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公开(公告)号：CN104428885B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201380034832.9
申请日：2013-07-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 振雄·马修·蔡 , 阿南塔克里希纳·朱普迪 , 罗伯特·丁斯莫尔 , 徐松文
IPC: H01L21/683 , H01L21/205 , C23C14/50
CPC classification number: H01J37/3447 , C23C14/0068 , H01J37/34
Abstract: 在此提供了挡板盘组件，所述挡板盘组件用于使用在处理腔室中，以保护设置于所述挡板盘组件之下的基板支撑件免于不希望的材料沉积。在一些实施方式中，用于使用在处理腔室中以保护设置于挡板盘组件之下的基板支撑件的一种挡板盘组件可包括：上盘构件，所述上盘构件具有顶表面和底表面；及下承载构件，所述下承载构件的至少一部分被设置于所述上盘构件的一部分之下，以支撑所述上盘构件并且产生保护性重叠区域，所述保护性重叠区域在所述上盘构件变形时防止所述基板支撑件的暴露。
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公开(公告)号：CN106489194A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201580036350.6
申请日：2015-06-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677
Abstract: 于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板；及第二接触表面，该第二接触表面由该第一接触表面延伸；其中该第二接触表面邻近该基板的周边以防止该基板的径向移动；其中该第一接触表面相关于该支撑构件处于第一角度，且该第二接触表面相关于该支撑构件处于第二角度；且其中该第一角度介于约3度与5度之间。
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公开(公告)号：CN105074867A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201380073717.2
申请日：2013-12-17
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01J37/32715 , C23C14/564 , H01J37/32477 , H01J37/32853 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3447
Abstract: 本文提供用于处理腔室中使用的挡板盘。在某些实施方式中，处理腔室中使用的挡板盘可包括具有外周的主体、主体的顶表面与主体的底表面，其中顶表面包括具有实质上水平的平坦表面的中央部分，以及由中央部分以径向向外设置的至少一个斜角结构，每个所述至少一个斜角结构具有顶部部分以及从顶部部分往外周在径向向外方向以向下角度设置的斜角表面。
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公开(公告)号：CN104428885A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201380034832.9
申请日：2013-07-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 振雄·马修·蔡 , 阿南塔克里希纳·朱普迪 , 罗伯特·丁斯莫尔 , 徐松文
IPC: H01L21/683 , H01L21/205 , C23C14/50
CPC classification number: H01J37/3447 , C23C14/0068 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供了挡板盘组件，所述挡板盘组件用于使用在处理腔室中，以保护设置于所述挡板盘组件之下的基板支撑件免于不希望的材料沉积。在一些实施方式中，用于使用在处理腔室中以保护设置于挡板盘组件之下的基板支撑件的一种挡板盘组件可包括：上盘构件，所述上盘构件具有顶表面和底表面；及下承载构件，所述下承载构件的至少一部分被设置于所述上盘构件的一部分之下，以支撑所述上盘构件并且产生保护性重叠区域，所述保护性重叠区域在所述上盘构件变形时防止所述基板支撑件的暴露。
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公开(公告)号：CN109727900B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201811152281.7
申请日：2015-06-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板；及第二接触表面，该第二接触表面由该第一接触表面延伸；其中该第二接触表面邻近该基板的周边以防止该基板的径向移动；其中该第一接触表面相关于该支撑构件处于第一角度，且该第二接触表面相关于该支撑构件处于第二角度；且其中该第一角度介于约3度与5度之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115380358A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202180024130.7
申请日：2021-03-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/677
Abstract: 一种清洁用于电子制造系统的腔室的方法包括使包含氧气和载气的气体混合物流入远程等离子体产生器中。方法进一步包括通过远程等离子体产生器由气体混合物产生等离子体并且通过使等离子体流入腔室的内部体积中来执行腔室的远程等离子体清洁，其中等离子体从腔室移除复数种有机污染物。
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公开(公告)号：CN109727900A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811152281.7
申请日：2015-06-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板；及第二接触表面，该第二接触表面由该第一接触表面延伸；其中该第二接触表面邻近该基板的周边以防止该基板的径向移动；其中该第一接触表面相关于该支撑构件处于第一角度，且该第二接触表面相关于该支撑构件处于第二角度；且其中该第一角度介于约3度与5度之间。
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公开(公告)号：CN105723504A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201480062960.9
申请日：2014-12-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68757 , B25J11/0095 , B25J15/0014 , H01L21/68707 , H01L21/6875
Abstract: 于此披露了用于支撑基板的设备的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的设备包括：支撑表面；和多个基板接触元件，所述多个基板接触元件从所述支撑表面突出，其中所述多个基板接触元件由一材料形成，所述材料具有小于或等于硅的硬度的硬度，具有低附着性，具有大到足以防止滑动的静磨擦系数，具有小于或等于10Ra的表面粗糙度，且为导电性的。
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公开(公告)号：CN115515750A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202180030694.1
申请日：2021-04-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 郭渊泓 , 郭晟 , 马雷克·W·拉德科 , 史蒂芬·维克托·桑索尼 , 纳根德拉·马迪瓦 , 马特维·法伯 , 勾平平 , 徐松文 , 杰弗里·C·赫金斯 , 村山祐二 , 阿努拉·邦萨尔 , 陈少锋 , 迈克尔·库查尔
IPC: B24B27/033 , B23P23/04
Abstract: 一种方法包括接收包括原始表面的金属部件，此原始表面包括金属基底、设置在此金属基底上的第一本征氧化物和设置在此金属基底上的烃。此方法进一步包括对此金属部件的此原始表面进行加工，以自此金属基底移除此第一本征氧化物和移除此烃的第一部分。此加工产生此金属部件的加工表面，此加工表面包括不具有此第一本征氧化物且不具有此烃的此第一部分的金属基底。此方法进一步包括执行对此金属部件的此加工表面的表面加工，以移除此烃的第二部分。此方法进一步包括对此金属部件进行表面处理，以移除此烃的第三部分。此方法进一步包括执行对此金属部件的清洁和干燥此金属部件。
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公开(公告)号：CN109599319A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811141799.0
申请日：2013-12-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文提供用于处理腔室中使用的挡板盘。在某些实施方式中，处理腔室中使用的挡板盘可包括具有外周的主体、主体的顶表面与主体的底表面，其中顶表面包括具有实质上水平的平坦表面的中央部分，以及由中央部分以径向向外设置的至少一个斜角结构，每个所述至少一个斜角结构具有顶部部分以及从顶部部分往外周在径向向外方向以向下角度设置的斜角表面。
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