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公开(公告)号：CN105900209B
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201380081699.2
申请日：2013-12-17
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/34
CPC classification number: H01J37/342 , H01J37/3405 , H01J37/3435 , H01J37/3452 , H01J37/3455 , H01J37/3461
Abstract: 提供一种用于溅射沉积设备的电极组件(120；200；300；400；700；800；900)。这种电极组件包括组件元件(210；310；410；710；810；910)，用于提供将沉积的材料和固持可旋转靶材中的至少一者；磁铁系统(230；330；430；730；830；930)，设置在组件元件(210；310；410；710；810；910)内；以及磁极片(240；241；242；340；341；342；440；441；442；740；741；742；840；841；842；940；941；942)，设置在磁铁系统与组件元件之间。进一步，描述一种用于组装具有磁铁系统(230；330；430；730；830；930)的电极组件的方法。
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公开(公告)号：CN104160471A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201280071216.6
申请日：2012-03-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3414 , C23C14/35 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/342
Abstract: 本发明描述用于在腹板上沉积沉积材料的沉积设备及方法。沉积设备包括界定第一可旋转式溅射装置的第一轴的第一溅射装置支撑件、界定第二可旋转式溅射装置的第二轴的第二溅射装置支撑件及涂覆窗。第一溅射装置支撑件及第二溅射装置支撑件经调适成支撑第一可旋转式溅射装置及第二可旋转式溅射装置以在涂覆鼓上提供待沉积于腹板上的沉积材料的至少一组分。此外，第一轴与第二轴之间的距离小于约200mm。
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公开(公告)号：CN105900209A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380081699.2
申请日：2013-12-17
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/34
CPC classification number: H01J37/342 , H01J37/3405 , H01J37/3435 , H01J37/3452 , H01J37/3455 , H01J37/3461
Abstract: 提供一种用于溅射沉积设备的电极组件(120；200；300；400；700；800；900)。这种电极组件包括组件元件(210；310；410；710；810；910)，用于提供将沉积的材料和固持可旋转靶材中的至少一者；磁铁系统(230；330；430；730；830；930)，设置在组件元件(210；310；410；710；810；910)内；以及磁极片(240；241；242；340；341；342；440；441；442；740；741；742；840；841；842；940；941；942)，设置在磁铁系统与组件元件之间。进一步，描述一种用于组装具有磁铁系统(230；330；430；730；830；930)的电极组件的方法。
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公开(公告)号：CN105830194A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201380081666.8
申请日：2013-12-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32 , H01J37/34 , C23C14/34 , H01G5/04 , H01G5/06 , H01G5/16 , H01R24/38 , H01R24/40 , H03H7/38
Abstract: 提供一种用于将AC电源(20)与装置(30)连接的AC电力连接器。AC电力连接器包括可与AC电源连接的至少一个第一元件(11)以及可与装置连接的至少一个第二元件(12)，所述第一元件与所述第二元件相对于彼此以第一距离(13)布置以限定电容，其中所述至少一个第一元件与所述至少一个第二元件相对于彼此是可旋转的，其中所述第一元件与所述第二元件配置成用于所述至少一个第一元件与所述至少一个第二元件之间的AC电力的传送。
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公开(公告)号：CN110942971A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201911292689.9
申请日：2013-12-18
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开涉及AC电力连接器、溅射设备及其方法。提供一种用于将AC电源(20)与装置(30)连接的AC电力连接器。AC电力连接器包括可与AC电源连接的至少一个第一元件(11)以及可与装置连接的至少一个第二元件(12)，所述第一元件与所述第二元件相对于彼此以第一距离(13)布置以限定电容，其中所述至少一个第一元件与所述至少一个第二元件相对于彼此是可旋转的，其中所述第一元件与所述第二元件配置成用于所述至少一个第一元件与所述至少一个第二元件之间的AC电力的传送。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105580103B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201380079751.0
申请日：2013-09-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32 , C23C16/455
CPC classification number: C23C14/0042 , C23C14/544 , H01J37/32449 , H01J37/32981 , H01J37/3299
Abstract: 提供一种用于控制对工艺腔室(301)的气体供应的方法(200)。此方法(200)包括以下步骤：由在工艺腔室(301)中提供的两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的每一个测量(210)气体参数；从所测量的气体参数确定(220)组合的气体参数；以及基于所确定的组合的气体参数来控制(230)对工艺腔室(301)的气体供应。
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公开(公告)号：CN104160471B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201280071216.6
申请日：2012-03-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3414 , C23C14/35 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/342
Abstract: 本发明描述用于在腹板上沉积沉积材料的沉积设备及方法。沉积设备包括界定第一可旋转式溅射装置的第一轴的第一溅射装置支撑件、界定第二可旋转式溅射装置的第二轴的第二溅射装置支撑件及涂覆窗。第一溅射装置支撑件及第二溅射装置支撑件经调适成支撑第一可旋转式溅射装置及第二可旋转式溅射装置以在涂覆鼓上提供待沉积于腹板上的沉积材料的至少一组分。此外，第一轴与第二轴之间的距离小于200mm。
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公开(公告)号：CN105580103A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201380079751.0
申请日：2013-09-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32 , C23C16/455
CPC classification number: C23C14/0042 , C23C14/544 , H01J37/32449 , H01J37/32981 , H01J37/3299
Abstract: 提供一种用于控制对工艺腔室(301)的气体供应的方法(200)。此方法(200)包括以下步骤：由在工艺腔室(301)中提供的两个或更多个传感器(35、36、313、314)中的每一个测量(210)气体参数；从所测量的气体参数确定(220)组合的气体参数；以及基于所确定的组合的气体参数来控制(230)对工艺腔室(301)的气体供应。
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公开(公告)号：CN105378569A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201380078205.5
申请日：2013-07-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: G05B19/042
Abstract: 描述一种用于处理基板、特别是用于处理大面积基板的设备和方法。用于处理大面积基板的方法包括：以一传输速度传输处于基本上竖直地布置的状态的大面积基板通过用于处理大面积基板的设备的腔室布置；使用用于处理大面积基板的设备的处理装置来处理大面积基板；使用测量布置监测所述基本上竖直地布置的大面积基板的至少一个光学性质，其中所述基本上竖直地布置的大面积基板用漫射光来照射；以及基于所述大面积基板的所述监测到的至少一个光学性质来控制至少一个工艺参数。
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公开(公告)号：CN206858649U
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201490001521.2
申请日：2014-07-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： F·施纳朋伯格
CPC classification number: H01J37/3423 , C23C14/3407 , H01J37/3417 , H01J37/342 , H01J37/3435 , H01J37/347 , H01J37/3491
Abstract: 本实用新型公开了一种靶材布置和处理设备。描述了一种用于处理设备(105；107)的靶材布置(100；101；102；103；104；106)。所述靶材布置包括靶材支座(110)，所述靶材支座配置成用于支撑非平面靶材材料(120)，其中靶材支座(110)包括真空侧(130)和大气侧(140)。此外，描述了一种适用于靶材布置的处理设备。
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