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公开(公告)号：CN104160471B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201280071216.6
申请日：2012-03-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3414 , C23C14/35 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/342
Abstract: 本发明描述用于在腹板上沉积沉积材料的沉积设备及方法。沉积设备包括界定第一可旋转式溅射装置的第一轴的第一溅射装置支撑件、界定第二可旋转式溅射装置的第二轴的第二溅射装置支撑件及涂覆窗。第一溅射装置支撑件及第二溅射装置支撑件经调适成支撑第一可旋转式溅射装置及第二可旋转式溅射装置以在涂覆鼓上提供待沉积于腹板上的沉积材料的至少一组分。此外，第一轴与第二轴之间的距离小于200mm。
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公开(公告)号：CN104160471A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201280071216.6
申请日：2012-03-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3414 , C23C14/35 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/342
Abstract: 本发明描述用于在腹板上沉积沉积材料的沉积设备及方法。沉积设备包括界定第一可旋转式溅射装置的第一轴的第一溅射装置支撑件、界定第二可旋转式溅射装置的第二轴的第二溅射装置支撑件及涂覆窗。第一溅射装置支撑件及第二溅射装置支撑件经调适成支撑第一可旋转式溅射装置及第二可旋转式溅射装置以在涂覆鼓上提供待沉积于腹板上的沉积材料的至少一组分。此外，第一轴与第二轴之间的距离小于约200mm。
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公开(公告)号：CN206467285U
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201621194387.X
申请日：2016-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型描述了可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置。描述了一种用于在基板上沉积材料的可旋转溅射装置。所述可旋转溅射装置包括：具有旋转轴的靶材背衬管；磁体组件，所述磁体组件布置在所述靶材背衬管内；冷却通道，所述冷却通道用于提供冷却流体，所述冷却通道布置在所述靶材背衬管内，所述磁体组件布置在所述旋转轴的方向上，并且相对于所述旋转轴偏移，所述冷却通道布置在所述旋转轴的方向上，并且相对于所述旋转轴偏移；连接凸缘，所述连接凸缘用于将冷却流体提供至所述冷却通道，所述连接凸缘与所述旋转轴同轴地布置；以及交叉元件，所述交叉元件与所述连接凸缘接触，其中所述交叉元件将所述连接凸缘与所述冷却通道连接。
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