一种超饱和掺杂半导体薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103268852A

    公开(公告)日:2013-08-28

    申请号:CN201310157821.1

    申请日:2013-05-02

    Abstract: 本发明公开了一种超饱和掺杂半导体薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:将衬底表面清洗干净;步骤3:在较低的生长温度下,在衬底表面沉积半导体非晶薄膜;其中,通过控制原子的沉积速率比,得到超饱和掺杂的半导体非晶薄膜;步骤4:利用超快激光对所得的超饱和掺杂半导体非晶薄膜进行激光退火,完成超饱和掺杂半导体薄膜的制备。本发明提出的上述制备方法中,应用分子束外延技术制备掺杂浓度均匀的超掺杂薄膜,所制备出的超饱和掺杂硅薄膜内杂质的深度分布很均匀。

    一种超饱和掺杂半导体薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103268852B

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201310157821.1

    申请日:2013-05-02

    Abstract: 本发明公开了一种超饱和掺杂半导体薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:将衬底表面清洗干净;步骤3:在较低的生长温度下,在衬底表面沉积半导体非晶薄膜;其中,通过控制原子的沉积速率比,得到超饱和掺杂的半导体非晶薄膜;步骤4:利用超快激光对所得的超饱和掺杂半导体非晶薄膜进行激光退火,完成超饱和掺杂半导体薄膜的制备。本发明提出的上述制备方法中,应用分子束外延技术制备掺杂浓度均匀的超掺杂薄膜,所制备出的超饱和掺杂硅薄膜内杂质的深度分布很均匀。

    制备超饱和硫系元素掺杂硅的方法

    公开(公告)号:CN102938435B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201210484770.9

    申请日:2012-11-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种制备超饱和硫系元素掺杂硅的方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对衬底表面进行制绒;步骤3:对制绒后的衬底进行超饱和硫系元素离子注入;步骤4:对硫系元素离子注入后的衬底进行激光退火,消除离子注入产生的晶格缺陷,完成制备。本发明形成的超饱和硫系元素掺杂硅表面,既保证了良好的电极接触,又对入射光具有一定的减反射作用,对于制作高响应红外探测器特别有利。

    磷化镓铝应力补偿的砷化铟量子点太阳电池制作方法

    公开(公告)号:CN101908581A

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN201010217374.0

    申请日:2010-06-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种磷化镓铝应力补偿的砷化铟量子点太阳电池制作方法,包括如下步骤:步骤1:选择一n+型GaAs单晶片作为衬底;步骤2:在衬底上依次生长n型GaAs层和本征GaAs缓冲层;步骤3:在本征GaAs缓冲层上生长多个周期的量子点结构,作为电池的i吸收层;步骤4:在多个周期的量子点结构上依次生长p型GaAs层、p+型GaAs层、Al0.4Ga0.6As层和ZnS/MgF2层;步骤5:在ZnS/MgF2层上生长并制作上金属电极;步骤6:在衬底10的下表面制作下金属电极;步骤7:对电池组件进行封装,完成太阳电池的制作。

    制备超饱和硫系元素掺杂硅的方法

    公开(公告)号:CN102938435A

    公开(公告)日:2013-02-20

    申请号:CN201210484770.9

    申请日:2012-11-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种制备超饱和硫系元素掺杂硅的方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对衬底表面进行制绒;步骤3:对制绒后的衬底进行超饱和硫系元素离子注入;步骤4:对硫系元素离子注入后的衬底进行激光退火,消除离子注入产生的晶格缺陷,完成制备。本发明形成的超饱和硫系元素掺杂硅表面,既保证了良好的电极接触,又对入射光具有一定的减反射作用,对于制作高响应红外探测器特别有利。

    磷化镓铝应力补偿的砷化铟量子点太阳电池制作方法

    公开(公告)号:CN101908581B

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN201010217374.0

    申请日:2010-06-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种磷化镓铝应力补偿的砷化铟量子点太阳电池制作方法,包括如下步骤:步骤1:选择一n+型GaAs单晶片作为衬底;步骤2:在衬底上依次生长n型GaAs层和本征GaAs缓冲层;步骤3:在本征GaAs缓冲层上生长多个周期的量子点结构,作为电池的i吸收层;步骤4:在多个周期的量子点结构上依次生长p型GaAs层、p+型GaAs层、Al0.4Ga0.6As层和ZnS/MgF2层;步骤5:在ZnS/MgF2层上生长并制作上金属电极;步骤6:在衬底10的下表面制作下金属电极;步骤7:对电池组件进行封装,完成太阳电池的制作。

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