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公开(公告)号：CN101894876A
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN201010191861.4
申请日：2010-06-04
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/101
Abstract: 一种量子级联探测器结构，包括：一衬底；一下欧姆接触层，该下欧姆接触层制作在衬底上，该下欧姆接触层进行高浓度掺杂从而实现与电极材料的欧姆接触；一势垒隔离层，该势垒隔离层制作在下欧姆接触层上的中间部位，使下欧姆接触层的四周形成台面，该势垒隔离层不掺杂；一多周期的有源区结构层，该多周期的有源区结构层制作在势垒隔离层上，该多周期的有源区结构层是实现探测器的探测光电流的核心部位；一上欧姆接触层，该上欧姆接触层制作在多周期的有源区结构层上，该上欧姆接触层进行高浓度掺杂从而实现与电极材料的欧姆接触；一上电极，该上电极制作在上欧姆接触层上；一下电极，该下电极做在下欧姆接触层四周的台面上。
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公开(公告)号：CN101865676A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200910081986.9
申请日：2009-04-15
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种测量光子晶体孔洞侧壁垂直度的方法，包括：在半绝缘砷化镓衬底上，外延生长一定厚度的AlGaAs牺牲层；在AlGaAs牺牲层上外延生长一定厚度的砷化镓；在砷化镓层上外延生长一定密度InAs量子点；外延生长一定厚度的砷化镓，将InAs量子点埋住；在砷化镓上采用等离子体化学气相淀积法(PECVD)镀上一层SiO2薄膜；在SiO2薄膜上悬涂一层电子束胶；采用电子束曝光法在电子束胶上制作光子晶体图形；采用反应离子刻蚀方法将电子束胶上的光子晶体图形转移至SiO2上，并去胶；采用扫描电镜(SEM)对样品进行测试，观测并计算光子晶体孔洞的垂直度。利用本发明，不用观察光子晶体孔洞截面，只测试光子晶体表面，便可测试出光子晶体孔洞侧壁垂直度。
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公开(公告)号：CN101840852A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010140985.X
申请日：2010-04-02
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/02 , H01L21/3205 , H01L21/20
Abstract: 本发明公开了一种在图形化的半导体衬底上制作有序半导体纳米结构的方法，包括：步骤1：选择半导体衬底，通过光刻方法在衬底上制作出条形或圆孔图形；步骤2：配置含有胶体金的溶液；步骤3：将制作出条形或圆孔图形的衬底浸入配置的含有胶体金的溶液中，并将衬底从溶液中提拉出来；步骤4：将衬底在打胶机中打胶并用化学试剂清洗；步骤5：将衬底放入生长设备的腔室中并生长单层或多层纳米结构。利用本发明，制备出了尺寸均匀、排列有序的量子线阵列，该量子线阵列可用于制作发光器件和电子器件的有源层，制备性能优异的半导体场效应晶体管、具有非常低的能量消耗的光发射器件、以及各种类型的感应器、探测器等。
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公开(公告)号：CN101814557A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200910078560.8
申请日：2009-02-25
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/20
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明一种硅基薄膜叠层电池隧道结的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：在不锈钢衬底上，利用等离子体辅助化学气相沉积技术在反应室中依次生长P型层、复合层和N型层，形成隧道结；步骤2：将隧道结在反应室内降至室温，取出；步骤3：用磁控溅射的方法，在隧道结的N型层上生长ITO透明电极。与传统隧道结相比，新型隧道结的整流特性小、电阻小、更加接近欧姆接触。
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公开(公告)号：CN101764107A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN201010034103.1
申请日：2010-01-13
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种集成热敏电阻的金刚石热沉，包括：一衬底；一第一Ti薄膜，该第一Ti薄膜制作在衬底上的一侧，该第一Ti薄膜为一弯折条形结构；一Au薄膜，该Au薄膜制作在第一Ti薄膜上，形状与第一Ti薄膜相同，该Au薄膜分为第一热敏电阻引线区、第二热敏电阻引线区和热敏电阻区；一第二Ti薄膜，该第二Ti薄膜制作在衬底上的另一侧；一器件烧结区，该器件烧结区制作在第二Ti薄膜上。解决了以往热敏元件与器件集成制作过程中设计和工艺复杂、成本昂贵等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101673920A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200810119796.7
