多量子位电路的频率分配
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112074848B

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN201980029920.7

    申请日:2019-05-28

    Abstract: 提供了促进多量子位电路中的频率分配的技术。在一个示例中,一种计算机实施的方法包括:通过在对应的频率偏移处进行对应的量子位芯片配置的模拟,由操作地耦联到处理器上的装置来确定与对应的量子位芯片配置相关联的估算的制造产量;以及由该器件基于与这些对应的量子位芯片配置相关联的该估算的制造产量从这些对应的量子位芯片配置中选择量子位芯片配置。

    多量子位电路的频率分配
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112074848A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201980029920.7

    申请日:2019-05-28

    Abstract: 提供了促进多量子位电路中的频率分配的技术。在一个示例中,一种计算机实施的方法包括:通过在对应的频率偏移处进行对应的量子位芯片配置的模拟,由操作地耦联到处理器上的装置来确定与对应的量子位芯片配置相关联的估算的制造产量;以及由该器件基于与这些对应的量子位芯片配置相关联的该估算的制造产量从这些对应的量子位芯片配置中选择量子位芯片配置。

    用于传输量子位的垂直超导电容器

    公开(公告)号:CN111201622A

    公开(公告)日:2020-05-26

    申请号:CN201780095757.5

    申请日:2017-12-19

    Abstract: 一种垂直q电容器(202,302,700,1100,1400,1800)包括穿过超导材料(402)的层(602,1302,1304)的衬底(400)中的沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)。超导体沉积在沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)中,在沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)的第一表面上形成第一膜,在第二表面上形成第二膜,并且在第三表面上形成所述超导体的第三膜。所述第一表面和所述第二表面基本上平行,并且沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)中的所述第三表面将所述第一表面和所述第二表面分开。通过蚀刻暴露所述第三膜下方的电介质。在所述第一膜和超导量子逻辑电路中的第一接触之间形成第一耦合,在所述第二膜和所述超导量子逻辑电路中的第二接触之间形成第二耦合。所述第一耦合和所述第二耦合使得所述第一膜和所述第二膜操作为垂直q电容器(202,302,700,1100,1400,1800),所述垂直q电容器(202,302,700,1100,1400,1800)将所述超导量子逻辑电路中的数据的完整性保持在阈值水平内。

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