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公开(公告)号：CN1978356B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200610164202.5
申请日：2006-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明的目的是输送基板以使得在玻璃基板上的涂敷膜上不产生不均性。在抗蚀剂涂敷处理组件的台的前后，设有第1输送体和第2输送体。第2输送体具有在Y方向上排列的多个辊、支承辊的保持器、和安装保持器的轨道板。在保持器上设有使辊旋转的旋转驱动部、和使保持器沿Y方向进退的水平驱动部。在台上设有相互独立而升降自如的升降销组。在通过升降销组使玻璃基板上升的状态下，使辊进入到玻璃基板的下方，将玻璃基板交接给该辊。辊一边旋转而以低速将玻璃基板向后方输送，一边后退。
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公开(公告)号：CN102161027A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110041215.4
申请日：2011-02-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括：喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括：能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。
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公开(公告)号：CN101211756A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200710160567.5
申请日：2007-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/00 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。
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公开(公告)号：CN116806172A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202280012626.7
申请日：2022-01-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 太田义治
IPC: B05C5/00
Abstract: 本发明的液滴释放装置对工件释放功能液的液滴来进行描绘，并包括多个液滴释放头和滑架，上述多个液滴释放头具有释放第一功能液的第一液滴释放头、释放第二功能液的第二液滴释放头和释放第三功能液的第三液滴释放头，上述滑架沿着印刷方向配置有两个，上述第一液滴释放头配置在第一滑架，上述第二液滴释放头配置在上述第一滑架和第二滑架的每一者，上述第三液滴释放头配置在上述第二滑架，上述第一液滴释放头、上述第二液滴释放头和上述第三液滴释放头在与上述印刷方向交叉的方向上设置有多个。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107871827B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201710863834.9
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 太田义治
Abstract: 提供能够缓和扫描方向上的液滴的着陆位置的允许误差的涂敷装置。其包括：具有多个在第一方向上排列设置有多个喷嘴的头部件的排出组件；保持基板的基板保持部；和在与上述第一方向交叉的第二方向上使上述排出组件和上述基板保持部相对移动的移动机构，上述排出组件从上述喷嘴向隔堤的开口部排出发光材料的液滴，上述隔堤作为上述开口部包括在上述第二方向上以规定的顺序排列的第一开口部、第二开口部和第三开口部，上述第一开口部与上述第二开口部和上述第三开口部相比，上述第二方向的尺寸较小，将彼此相邻的上述第二开口部和上述第三开口部在上述第二方向上隔开的隔壁部的厚度小于在上述第二方向上夹着上述第一开口部的2个隔壁部各自的厚度。
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公开(公告)号：CN107193185B
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201710149843.1
申请日：2017-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板，照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外，光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。
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公开(公告)号：CN103105739A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210443842.5
申请日：2012-11-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 太田义治
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，调整在基板面内被设定为微小的每个区域的曝光量，提高显影处理后抗蚀剂残膜的均匀性并抑制布线图案的线宽与间距的参差不同。该曝光装置（1）使基板台（2）上的基板（G）和原版台（3）上的原版（M）同步移动，并将上述原版的图案曝光在上述基板上，其包括：设置于上述基板台的上方对上述基板的局部照射光的局部曝光部（20）；和控制上述局部曝光部的发光驱动的控制部（40），该局部曝光部包括：多个发光元件（L），其在基板宽度方向上以线状排列，能够对由上述基板台移动的上述基板照射光；和发光驱动部（25），其将上述多个发光元件当中的一个或多个发光元件作为发光控制单位能够有选择性地进行发光驱动。
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公开(公告)号：CN102314093A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110184492.0
申请日：2011-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70291 , H01L27/1288
Abstract: 本发明提供能够提高在基板面内的显影处理后的抗蚀剂残膜的均匀性、并对布线图案的线宽以及间距的偏差进行抑制的局部曝光装置和局部曝光方法。局部曝光装置包括：基板输送部件；腔室，其用于形成对被处理基板进行曝光处理的空间；光源，其具有沿与基板输送方向交叉的方向线状排列的多个发光元件，能够利用发光元件的发光对在下方输送的被处理基板上的感光膜照射光；发光驱动部，能够将构成光源的多个发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；基板检测部件，其对被基板输送部件输送的被处理基板进行检测；控制部，其被供给基板检测部件的基板检测信号，并且控制由发光驱动部进行的发光元件的驱动。
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公开(公告)号：CN1978356A
公开(公告)日：2007-06-13
申请号：CN200610164202.5
申请日：2006-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明的目的是输送基板以使得在玻璃基板上的涂敷膜上不产生不均。在抗蚀剂涂敷处理组件的台的前后，设有第1输送体和第2输送体。第2输送体具有在Y方向上排列的多个辊、支承辊的保持器、和安装保持器的轨道板。在保持器上设有使辊旋转的旋转驱动部、和使保持器沿Y方向进退的水平驱动部。在台上设有相互独立而升降自如的升降销组。在通过升降销组使玻璃基板上升的状态下，使辊进入到玻璃基板的下方，将玻璃基板交接给该辊。辊一边旋转而以低速将玻璃基板向后方输送，一边后退。
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