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公开(公告)号：CN1790616A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510118834.3
申请日：2005-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , G05B19/04 , C23C14/22 , C23C16/44 , C23F4/00 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
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公开(公告)号：CN101989559A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN201010233770.2
申请日：2010-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6734 , H01L21/682 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种能使对基板进行对位的容器内的用于基板对位的空间尽量缩小的基板对位机构、使用其的真空预备室和基板处理系统。在收容基板(G)的容器(81)内对支承在基板支承部(96、97、98)上的基板(G)进行对位的基板对位机构(86)具有通过转动而与容器(81)内的基板(G)的端面接触的对位构件(132)。
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公开(公告)号：CN101582378B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200910145487.1
申请日：2005-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G05B19/04
Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
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公开(公告)号：CN1574270A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410031053.6
申请日：2004-04-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/68 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C14/00 , C23C16/00 , H01J3/00 , H01J19/00 , H01J37/00
CPC classification number: H01L21/67207 , C23C16/54 , H01L21/67063 , H01L21/67069 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67201
Abstract: 本发明涉及用于处理待处理物体的处理设备、处理方法、压力控制方法、被处理物体传送方法以及传送设备。提供了一种可以有效地进行多个处理的被处理物体处理设备。多个处理系统可连通地在一线连接在一起并在其中处理被处理物体。负载锁定系统可连通地连接到处理系统并具有将被处理物体送进和送出每个处理系统的传送机构。至少一个处理系统是真空处理系统，负载锁定系统设置在适当的位置以与处理系统形成一线。
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公开(公告)号：CN101989559B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201010233770.2
申请日：2010-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6734 , H01L21/682 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种能使对基板进行对位的容器内的用于基板对位的空间尽量缩小的基板对位机构、使用其的真空预备室和基板处理系统。在收容基板(G)的容器(81)内对支承在基板支承部(96、97、98)上的基板(G)进行对位的基板对位机构(86)具有通过转动而与容器(81)内的基板(G)的端面接触的对位构件(132)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100521083C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200710141911.6
申请日：2004-04-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , C23C16/455 , C23C16/54
CPC classification number: H01L21/67207 , C23C16/54 , H01L21/67063 , H01L21/67069 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67201
Abstract: 本发明提供一种用于被处理物体处理设备的压力控制方法，该方法包括：送入步骤，将负载锁定系统置入大气压力状态中和将未进行COR处理的被处理物体从装载器组件传送到负载锁定系统，同时对热处理系统排气；负载锁定系统排气步骤，终止热处理系统的排气，且对负载锁定系统进行排气使其压力下降到设定压力；热处理系统排气步骤，在负载锁定系统已经达到设定压力之后，终止负载锁定系统的排气，并对热处理系统进行排气，以便满足热处理系统内部的压力低于负载锁定系统内部的压力的条件；以及第一连通步骤，在已经满足热处理系统内部的压力低于负载锁定系统内部的压力的条件之后，使负载锁定系统与热处理系统连通，同时继续对热处理系统进行排气。
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公开(公告)号：CN101101866A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710141911.6
申请日：2004-04-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , C23C16/455 , C23C16/54
CPC classification number: H01L21/67207 , C23C16/54 , H01L21/67063 , H01L21/67069 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67201
Abstract: 本发明提供一种用于被处理物体处理设备的压力控制方法，该方法包括：送入步骤，将负载锁定系统置入大气压力状态中和将未进行COR处理的被处理物体从装载器组件传送到负载锁定系统，同时对热处理系统排气；负载锁定系统排气步骤，终止热处理系统的排气，且对负载锁定系统进行排气使其压力下降到设定压力；热处理系统排气步骤，在负载锁定系统已经达到设定压力之后，终止负载锁定系统的排气，并对热处理系统进行排气，以便满足热处理系统内部的压力低于负载锁定系统内部的压力的条件；以及第一连通步骤，在已经满足热处理系统内部的压力低于负载锁定系统内部的压力的条件之后，使负载锁定系统与热处理系统连通，同时继续对热处理系统进行排气。
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公开(公告)号：CN101582378A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910145487.1
申请日：2005-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G05B19/04
Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
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公开(公告)号：CN100524609C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200510118834.3
申请日：2005-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , G05B19/04 , C23C14/22 , C23C16/44 , C23F4/00 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
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公开(公告)号：CN100342518C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200410031053.6
申请日：2004-04-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/68 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C14/00 , C23C16/00 , H01J3/00 , H01J19/00 , H01J37/00
CPC classification number: H01L21/67207 , C23C16/54 , H01L21/67063 , H01L21/67069 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67201
Abstract: 本发明涉及用于处理待处理物体的处理设备、处理方法、压力控制方法、被处理物体传送方法以及传送设备。提供了一种可以有效地进行多个处理的被处理物体处理设备。多个处理系统可连通地在一线连接在一起并在其中处理被处理物体。负载锁定系统可连通地连接到处理系统并具有将被处理物体送进和送出每个处理系统的传送机构。至少一个处理系统是真空处理系统，负载锁定系统设置在适当的位置以与处理系统形成一线。
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