公开(公告)号：CN118732423A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202311571205.0

申请日：2023-11-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 成太根 ,  文炯朗 ,  崔有廷 ,  任浣熙 ,  李忠宪 ,  宋大锡 ,  司空峻

IPC: G03F7/32

Abstract: 提供一种含金属光刻胶显影剂组合物以及包括使用所述含金属光刻胶显影剂组合物进行显影的步骤的形成图案的方法，所述含金属光刻胶显影剂组合物包含有机溶剂、酸化合物以及所述酸化合物的共轭碱化合物。

公开(公告)号：CN118444539A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202311535938.9

申请日：2023-11-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴景铃 ,  文炯朗 ,  许伦旼 ,  郭泽秀 ,  成太根 ,  李忠宪 ,  黄丙奎 ,  金旼秀

IPC: G03F7/32

Abstract: 本发明公开一种含金属光刻胶显影剂组合物、和一种形成包含使用所述含金属光刻胶显影剂组合物的显影步骤的图案的方法，含金属光刻胶显影剂组合物包含：有机溶剂；酸化合物，具有1.0≤pKa1≤4.8；以及至少一种醇类化合物，选自衍生自非环烃的二醇化合物和环状醇化合物。

公开(公告)号：CN115895662A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202211018998.9

申请日：2022-08-24

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  崔正敏 ,  李圭原 ,  张俊英 ,  尹志贤 ,  李智惠 ,  李在珉 ,  赵娟振 ,  韩美莲 ,  金贤贞

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/311

Abstract: 本发明公开了一种用于氮化硅层的蚀刻组合物和使用其蚀刻氮化硅层的方法。该蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；以及硅烷化合物，其中，该硅烷化合物包括含反应性基团的第一硅烷化合物和含可溶性基团的第二硅烷化合物的混合物的聚合物、聚合物的反应产物、其盐、或它们的组合。

公开(公告)号：CN112680228B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN202011107899.9

申请日：2020-10-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔正敏 ,  张俊英 ,  金贤贞 ,  文炯朗 ,  李智惠 ,  韩权愚 ,  黄基煜

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/311

Abstract: 本文公开一种用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法。用于氮化硅层的蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；溶剂；选自酸改性二氧化硅及酸改性硅酸的群组中的至少一者；及含有四个或更多个氮原子的环状化合物。本发明当在高温下用于蚀刻时可显著增加氮化硅层对氧化硅层的蚀刻选择性。

公开(公告)号：CN107304338B

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN201710269050.3

申请日：2017-04-21

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  郭炳都 ,  金一镇 ,  金志浩 ,  文星现 ,  辛善喜 ,  李光奂 ,  李珍泳 ,  赵益晥 ,  韩在铉

IPC: C09J7/10 ,  C09J7/30 ,  C09J4/02 ,  G02B1/111

Abstract: 本发明涉及粘合膜、包含所述粘合膜的光学元件、以及包含所述光学元件的光学显示器。所述粘合膜由包括含羟基的(甲基)丙烯酸酯和含烷基的(甲基)丙烯酸酯的单体混合物形成，并且具有通过重复以下循环10次在样品(长度×宽度：13cm×3cm)上测得的0％的气泡产生面积比，其中通过顺序堆叠聚对苯二甲酸乙二酯膜(厚度：50μm)、粘合膜(厚度：100μm)和聚对苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100μm)来制备样品，从而具有三层结构，并朝向PET膜(厚度：50μm)弯曲，从而将样品放置在其间具有约1cm的间隙的框架之间以及将所述样品的长度减半，并且顺序完成1个循环，时间为24小时。

公开(公告)号：CN106318241B

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201610491631.7

申请日：2016-06-29

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 赵益晥 ,  金志浩 ,  金智熙 ,  姜知媛 ,  郭炳都 ,  金容台 ,  金一镇 ,  文星现 ,  文炯朗 ,  辛善喜 ,  李光奂 ,  李雨晋 ,  韩在铉

IPC: C09J7/30 ,  C09J7/10 ,  C09J4/02 ,  C09J4/06 ,  C09J133/08 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28

