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公开(公告)号：CN102053490B
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201010539354.5
申请日：2007-04-18
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/703 , G03F9/7049 , G03F9/7088
摘要： 本发明涉及一种压印设备，其执行印模和基片之间的对准并将印模的图案压印到基片的层上，该压印设备包括：支撑部，被配置为支撑印模；工作台，被配置为与支撑部支撑的印模相对地支撑基片；和显微镜，包含图像拾取装置，显微镜被配置为经由图像拾取装置的第一图像拾取区域检测具有第一周期性结构并且形成在印模中的第一对准标记，以及经由图像拾取装置的第二图像拾取区域检测具有第二周期性结构并且形成在印模中的第二对准标记，第一和第二图像拾取区域彼此不重叠，其中，压印设备被配置为使得通过将经由第一图像拾取区域检测到的第一对准标记的基频分量与经由第二图像拾取区域检测到的第二对准标记的基频分量数值相乘而获得莫尔条纹的相位。
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公开(公告)号：CN101822530B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201010123799.5
申请日：2010-03-02
申请人： 佳能株式会社
发明人： 末平信人
CPC分类号： G01B9/02044 , A61B3/102 , A61B5/0066 , A61B5/0073 , G01B9/02063 , G01B9/02078 , G01B9/02085 , G01B9/02091 , G01N21/4795
摘要： 本发明公开一种光学相干层析摄影方法和光学相干层析摄影装置。根据本发明的光学相干层析摄影方法包括以下步骤：将待测对象分成沿测量光的照射方向彼此相邻的多个测量区域，并且基于相干光的波长谱对于每个测量区域获取测量图像；对于每个测量区域，校正测量区域的测量图像的对比度；以及对于每个测量区域，从校正的测量图像获取层析摄影图像。
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公开(公告)号：CN101566795B
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN200910203848.3
申请日：2006-06-07
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/768
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： 本发明涉及用于生产芯片的加工设备、加工方法和工艺。其中，包括一种压印方法，用于通过采用具有图形的模子在刚性衬底或刚性衬底上的图形形成材料上形成压印的图形，该方法包括：通过能沿与地心引力方向相反的方向移动的支承部分、向上推压被保持以致能够由于自身重量而弯曲的衬底，以便减小沿着地心引力方向的弯曲量，从而在衬底上形成压印的图形。
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公开(公告)号：CN101604124B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200910140939.7
申请日：2006-06-07
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明提供一种用于形成图案的图案形成方法，包括：制备模子(104)，该模子(104)具有包括图案区域(1000)的第一表面、与第一表面相对的第二表面以及被设在远离第二表面并靠近第一表面的位置处的对准标记(2070)；使模子(104)的图案区域(1000)与设在衬底(5000)上的涂覆材料接触；在涂覆材料被设于衬底(5000)上的对准标记(2070)和衬底(5000)彼此相对的部分处的情况下，通过利用对准标记(2070)和在衬底(5000)上设置的标记(5300)，来获得关于模子(104)和衬底(5000)的位置信息；以及在所述信息的基础上，实施衬底(5000)与模子(104)的高精度对准；相应的模子以及图案形成设备。
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公开(公告)号：CN101625319B
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200910140237.9
申请日：2009-07-09
申请人： 佳能株式会社
发明人： 末平信人
CPC分类号： A61B3/1005 , A61B3/102 , G01B9/02044 , G01B9/02057 , G01B9/02091 , G01B11/0625 , G01B11/0675
摘要： 本发明公开了一种多层结构测量方法和多层结构测量设备。根据本发明的断层图像测量方法包括：第一步，从波数谱计算与每个层厚度的光学距离对应的信息；第二步，从与每个层厚度的光学距离对应的信息分离并提取每层的信息；第三步，分别将每层的信息再转换为波数谱；第四步，从第三步的结果获得干涉波数；第五步，从干涉波数和每层的光学距离计算干涉级；和第六步，利用干涉级为整数的事实计算每层的光学距离。从而，当使用离散傅立叶变换时，层的测量精确性得到改进。
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公开(公告)号：CN101625319A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200910140237.9
申请日：2009-07-09
申请人： 佳能株式会社
发明人： 末平信人
CPC分类号： A61B3/1005 , A61B3/102 , G01B9/02044 , G01B9/02057 , G01B9/02091 , G01B11/0625 , G01B11/0675
摘要： 本发明公开了一种多层结构测量方法和多层结构测量设备。根据本发明的断层图像测量方法包括：第一步，从波数谱计算与每个层厚度的光学距离对应的信息；第二步，从与每个层厚度的光学距离对应的信息分离并提取每层的信息；第三步，分别将每层的信息再转换为波数谱；第四步，从第三步的结果获得干涉波数；第五步，从干涉波数和每层的光学距离计算干涉级；和第六步，利用干涉级为整数的事实计算每层的光学距离。从而，当使用离散傅立叶变换时，层的测量精确性得到改进。
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公开(公告)号：CN101427185A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200780013834.4
申请日：2007-04-18
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 在用于进行两个板状物之间的对准的对准方法中，将配置有第一对准标记的第一板状物和配置有第二对准标记的第二板状物相互相对放置。将第一区域和第二区域布置在通过图像拾取装置所观察的图像拾取区域中相互不重叠的位置处。从基本上与第一和第二板状物的平面内方向垂直的方向，通过图像拾取装置，拾取第一和第二对准标记的图像。通过使用第一对准标记相对于第一区域中的预定位置的偏移的第一信息和第二对准标记相对于第二区域中的预定位置的偏移的第二信息，来进行对准控制。
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公开(公告)号：CN103393399B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310330277.6
申请日：2009-07-06
申请人： 佳能株式会社
发明人： 末平信人
CPC分类号： A61B3/102 , A61B3/1025 , A61B5/0066 , A61B5/0073 , A61B5/7257 , G01N21/4795
摘要： 本发明涉及使用光学相干层析成像法的成像设备和成像方法。提供了使用傅里叶域光学相干层析成像法的成像设备，该成像设备去除由返回光的自相关成分所引起的噪声，以便获得高分辨率的层析图像。第一切换单元17对返回光12与参考光合成的第一状态（将返回光12引导到合成单元22的状态）和与第一状态不同的第二状态（阻挡或改变返回光12的光路的状态）进行切换。控制单元18控制切换单元17以便改变第一状态和第二状态。干涉信息获取单元19使用由检测单元16在第二状态中检测的参考光14或返回光12以及合成光15来获取关于返回光12和参考光14的干涉信息。
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