近红外发光二极管
    143.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204011467U

    公开(公告)日:2014-12-10

    申请号:CN201420021293.7

    申请日:2014-01-14

    Abstract: 本实用新型公开近红外发光二极管,在GaAs或AlGaAs衬底的顶部自下而上依次形成顶部第一型电流扩展层、顶部第一型限制层、顶部有源层、顶部第二型限制层及顶部第二型电流扩展层;在衬底的底部自下而上依次形成第一型隧穿结、第二型隧穿结、底部第二型电流扩展层、底部第二型限制层、底部有源层、底部第一型限制层及底部第一型电流扩展层;所述第二型隧穿结采用多层膜的外延结构,第二型隧穿结的掺杂源为Mg,且掺杂浓度为2.0×1019以上。本实用新型使得近红外发光二极管的发光功率得到较大的提升,且其制造工艺较为简单。

    具有调制掺杂电流扩展层的发光二极管

    公开(公告)号:CN202651187U

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201220224646.4

    申请日:2012-05-18

    Abstract: 本实用新型公开一种具有调制掺杂电流扩展层的发光二极管,包括一衬底,在衬底的下面连接有第一电极,在衬底的上面依次连接有第一型电流扩展层、第一型限制层、有源层、第二型限制层、第二型电流扩展层及第二电极,沿第二型电流扩展层的生长方向间隔连接X个Delta掺杂层,其中1≤X≤50;优选所述的Delta掺杂层的厚度≤1nm;本实用新型可以提高电流扩展层的横向电导率,有效降低发光二极管的正向工作电压,提高发光二极管的光电转换效率。

    一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管

    公开(公告)号:CN201340856Y

    公开(公告)日:2009-11-04

    申请号:CN200820145815.9

    申请日:2008-09-28

    Abstract: 本实用新型公开一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管,N-GaAs衬底上外延的材料自下而上依次包括n-GaAs缓冲层、AlAs/AlxGa1-xAs或AlInP/(AlxGa1-x)yIn1-yP布拉格反射层、n-(AlxGa1-x)yIn1-yP下限制层、Undoped-(AlxGa1-x)yIn1-yP有源区、p-(AlxGa1-x)yIn1-yP上限制层、p++AlxGa1-xAs和p-GaP组合电流扩展层,p++AlxGa1-xAs在下面为第一电流扩展层,p-GaP在上面为第二电流扩展层。此结构集GaP和AlxGa1-xAs材料的优点于一体,避免材料的氧化,保证电流扩展和器件的可靠性、稳定性。

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