含金属粒子的组合物
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109562493A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201780048680.6

    申请日:2017-07-31

    Abstract: 提供一种能在相对低温下进行电子部件等金属间的高强度接合的含金属粒子的组合物。一种含金属粒子的组合物,其特征在于,由包含金属元素(M)的金属微粒(P1)、低熔点金属粉(P2)和活化剂(A)构成,所述包含金属元素(M)的金属微粒(P1)的一次颗粒的粒径为1nm以上且500nm以下,并且块体熔点超过420℃;所述低熔点金属粉(P2)由熔点为420℃以下的金属或合金构成,并且不可避免地含有氧;所述活化剂(A)在分子结构中包含一个以上的能与氧原子结合而不随之生成水的磷或硫。

    铜系合金线材
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108368565A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201780004396.9

    申请日:2017-05-15

    Abstract: 本发明的目的在于提供兼具高拉伸强度、高柔软性、高导电率及高耐弯曲疲劳性的铜合金线材。本发明的铜合金线材的特征在于,具有如下化学组成:含有Ag:0.1~6.0质量%、P:0~20质量ppm,余量由铜及不可避免的杂质构成;且在线材的平行于长度方向的截面中,纵横比大于等于1.5且和线材长度方向垂直的方向的尺寸小于等于200nm的第二相粒子的个数密度大于等于1.4个/μm2。

    贴合体
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113921448B

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202111184223.4

    申请日:2017-11-09

    Abstract: 本发明提供连接耐热性充分且可靠性高、将半导体元件与基板接合的接合工序简便的接合膜和贴合体。所述贴合体的特征在于,使具有基材膜和设于该基材膜上的粘合剂层的粘合膜、用于将半导体元件与基板接合的接合膜、以及半导体晶片贴合而成,所述接合膜具有将包含金属微粒(P)的导电性浆料以膜状成形而得的导电性接合层、和具有粘性且层叠于所述导电性接合层的粘性层,所述导电性接合层贴合于所述粘合剂层,所述半导体晶片贴合于所述粘性层。所述粘性层是可热分解的,并且所述粘性层包含使金属微粒(P)还原的物质,粘性层因接合时的加热而将所述粘性层热分解,所述导电性接合层的所述金属微粒发生烧结,由此将所述半导体元件与所述基板接合。

    贴合体
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113921448A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111184223.4

    申请日:2017-11-09

    Abstract: 本发明提供连接耐热性充分且可靠性高、将半导体元件与基板接合的接合工序简便的接合膜和贴合体。所述贴合体的特征在于,使具有基材膜和设于该基材膜上的粘合剂层的粘合膜、用于将半导体元件与基板接合的接合膜、以及半导体晶片贴合而成,所述接合膜具有将包含金属微粒(P)的导电性浆料以膜状成形而得的导电性接合层、和具有粘性且层叠于所述导电性接合层的粘性层,所述导电性接合层贴合于所述粘合剂层,所述半导体晶片贴合于所述粘性层。所述粘性层是可热分解的,并且所述粘性层包含使金属微粒(P)还原的物质,粘性层因接合时的加热而将所述粘性层热分解,所述导电性接合层的所述金属微粒发生烧结,由此将所述半导体元件与所述基板接合。

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