分以大幅降低单点测量（细分）时间，从而实现任意大幅面、高精度（最高可达亚纳米，且有多种测量精度协调互验）、高速度（单探头所需要的细分量减少，整体速度优于目前光栅尺中探头的探测速度）运动控制所需的反馈测量。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119045277A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202411355045.0
申请日：2024-09-27
Applicant: 武汉大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开一种大幅面纳米压印模板的制作方法，属于微纳加工、纳米压印技术领域。其方法包括：根据光刻胶板图案结构准备定位菲林和曝光菲林；在透明基材上利用UV胶复制光刻胶板图案结构；在透明基材无结构面涂覆光刻胶，并通过套刻、显影工艺仅保留图案结构处光刻胶；在透明基材无结构面继续涂覆不透光黑漆；通过去胶工艺去除图案结构处光刻胶以及黑漆；利用该模板在另一透明基材表面逐一复制，得到大幅面纳米压印模板。本发明的大幅面纳米压印模板的制作方法，解决了传统UV拼版方法因为母版与曝光菲林未完全贴合所造成的边缘处漏光的问题。
-
公开(公告)号：CN118604929A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410764811.2
申请日：2024-06-14
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种微透镜阵列扩散片结构及其制备方法，扩散片表面为100％填充率的凸透镜微透镜阵列，微透镜阵列子透镜轮廓形状统一、各子透镜顶点间相对高度在一定范围内随机分布，最小结构单元边界呈周期性。该扩散片的设计方法包括微透镜阵列基本单元设计，微透镜阵列高度随机分布处理，利用设计自由、易于加工的3D光刻设备制备微透镜阵列扩散片模板，以及可选的利用纳米压印技术将扩散片结构转印到其他压印材料上。该结构可使透射过其的激光光束在一定角度内传播，并利用其高度随机分布的特点消除干涉条纹，提高光斑能量分布的均匀性。
-
公开(公告)号：CN117471849A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311530514.3
申请日：2023-11-14
Applicant: 武汉大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种无损伤纳米压印转印方法及其应用，属于微纳加工技术领域。本方法包括如下步骤：(1)以正性光刻胶为模板材料，制作纳米压印模板图案；(2)所述纳米压印模板图案的空隙由不溶解于碱性溶液的转印材料完成填充，得到填充胶板；(3)所述填充胶板中的转印材料进行成型，利用紫外光对模板材料进行辐照，得到碱溶性胶板；(4)所述碱溶性胶板浸于碱性溶液，使模板材料完全溶解，得到转印结构图案，完成纳米压印转印。本发明采用溶解法脱模转印，避免了图样与模板间的转印缺陷，实现了无应力、无损伤的纳米压印转印，用于微纳加工领域，可实现高精度、无损的转印流程，应用前景广阔。
-
公开(公告)号：CN115291306A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202210882957.8
申请日：2022-07-26
Applicant: 武汉大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明涉及光学仿生的技术领域，具体涉及一种具有变焦性能的仿生复眼结构的制备方法，包括以下步骤：在衬底表面制备具有变焦性能的微透镜阵列；在微透镜阵列表面沉积聚二甲基硅氧烷，固化处理后将将其与微透镜阵列分离，得到聚二甲基硅氧烷的凹透镜阵列；将聚二甲基硅氧烷的凹透镜阵列贴合在曲面基底表面；将固化剂注入聚二甲基硅氧烷的凹透镜阵列的表面，并进行固化；将聚二甲基硅氧烷从曲面基底表面分离，即可得到具有变焦性能的仿生复眼结构。本发明的制备方法制备的仿生复眼结构既具有传统仿生复眼的宽视角感知能力，又具有变焦微透镜阵列的深度感知等能力，还具有信息共享功能，可以实现平面变焦成像与曲面变焦成像及可以对信息进行共享。
-
公开(公告)号：CN115145107A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210879116.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PDMS柔性基底；微米级凹形反射镜阵列，形成于PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；多个纳米级沟槽疏水结构，形成于PDMS柔性基底的上层，每个纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个凹形反射镜之间，并且分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。制备方法包括采用激光直写3D光刻技术将投影幕布结构制备到光刻胶上；基于光刻胶的结构制备PDMS模具；将PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上；在柔性基底表面磁控溅射镀银投影幕布。本发明利用微形凹反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构，使投影幕布具有153.7°水滴接触角、2.1°水滴滚动角、增益倍数达到了2.32。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
53
records
(took 0.017 seconds)