Abstract: 本发明提供一种粘合剂膜和包括粘合剂膜的显示部件。所述粘合剂膜由包含以下各项的粘合剂组成物形成：包含含有羟基基团的(甲基)丙烯酸酯和共聚单体的单体混合物的共聚物；和纳米颗粒。所述粘合剂膜在‑20℃下具有的蠕变是50微米到100微米，凝胶分数是50％到75％。本发明的粘合剂膜在可折叠性、透明度和粘合强度方面具有优秀的性质。

公开(公告)号：CN107418481A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201710273163.0

申请日：2017-04-24

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 郭炳都 ,  金志浩 ,  姜知媛 ,  金一镇 ,  文星现 ,  辛善喜 ,  文炯朗 ,  李光奂 ,  李珍泳 ,  赵益晥 ,  韩在铉 ,  黄仁澈

IPC: C09J133/08 ,  C09J151/00 ,  C09J7/02 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F222/14 ,  C08F265/06 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明涉及粘合膜，包含所述粘合膜的光学元件，以及包含所述光学元件的光学显示器。粘合膜包括具有羟基的(甲基)丙烯酸共聚物，由单体混合物形成，所述单体混合物包括含羟基的(甲基)丙烯酸酯和含烷基的(甲基)丙烯酸酯。粘合膜具有约-35℃或更低的玻璃化转变温度。

公开(公告)号：CN105713538A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201510969199.3

申请日：2015-12-22

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 文星现 ,  郭炳都 ,  金一鎭 ,  金志浩 ,  文炯朗 ,  李光奂 ,  赵益晥 ,  韩在铉

IPC: C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C09J11/08 ,  C09J7/00

CPC classification number: C09J133/08 ,  C09J4/00 ,  C09J7/22 ,  C09J7/38 ,  C09J2201/622 ,  C09J2203/318 ,  C09J2205/102 ,  C09J2205/114 ,  C09J2433/00 ,  C09J2467/006 ,  C09J2483/00 ,  G02B5/30 ,  G02B5/305 ,  G06F2203/04103 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C09J7/00 ,  C09J11/06 ,  C09J11/08 ,  C08L51/00 ,  C08K5/103

Abstract: 本发明提供一种粘合膜与显示构件。粘合膜由包含单体混合物的粘合剂组成物形成，单体混合物包含含羟基的(甲基)丙烯酸酯以及共聚单体，其中所述粘合膜具有由方程式1表示的40％到99％的恢复率和如通过测量气泡产生区域的方法测量的0％的气泡产生区域。本发明的粘合膜在恶劣条件下的可靠性、可恢复性以及可折叠性优良，同时能够在宽温度范围内维持粘弹性。

公开(公告)号：CN115124945B

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202210741771.0

申请日：2015-10-30

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 金志浩 ,  文炯朗 ,  金一鎭 ,  郭炳都 ,  金智熙 ,  文星现 ,  辛善喜 ,  李光奂 ,  李雨晋 ,  李垠和 ,  赵益晥 ,  韩在铉

IPC: C09J7/38 ,  C09J133/08 ,  C09J11/08 ,  C09J7/10 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明揭示一种(甲基)丙烯酸压敏粘着剂膜以及包含其的显示部件。(甲基)丙烯酸压敏粘着剂膜具有‑9.9到0的平均斜度，在储能模量对温度的关系图中‑20℃到80℃范围内所测量，其中x轴表示温度且y轴表示储能模量。(甲基)丙烯酸压敏粘着剂膜具有10千帕到1,000千帕的‑20℃下的储能模量。(甲基)丙烯酸压敏粘着剂膜由包括形成(甲基)丙烯酸共聚物的单体混合物的粘合剂组成物形成，单体混合物包括共聚单体，共聚单体的均聚物具有‑150℃到0℃的玻璃转化温度。(甲基)丙烯酸压敏粘着剂膜能够维持宽温度范围内的粘弹性并且还展现出优良的可恢复性。

公开(公告)号：CN117597425A

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN202280047517.9

申请日：2022-07-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  李旻映 ,  许伦旼 ,  具滋旼 ,  李东炯 ,  韩多顺 ,  金旼秀 ,  金宰贤

IPC: C11D7/26

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组合物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组合物来去除边珠的步骤，且所述组合物包括有机溶剂以及具有7g/mol·ea或大于7g/mol·ea的平均分子量的化合物。