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公开(公告)号：CN111221216B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN201910806545.4
申请日：2019-08-29
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/105 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开一种感光性树脂组成物、使用感光性树脂组成物制造的感光性树脂层以及彩色滤光片层，感光性树脂组成物包含：(A)着色剂，包含蓝色颜料和在350纳米到450纳米的波长范围内具有最大吸收波长的氮杂卟啉类染料；(B)粘合剂树脂；(C)光可聚合化合物；(D)光聚合引发剂；以及(E)溶剂。
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公开(公告)号：CN115895662B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202211018998.9
申请日：2022-08-24
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 本发明公开了一种用于氮化硅层的蚀刻组合物和使用其蚀刻氮化硅层的方法。该蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；以及硅烷化合物，其中，该硅烷化合物包括含反应性基团的第一硅烷化合物和含可溶性基团的第二硅烷化合物的混合物的聚合物、聚合物的反应产物、其盐、或它们的组合。
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公开(公告)号：CN111221216A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201910806545.4
申请日：2019-08-29
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/105 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开一种感光性树脂组成物、使用感光性树脂组成物制造的感光性树脂层以及彩色滤光片层，感光性树脂组成物包含：(A)着色剂，包含蓝色颜料和在350纳米到450纳米的波长范围内具有最大吸收波长的氮杂卟啉类染料；(B)粘合剂树脂；(C)光可聚合化合物；(D)光聚合引发剂；以及(E)溶剂。
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公开(公告)号：CN104650131A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410645070.2
申请日：2014-11-12
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08K5/548 , C07F7/1804 , C08K3/34 , C08L69/00
Abstract: 公开了硅烷化合物、其制备方法和包含其的聚碳酸酯树脂组合物。所述聚碳酸酯树脂组合物包含：聚碳酸酯树脂；无机填料；和由式1表示的新型硅烷化合物，其中，所述无机填料包括滑石。所述聚碳酸酯树脂组合物在不降低所述聚碳酸酯树脂的分子量下确保了优异的耐冲击性。在式1中，R1是C6-C30烷基基团，R2是C6-C30烃基团，R3是氢原子或C1-C5烷基基团，并且n具有0.1-3的平均值。[式1]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112680228A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011107899.9
申请日：2020-10-16
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 本文公开一种用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法。用于氮化硅层的蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；溶剂；选自酸改性二氧化硅及酸改性硅酸的群组中的至少一者；及含有四个或更多个氮原子的环状化合物。本发明当在高温下用于蚀刻时可显著增加氮化硅层对氧化硅层的蚀刻选择性。
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公开(公告)号：CN110874013A
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201910400724.8
申请日：2019-05-15
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/00 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开一种感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物制造的感光性树脂层以及彩色滤光片，感光性树脂组合物包含：着色剂，包含(A)(a-1)蓝色颜料、蓝色染料或其混合物；(a-2)黄色染料，在360纳米到390纳米的波长区域中具有最大吸收波长且在450纳米到900纳米的波长区域中具有大于或等于95％的透射率；以及(a-3)紫色染料；(B)粘合剂树脂；(C)光可聚合化合物；(D)光聚合起始剂；以及(E)溶剂。
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公开(公告)号：CN104650565A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410641571.3
申请日：2014-11-13
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08K5/5419 , C08K3/18 , C08K3/24 , C08K3/34 , C08K3/346 , C08K5/42 , C08K7/00 , Y10T428/1397 , C08K13/04 , C08K3/36 , C08K7/08 , C08K2201/003 , C08L69/00
Abstract: 本发明公开一种聚碳酸酯树脂组成物和包含其的模制物品，其中所述聚碳酸酯树脂组成物包含：聚碳酸酯树脂；无机填充剂，包含片状和针状填充剂；以及由式1表示的磺酸酯，其中所述磺酸酯以100重量份的所述聚碳酸酯树脂计以0.1重量份到1.0重量份的量存在。所述聚碳酸酯树脂组成物展现极佳的硬度、极佳的抗冲击性、极佳的其间性质平衡等。[式1]其中R1是C6到C30烃基；M是碱金属或碱土金属；以及n是1或2。
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公开(公告)号：CN115895662A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211018998.9
申请日：2022-08-24
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 本发明公开了一种用于氮化硅层的蚀刻组合物和使用其蚀刻氮化硅层的方法。该蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；以及硅烷化合物，其中，该硅烷化合物包括含反应性基团的第一硅烷化合物和含可溶性基团的第二硅烷化合物的混合物的聚合物、聚合物的反应产物、其盐、或它们的组合。
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公开(公告)号：CN112680228B
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202011107899.9
申请日：2020-10-16
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 本文公开一种用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法。用于氮化硅层的蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；溶剂；选自酸改性二氧化硅及酸改性硅酸的群组中的至少一者；及含有四个或更多个氮原子的环状化合物。本发明当在高温下用于蚀刻时可显著增加氮化硅层对氧化硅层的蚀刻选择性。
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