申请日：2008-09-10
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01S5/10
Abstract: 一种边发射二维光子晶体分布反馈量子级联激光器，包括：一衬底；一下波导层，该下波导层生长在衬底的中间部位，在下波导层上依次生长有有源层、上波导层和盖层；一高掺杂层，该高掺杂层生长在盖层的上面，该高掺杂层为二维正方圆孔点阵结构，该点阵结构具有沿ΓX方向的(0，1)级耦合机制；一二氧化硅层，该二氧化硅层生长在衬底两侧的上面和下波导层、有源层、上波导层和盖层的两侧，及高掺杂层两侧和高掺杂层上面的边缘部分；一正面金属电极层，该正面金属电极层生长在二氧化硅层的上面及高掺杂层的二维正方圆孔点阵结构的上面；一背面金属电极层生长在衬底的下面，形成边模抑制比为20dB的边发射二维光子晶体分布反馈量子级联激光器。
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公开(公告)号：CN101567521A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200810104761.6
申请日：2008-04-23
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种生长可控量子点和量子环的方法，该方法包括：制备μm量级的包含有条形区域、方孔区域和圆孔区域的光刻板；对该光刻板图形衬底进行普通光刻；湿法腐蚀制备图形衬底；采用一定的生长条件和沉积量的分子束外延MBE生长方法，在同一衬底片上生长出量子点密度从高到低、量子环密度从低到高变化且位置可控的量子点和量子环结构。利用本发明，通过引入图形衬底的衬底处理方式，在同一生长条件下、同一衬底上不同的区域制备出不同形貌的图形衬底，使得在平面上形成的量子点或者量子环的形貌和分布发生变化，实现了对量子点和量子环密度和分布位置的调制。
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公开(公告)号：CN101414063A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200710175972.4
申请日：2007-10-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种量子点光调制器有源区结构，包括：一n型衬底；一n型缓冲层生长于n型衬底之上，该n型缓冲层的生长可有效防止衬底缺陷向外延层扩展；一第一未掺杂层生长于n型缓冲层之上，提供了外加电压的作用空间；一量子点层生长于第一未掺杂层上面；一第二未掺杂层生长于量子点层之上；一势垒层生长于第二未掺杂层之上；一第三未掺杂层生长于势垒层之上，提供了外加电压的作用空间；一p型掺杂层，该p型掺杂层生长于第三未掺杂层之上，是这一结构的表面层，可用于引出正面电极。
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公开(公告)号：CN101241849A
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200710063706.2
申请日：2007-02-07
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/18 , H01L21/266 , H01L21/324 , H01S5/00
Abstract: 一种在半导体衬底上制备量子环结构的方法，包含：步骤1.取一半导体衬底和制备好的阳极氧化铝通孔模板；步骤2.把制备好的阳极氧化铝通孔模板放置在半导体衬底上，形成带有掩模板的半导体GaAs衬底；步骤3.将足够厚的阳极氧化铝模板的半导体衬底进行离子注入，形成具有周期性离子注入的带有阳极氧化铝模板的半导体衬底，目的是让金属离子通过阳极氧化铝通孔注入半导体衬底，在没有孔的区域，注入离子不会到达半导体衬底；步骤4.在饱和的NaOH溶液中清洗以剥离模板；步骤5.在分子束外延设备中退火，由于半导体衬底里的原子、注入的金属离子的外扩散以及与砷的作用，完成量子环结构的制备。
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公开(公告)号：CN101211866A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200610169750.7
申请日：2006-12-28
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L23/00 , H01L31/0264 , H01L33/00
Abstract: 本发明涉及半导体材料中氧化锌外延薄膜制备技术领域，公开了一种用于氧化锌外延薄膜生长的硅基可协变衬底材料，该材料包括：一硅单晶衬底，用于支撑整个硅基可协变衬底材料；一薄金属铪可协变层，该薄金属铪可协变层制备在硅单晶衬底上，用于对在其上外延生长的氧化锌外延薄膜进行失配应变协调。利用本发明，协调了硅衬底上所生长氧化锌外延薄膜的失配应变，并降低了残余应力，从而提高了其结晶质量和改善了其表面形貌，为研制硅基光电器件奠定了基础。
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