同步实现阻止GaAs盖层氧化和提高氧化层热稳定性的方法

    公开(公告)号:CN102610714A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201210083214.0

    申请日:2012-03-27

    Abstract: 本发明公开了一种在高温湿法氧化时同步实现阻止GaAs盖层氧化和提高AlxGa(1-x)As氧化层热稳定性的方法。该方法是通过在GaAs层上采用等离子体化学气相淀积法生长一定厚度的SiO2薄膜而实现的。利用本发明,既能提高AlxGa(1-x)As氧化层的热稳定性,减少后续高温退火过程对器件表面的损伤,同时减少了工艺步骤,使器件的制备成本下降;又能阻止GaAs盖层的氧化,使量子点的发光性质基本不受影响。这些优点为高性能光电子器件的制备提供了基础。

    一种测量光子晶体孔洞侧壁垂直度的方法

    公开(公告)号:CN101865676B

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN200910081986.9

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 本发明公开了一种测量光子晶体孔洞侧壁垂直度的方法,包括:在半绝缘砷化镓衬底上,外延生长一定厚度的AlGaAs牺牲层;在AlGaAs牺牲层上外延生长一定厚度的砷化镓;在砷化镓层上外延生长一定密度InAs量子点;外延生长一定厚度的砷化镓,将InAs量子点埋住;在砷化镓上采用等离子体化学气相淀积法(PECVD)镀上一层SiO2薄膜;在SiO2薄膜上悬涂一层电子束胶;采用电子束曝光法在电子束胶上制作光子晶体图形;采用反应离子刻蚀方法将电子束胶上的光子晶体图形转移至SiO2上,并去胶;采用扫描电镜(SEM)对样品进行测试,观测并计算光子晶体孔洞的垂直度。利用本发明,不用观察光子晶体孔洞截面,只测试光子晶体表面,便可测试出光子晶体孔洞侧壁垂直度。

    磷化镓铝应力补偿的砷化铟量子点太阳电池制作方法

    公开(公告)号:CN101908581B

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN201010217374.0

    申请日:2010-06-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种磷化镓铝应力补偿的砷化铟量子点太阳电池制作方法,包括如下步骤:步骤1:选择一n+型GaAs单晶片作为衬底;步骤2:在衬底上依次生长n型GaAs层和本征GaAs缓冲层;步骤3:在本征GaAs缓冲层上生长多个周期的量子点结构,作为电池的i吸收层;步骤4:在多个周期的量子点结构上依次生长p型GaAs层、p+型GaAs层、Al0.4Ga0.6As层和ZnS/MgF2层;步骤5:在ZnS/MgF2层上生长并制作上金属电极;步骤6:在衬底10的下表面制作下金属电极;步骤7:对电池组件进行封装,完成太阳电池的制作。

    深紫外激光光致发光光谱仪

    公开(公告)号:CN102213617A

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN201110087894.9

    申请日:2011-04-08

    Inventor: 金鹏 王占国

    Abstract: 一种深紫外激光光致发光光谱仪,包括:一全固态深紫外激光器;一真空样品室与全固态深紫外激光器连接;一真空单色仪与真空样品室连接;一第一真空维持系统与真空样品室连接;一第二真空维持系统与真空单色仪连接;一低温系统和控温装置与真空样品室通过法兰连接;一样品架三维调整装置与真空样品室连接;一稳态发射谱探测系统与真空单色仪连接;一时间分辨光谱探测系统与真空单色仪连接;一真空泄漏安全系统的第一、第二控制端与第一真空维持系统连接,第三、第四控制端与第二真空维持系统连接,第五控制端与低温系统和控温装置连接;一计算机控制装置用于控制真空泄漏安全系统、真空单色仪、低温系统和控温装置、样品架三维调整装置、稳态发射谱探测系统和时间分辨光谱探测系统。

