公开(公告)号：CN109153887A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201780029083.9

申请日：2017-02-08

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛奈律 ,  金元中 ,  都均奉 ,  黄基煜

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C23F3/04 ,  H01L21/321 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光铜的CMP浆料组合物，其含有氧化剂、腐蚀抑制剂、螯合剂、溶剂以及(甲基)丙烯酸和具有唑类取代基的(甲基)丙烯酰胺化合物的共聚物；以及使用该CMP浆料组合物的抛光方法。

公开(公告)号：CN111836873B

公开(公告)日：2022-06-07

申请号：CN201980018129.6

申请日：2019-03-12

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄基煜 ,  高尚兰 ,  赵娟振 ,  崔正敏

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种用于氮化硅的蚀刻组成物与使用其进行的半导体元件的蚀刻方法。所述蚀刻组成物包含：磷酸化合物；多元醇；以及水。所述蚀刻组成物相对于氧化硅层对氮化硅层具有高选择性且能够抑制硅化合物的沉淀。

公开(公告)号：CN111836873A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN201980018129.6

申请日：2019-03-12

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄基煜 ,  高尚兰 ,  赵娟振 ,  崔正敏

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种氮化硅膜蚀刻组成物。所述氮化硅膜蚀刻组成物包含：磷酸化合物；多元醇；以及水。所述氮化硅膜蚀刻组成物相对于氧化硅层对氮化硅层具有高选择性且能够抑制硅化合物的沉淀。

公开(公告)号：CN109153887B

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN201780029083.9

申请日：2017-02-08

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛奈律 ,  金元中 ,  都均奉 ,  黄基煜

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C23F3/04 ,  H01L21/321 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光铜的CMP浆料组合物，其含有氧化剂、腐蚀抑制剂、螯合剂、溶剂以及(甲基)丙烯酸和具有唑类取代基的(甲基)丙烯酰胺化合物的共聚物；以及使用该CMP浆料组合物的抛光方法。

公开(公告)号：CN105085535B

公开(公告)日：2018-03-06

申请号：CN201410639939.2

申请日：2014-11-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛明晔 ,  金元中 ,  文京守 ,  朴彩媛 ,  郑义树 ,  黄基煜

IPC: C07D487/22 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D487/22 ,  C09B47/04 ,  C09B47/0671 ,  C09B47/0675 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明揭示一种染料化合物、一种混合物以及一种包含所述化合物或混合物的感光性树脂组成物和彩色滤光片。所述化合物是由以下化学式1表示的化合物。在化学式1中，每一个取代基与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的化合物或混合物具有极佳绿色光谱特征、高摩尔消光系数以及极佳的有机溶剂溶解性，并且因此在制备用于绿色彩色滤光片的感光性树脂组成物期间可以用作染料，并且包含所述染料的彩色滤光片可以具有极佳亮度和对比度。[化学式1]

公开(公告)号：CN105085535A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201410639939.2

申请日：2014-11-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛明晔 ,  金元中 ,  文京守 ,  朴彩媛 ,  郑义树 ,  黄基煜

IPC: C07D487/22 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D487/22 ,  C09B47/04 ,  C09B47/0671 ,  C09B47/0675 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明揭示一种新颖的化合物、一种新颖的混合物以及一种包含所述化合物或混合物的感光性树脂组成物和彩色滤光片。所述化合物是由以下化学式1表示的化合物。在化学式1中，每一个取代基与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的化合物或混合物具有极佳绿色光谱特征、高摩尔消光系数以及极佳的有机溶剂溶解性，并且因此在制备用于绿色彩色滤光片的感光性树脂组成物期间可以用作染料，并且包含所述染料的彩色滤光片可以具有极佳亮度和对比度。[化学式1]

公开(公告)号：CN112166167B

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN201980034252.7

申请日：2019-04-05

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄基煜 ,  高尙兰 ,  赵娟振 ,  崔正敏 ,  韩权愚 ,  张俊英 ,  尹龙云

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/306

Abstract: 揭示一种用于氮化硅的蚀刻组成物及使用该蚀刻组成物的蚀刻方法，所述用于氮化硅的蚀刻组成物包含：磷酸化合物；水；以及硅烷化合物及其反应产物中的至少一者。该蚀刻组成物执行蚀刻时，可提高相较于氧化硅层对氮化硅层的蚀刻选择率。

公开(公告)号：CN112680228B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN202011107899.9

申请日：2020-10-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔正敏 ,  张俊英 ,  金贤贞 ,  文炯朗 ,  李智惠 ,  韩权愚 ,  黄基煜

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/311

Abstract: 本文公开一种用于氮化硅层的蚀刻组合物及使用其蚀刻氮化硅层的方法。用于氮化硅层的蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；溶剂；选自酸改性二氧化硅及酸改性硅酸的群组中的至少一者；及含有四个或更多个氮原子的环状化合物。本发明当在高温下用于蚀刻时可显著增加氮化硅层对氧化硅层的蚀刻选择性。

公开(公告)号：CN110437837A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201910360034.4

申请日：2019-04-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔正敏 ,  赵娟振 ,  黄基煜 ,  高尚兰

IPC: C09K13/06

Abstract: 一种用于氮化硅的蚀刻组合物和使用其进行蚀刻的方法。蚀刻组合物包括：磷酸化合物；取代或未取代的C7至C8环烃；和水。该蚀刻组合物对氮化硅层具有高选择性，并且可以抑制硅化合物的沉淀。

公开(公告)号：CN104803965A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201410568593.1

申请日：2014-10-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金元中 ,  姜京喜 ,  朴彩媛 ,  辛明晔 ,  田桓承 ,  郑义树 ,  黄基煜

IPC: C07D311/82 ,  C08F220/38 ,  C08G18/32 ,  C08G18/71 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G02B5/20 ,  G02B1/04

CPC classification number: G02B1/04 ,  C08G18/246 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/325 ,  C08G18/3861 ,  C08G18/715 ,  C08G18/73 ,  G02B5/223 ,  C08L2666/70

Abstract: 本发明公开了化合物、聚合物、着色剂、正性光敏树脂组合物及滤色片。具体地，本发明公开了一种由以下化学式1表示的化合物、聚合物、包含其的着色剂、和包括着色剂的光敏树脂组合物、以及滤色片。在以下化学式1中，每个取代基与在具体实施方式中定义的相同。[化学式1]