-
-
-
-
公开(公告)号:CN111295678B
公开(公告)日:2023-07-28
申请号:CN201880070681.5
申请日:2018-10-19
Applicant: 国际商业机器公司
Abstract: 一种电容性耦合装置(超导C耦合器)包括从衬底的背侧穿过衬底到达衬底中的深度而被形成的沟槽,该深度基本上垂直于衬底的前侧上的制造平面,该深度小于衬底的厚度。超导材料作为连续导电通孔层被沉积在沟槽中,其中沟槽中通孔层的表面之间的空间保持从背侧可接近。在前侧上形成超导焊盘,超导焊盘与在前侧上被制造的量子逻辑电路元件耦合。在背侧上形成通孔层的延伸部。延伸部耦合到在背侧上被制造的量子读出电路元件。
-
-
公开(公告)号:CN111201622A
公开(公告)日:2020-05-26
申请号:CN201780095757.5
申请日:2017-12-19
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L39/22
Abstract: 一种垂直q电容器(202,302,700,1100,1400,1800)包括穿过超导材料(402)的层(602,1302,1304)的衬底(400)中的沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)。超导体沉积在沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)中,在沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)的第一表面上形成第一膜,在第二表面上形成第二膜,并且在第三表面上形成所述超导体的第三膜。所述第一表面和所述第二表面基本上平行,并且沟槽(304,502,902,1202,1204,1602)中的所述第三表面将所述第一表面和所述第二表面分开。通过蚀刻暴露所述第三膜下方的电介质。在所述第一膜和超导量子逻辑电路中的第一接触之间形成第一耦合,在所述第二膜和所述超导量子逻辑电路中的第二接触之间形成第二耦合。所述第一耦合和所述第二耦合使得所述第一膜和所述第二膜操作为垂直q电容器(202,302,700,1100,1400,1800),所述垂直q电容器(202,302,700,1100,1400,1800)将所述超导量子逻辑电路中的数据的完整性保持在阈值水平内。
-
-
-
-
-
-