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公开(公告)号：CN101641281B
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN200880007687.4
申请日：2008-03-14
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B82Y10/00 , B81C99/009 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7084 , Y10T428/24479
Abstract: 一种用于将图案压印到待处理部件上的模具由以下构成：具有前表面和后表面的模具体，在所述前表面处形成所述图案，所述后表面与所述前表面相对；用于覆盖所述模具体的前表面的涂层；和用于覆盖所述模具体的后表面的涂层。所述用于覆盖所述模具体的后表面的涂层在所述模具体的后表面处部分地具有开口。
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公开(公告)号：CN101681095B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200880016608.6
申请日：2008-05-22
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/0017 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 一种图案形成方法，包括：在形成于基材上的薄膜的表面上形成抗蚀剂的图案的步骤；在抗蚀剂的图案上形成反转层的步骤；通过在去除反转层以露出抗蚀剂的表面之后去除抗蚀剂、形成与抗蚀剂的图案互补的反转层的反转图案的步骤；通过以反转层的反转图案为掩模蚀刻薄膜、形成包含其上形成反转层的薄膜的硬掩模层的步骤；以及以其上保留反转层的硬掩模层或其上已去除反转层的硬掩模层作为掩模蚀刻基材的步骤。
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公开(公告)号：CN101632040B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200880007974.5
申请日：2008-03-17
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B29C35/0888 , B29C37/0053 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C43/58 , B29C2035/0827 , B29C2043/025 , B29C2043/3634 , B29C2043/5833 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01J37/026 , H01J2237/0042 , H01J2237/0047
Abstract: 一种压印方法包括以下步骤：在模具的压印图案与树脂材料接触或接近的状态下，对基板上所形成的树脂材料进行固化；以及将所述模具从所述固化的树脂材料分开。在以用于使得放置有所述模具和所述固化的树脂材料的气氛中的气体分子离子化的电磁波照射形成所述模具的压印图案的整个区域以及固化的树脂材料的同时，实现所述分开。
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公开(公告)号：CN101604124B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200910140939.7
申请日：2006-06-07
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种用于形成图案的图案形成方法，包括：制备模子(104)，该模子(104)具有包括图案区域(1000)的第一表面、与第一表面相对的第二表面以及被设在远离第二表面并靠近第一表面的位置处的对准标记(2070)；使模子(104)的图案区域(1000)与设在衬底(5000)上的涂覆材料接触；在涂覆材料被设于衬底(5000)上的对准标记(2070)和衬底(5000)彼此相对的部分处的情况下，通过利用对准标记(2070)和在衬底(5000)上设置的标记(5300)，来获得关于模子(104)和衬底(5000)的位置信息；以及在所述信息的基础上，实施衬底(5000)与模子(104)的高精度对准；相应的模子以及图案形成设备。
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公开(公告)号：CN101641281A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200880007687.4
申请日：2008-03-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B81C99/009 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7084 , Y10T428/24479
Abstract: 一种用于将图案压印到待处理部件上的模具由以下构成：具有前表面和后表面的模具体，在所述前表面处形成所述图案，所述后表面与所述前表面相对；用于覆盖所述模具体的前表面的涂层；和用于覆盖所述模具体的后表面的涂层。所述用于覆盖所述模具体的后表面的涂层在所述模具体的后表面处部分地具有开口。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102741155B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201180005841.6
申请日：2011-01-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1642
Abstract: 一种硅基板的加工方法，其包括：设置第一硅基板、第二硅基板和包括多个凹部的中间层的组合，所述中间层设置在第一硅基板和第二硅基板之间；在第一硅基板的与中间层的接合面相对的表面上，通过使用第一掩模，进行第一硅基板的蚀刻而形成贯通第一硅基板的第一贯通口，并露出对应于中间层的多个凹部的中间层部分；通过去除构成多个凹部的底部的部分而在中间层上形成多个开口；和借助使用在其上形成多个开口的中间层作为掩模，通过进行第二硅基板的第二蚀刻而形成贯通第二硅基板的第二贯通口。
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公开(公告)号：CN101765809A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200880100985.8
申请日：2008-08-01
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种用于将模具的图案压印到基板上的树脂材料上的压印方法包括：通过使模具与在基板上形成的树脂材料相接触而形成第一处理区域和在第一处理区域的周边的树脂材料的外侧区域的步骤，其中在所述第一处理区域中形成与模具的图案相对应的压印图案；在第一处理区域上形成用于保护第一处理区域的第一保护层的步骤；以及在第一处理区域中的树脂材料层上形成的压印图案受到第一保护层保护从而不被去除的同时去除外侧区域中的树脂材料层的步骤。
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公开(公告)号：CN1928711B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610128187.9
申请日：2006-09-06
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种模具，它即使在可光固化的树脂材料设置于模具与待处理的部件之间的状态下也能够高精度地实现模具和待处理的部件的校准，该模具通过一个由第一材料形成的基板(2010)和一个由不同于第一材料的第二材料形成的校准标记(2102)构成。第一材料和第二材料具有对于在一部分紫外线波长范围内的光线的透射性。第二材料具有不小于1.7的折射率。
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公开(公告)号：CN101667555A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200910175121.9
申请日：2006-12-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/768
Abstract: 提供一种用于制造半导体器件的方法，其中很容易控制布线沟槽和通孔在深度方向上的长度。在衬底上制备具有第一绝缘膜的部件，并在上述第一绝缘膜上设置一层。在上述的层上压印具有图形的模型，以便形成具有布线沟槽和第一通孔的第二绝缘膜，该图形对应于布线沟槽和第一通孔。之后，通过使用上述的第二绝缘膜作为掩模蚀刻上述的第一绝缘膜，以便在第一绝缘膜中形成连接到第一通孔的第二通孔。
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公开(公告)号：CN101604124A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200910140939.7
申请日：2006-06-07
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种用于形成图案的图案形成方法，包括：制备模子(104)，该模子(104)具有包括图案区域(1000)的第一表面、与第一表面相对的第二表面以及被设在远离第二表面并靠近第一表面的位置处的对准标记(2070)；使模子(104)的图案区域(1000)与设在衬底(5000)上的涂覆材料接触；在涂覆材料被设于衬底(5000)上的对准标记(2070)和衬底(5000)彼此相对的部分处的情况下，通过利用对准标记(2070)和在衬底(5000)上设置的标记(5300)，来获得关于模子(104)和衬底(5000)的位置信息；以及在所述信息的基础上，实施衬底(5000)与模子(104)的高精度对准；相应的模子以及图案形成设备。
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