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公开(公告)号：CN1682339B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN03822079.2
申请日：2003-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32431
Abstract: 本发明提出了用于等离子体工艺系统的一种改进的挡板，其中挡板的设计和制作在工艺空间内方便地提供了一个均匀的工艺等离子体，以及基本上最小地腐蚀挡板。
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公开(公告)号：CN100508103C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN03822376.7
申请日：2003-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32477
Abstract: 本发明提供了一种用于等离子体加工系统的改进的波纹管罩，其中结合到基底座电极的该波纹管罩的设计和制作通过实质使波纹管罩的侵蚀最小化从而有利地对波纹管提供了保护。
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公开(公告)号：CN100424811C
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN03822259.0
申请日：2003-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32009 , C23C16/4404 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , Y10S156/916
Abstract: 本发明提供改进的用于等离子加工系统的上电极，其中有关带有连接至上电极的沉积罩的电极板的设计和制作有利地提供对上电极腐蚀充分小的加工气体的气体注入，同时提供对室内部的保护。
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公开(公告)号：CN100380564C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN03822206.X
申请日：2003-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32633 , H01J37/32623 , H01J37/32834
Abstract: 本申请涉及用于等离子体处理系统中的改进的折流板的方法和设备。本发明提出了一种用于等离子体处理器系统的改进的折流板，其中，折流板的设计和制造能够有利地在处理空间中提供均匀的处理等离子体，并且对折流板的腐蚀程度最小。
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公开(公告)号：CN1516535A
公开(公告)日：2004-07-28
申请号：CN200310115779.3
申请日：2003-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/00 , B01J19/02 , C23C4/10 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/24 , C23C16/4404 , H01J37/32477 , Y10T428/249969 , Y10T428/24997 , Y10T428/31544 , Y10T428/31663 , Y10T428/31721
Abstract: 本发明提供一种可抑制形成为掺杂涂层的喷镀膜剥离的等离子体处理容器内部件。它是在基材(71)与喷镀膜(72)之间，由对含卤素处理气体的耐腐蚀性好的材料形成屏蔽生涂层(73)，通过树脂或溶胶凝胶法对该屏蔽性涂层(73)进行封孔处理。
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公开(公告)号：CN111433900B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201880078170.8
申请日：2018-11-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置，其一边使光入射到形成于被检查体的摄像器件，一边使接触端子与该摄像器件的布线层电接触，来检测该摄像器件，摄像器件是从背面入射光的部件，该背面是与设置有布线层的一侧相反的一侧的面，该检查装置包括：载置台，其能够以与摄像器件的背面相对的方式载置被检查体，并由光透射材料形成；和光照射机构，其以将载置台间隔在中间的方式与被检查体相对地配置，具有面向被检查体的多个LED。
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公开(公告)号：CN111433900A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201880078170.8
申请日：2018-11-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置，其一边使光入射到形成于被检查体的摄像器件，一边使接触端子与该摄像器件的布线层电接触，来检测该摄像器件，摄像器件是从背面入射光的部件，该背面是与设置有布线层的一侧相反的一侧的面，该检查装置包括：载置台，其能够以与摄像器件的背面相对的方式载置被检查体，并由光透射材料形成；和光照射机构，其以将载置台间隔在中间的方式与被检查体相对地配置，具有面向被检查体的多个LED。
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公开(公告)号：CN101582378B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200910145487.1
申请日：2005-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G05B19/04
Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
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公开(公告)号：CN101800187A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010113903.2
申请日：2010-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67069 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/67213 , H01L21/67742 , H01L21/6831
Abstract: 本发明提供一种搬送腔室和颗粒附着防止方法，其能够不损害被处理基板地对被处理基板进行除电，防止由静电力造成的颗粒向被处理基板的附着。在基板处理系统(1)中，在基板处理部(2)和大气系统搬送部(3)之间设置的搬送腔室(4)具备收纳作为被处理基板的晶片(W)的腔室主体(51)。腔室主体(51)能够通过给气系统(52)和排气装置(53)在减压环境和大气压环境之间切换。给气系统(52)在腔室主体(51)的外侧具备产生离子化气体的离子化装置(60)。将在离子化装置(60)产生的离子化气体供向腔室主体(51)，对收纳于腔室主体(51)的晶片(W)进行除电。
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公开(公告)号：CN101546705A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910009403.1
申请日：2009-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , G01N21/66 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32642 , H01J37/32467 , H01J37/32623 , H01J37/32963
Abstract: 本发明提供一种能够精确地检测腔室内部件的寿命，并能够防止由交换没有达到寿命的部件而引起的浪费、以及由于继续使用已经过寿命的部件而引起故障的发生的腔室内部件。用于等离子体处理装置的聚焦环(26)等的腔室内部件，使用组装有该腔室内部件的基板处理装置(10)对晶片(W)进行RIE处理，其中，该腔室内部件由与构成材料不同的元素、例如钪(Sc)构成的寿命检测元素层(51、52)，利用等离子体发光分光器(46)对处理气体中的发光光谱进行监视，通过检测由寿命检测元素层(51、52)引起的光谱来检测聚焦环(26)等的腔室内部件的寿命。
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