公开(公告)号：CN103890226A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201180072999.5

申请日：2011-08-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： E·谢尔 ,  M·哈尼卡 ,  R·林德伯格 ,  M·班德尔 ,  A·洛珀 ,  K·施沃恩特兹 ,  F·皮耶拉利西 ,  J·刘

IPC: C23C14/04 ,  C23C16/04

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C16/042

Abstract: 说明了一种用以形成沉积材料层于基板上的沉积设备。沉积设备包括：基板支撑件，用以支撑基板；以及边缘（660）排除遮罩（640），用以在层沉积期间覆盖基板（610）的周边。遮罩具有至少一框部，该至少一框部定义一孔洞。遮罩的该至少一框部用以根据在遮罩的该至少一框部上沉积的沉积材料的数量来相对于基板移动（670，680）。进一步来说，说明了一种利用边缘排除遮罩来沉积沉积材料层于基板上的方法。

公开(公告)号：CN103314130A

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN201180065117.2

申请日：2011-10-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： E·谢尔 ,  M·哈尼卡 ,  R·林德伯格 ,  M·班德尔 ,  A·洛珀 ,  K·施沃恩特兹 ,  F·皮耶拉利西 ,  J·刘

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H01J37/34

CPC classification number: H01J37/32532 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455

Abstract: 提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件（130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括：旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料（210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标（270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。

公开(公告)号：CN206467285U

公开(公告)日：2017-09-05

申请号：CN201621194387.X

申请日：2016-10-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： F·施纳朋伯格 ,  A·洛珀 ,  A·弗洛克 ,  T·德皮施 ,  G·格里施

IPC: C23C14/35

Abstract: 本实用新型描述了可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置。描述了一种用于在基板上沉积材料的可旋转溅射装置。所述可旋转溅射装置包括：具有旋转轴的靶材背衬管；磁体组件，所述磁体组件布置在所述靶材背衬管内；冷却通道，所述冷却通道用于提供冷却流体，所述冷却通道布置在所述靶材背衬管内，所述磁体组件布置在所述旋转轴的方向上，并且相对于所述旋转轴偏移，所述冷却通道布置在所述旋转轴的方向上，并且相对于所述旋转轴偏移；连接凸缘，所述连接凸缘用于将冷却流体提供至所述冷却通道，所述连接凸缘与所述旋转轴同轴地布置；以及交叉元件，所述交叉元件与所述连接凸缘接触，其中所述交叉元件将所述连接凸缘与所述冷却通道连接。