    在半导体衬底上制备量子环结构的方法

    公开(公告)号:CN101241849B

    公开(公告)日:2011-10-05

    申请号:CN200710063706.2

    申请日:2007-02-07

    Abstract: 一种在半导体衬底上制备量子环结构的方法,包含:步骤1:取一半导体衬底和制备好的阳极氧化铝通孔模板;步骤2:把制备好的阳极氧化铝通孔模板放置在半导体衬底上,形成带有掩模板的半导体GaAs衬底;步骤3:将足够厚的阳极氧化铝模板的半导体衬底进行离子注入,形成具有周期性离子注入的带有阳极氧化铝模板的半导体衬底,目的是让金属离子通过阳极氧化铝通孔注入半导体衬底,在没有孔的区域,注入离子不会到达半导体衬底;步骤4:在饱和的NaOH溶液中清洗以剥离模板;步骤5:在分子束外延设备中退火,由于半导体衬底里的原子、注入的金属离子的外扩散以及与砷的作用,完成量子环结构的制备。

    光伏型InAs量子点红外探测器结构

    公开(公告)号:CN101740655B

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200910242347.6

    申请日:2009-12-09

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种光伏型InAs量子点红外探测器结构,包括:一GaAs衬底;一GaAs底接触层制作在重掺杂或半绝缘GaAs衬底上;一未掺杂的下GaAs隔离层制作在GaAs底接触层上面的一侧,在GaAs底接触层的另一侧形成一台面;一5-100个周期的InAs/AlGaAs/GaAs结构层制作在未掺杂的下GaAs隔离层上,该5-100个周期的InAs/AlGaAs/GaAs结构层是实现红外探测的核心部位;一GaAs顶接触层制作在5-100个周期的InAs/AlGaAs/GaAs结构层上;该GaAs顶接触层进行高浓度掺杂从而实现与电极材料的欧姆接触;一上电极制作在GaAs顶接触层的中间部位;一下电极制作在GaAs底接触层上的台面上,该下电极可以收集电子,输出电流或电压信号;所述上电极与下电极一起能构成探测器检测回路。

    硅掺杂的砷化铟/砷化镓量子点太阳电池的制作方法

    公开(公告)号:CN102130206A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201010602219.0

    申请日:2010-12-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种硅掺杂的砷化铟/砷化镓量子点太阳电池的制作方法,包括如下步骤:步骤1:选择一n+型GaAs单晶片作为衬底;步骤2:在n+型GaAs单晶片上依次生长n型GaAs层和本征GaAs缓冲层;步骤3:在本征GaAs缓冲层上生长多个周期的量子点结构,作为电池的i吸收层;步骤4:在多个周期的量子点结构上依次生长本征GaAs层、p型GaAs层、p+型GaAs层、p型Al0.4Ga0.6As层和p型GaAs层;步骤5:在p型GaAs层上生长ZnS/MgF2层;步骤6:在ZnS/MgF2层上生长并制作上金属电极;步骤7:在n+型GaAs单晶片的下表面制作下金属电极;步骤8:对电池组件进行封装,完成太阳电池的制作。

    掺杂剂锌辅助的自催化法生长InN纳米棒材料的方法

    公开(公告)号:CN102050432A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200910237095.8

    申请日:2009-11-04

    Abstract: 一种掺杂剂锌辅助的自催化法生长InN纳米棒材料的方法,包含以下步骤:步骤1:选用一衬底,并在金属有机化学气相外延设备的反应室中对衬底进行高温氮化处理;步骤2:用氢气或者氮气作为载气,在衬底上生长一低温III族氮化物缓冲层,该缓冲层的作用是用来提高InN纳米棒的晶体质量和形貌;步骤3:用氮气作为载气将含铟源、锌源的金属有机化合物和氨气通入到反应室,在氮化镓缓冲层上制备生长InN纳米棒,在InN纳米棒顶端同时生成金属In小球;步骤4:关闭铟源和锌源,反应室温度降到350℃以下关闭氨气,继续通氨气的作用是抑制InN材料的高温热分解;步骤5:降温,反应室温度由350℃降至室温后,将样品取出。

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