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公开(公告)号：CN103596727A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280027435.4
申请日：2012-06-06
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
CPC classification number: C09K3/1409 , C09K3/1463 , B24B37/00
Abstract: 本发明提供一种含有研磨材料和水的研磨用组合物。研磨材料含有氧化锆颗粒。根据利用粉末X射线衍射法测定的2θ为28.0°附近的衍射X射线强度和31.0°附近的衍射X射线强度算出的氧化锆颗粒的微晶尺寸均为以上，且氧化锆颗粒的平均一次粒径为0.2μm以上。或者，氧化锆颗粒的平均二次粒径为1.0μm以下，且将氧化锆颗粒的平均二次粒径除以氧化锆颗粒的平均一次粒径得到的值为1.5以下。研磨用组合物用于例如研磨蓝宝石等硬脆材料的用途。
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公开(公告)号：CN100347227C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN03140710.2
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由下面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
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公开(公告)号：CN100497509C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200410104484.0
申请日：2004-12-24
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。
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公开(公告)号：CN1640974A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN200410104484.0
申请日：2004-12-24
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。
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公开(公告)号：CN107001914A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580061791.1
申请日：2015-10-27
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供能够以更高的研磨效率对表面具有结晶性的金属化合物的研磨对象物进行研磨的研磨用组合物。一种研磨用组合物，其用于对表面具有结晶性的金属化合物的研磨对象物进行研磨的用途，所述研磨用组合物包含氧化铝磨粒、胶态二氧化硅磨粒及水。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102834157A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180011517.5
申请日：2011-02-23
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供可实现过滤器的长寿命化和高过滤效率的过滤方法、以及通过该方法制造的研磨用浆料。在本发明的过滤方法中，在利用过滤器过滤液体之前，将过滤器在填充有溶剂的密闭容器中进行减压处理，然后进行过滤。
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公开(公告)号：CN101012313B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200610103020.7
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由下面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
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公开(公告)号：CN1550532A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043512.2
申请日：2004-05-09
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α－氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂以及水。
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公开(公告)号：CN105027267A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480009493.3
申请日：2014-02-07
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/00 , C09K3/1409 , C09K3/1454 , C09K3/1463 , C30B29/20 , C30B33/00 , H01L21/304 , H01L21/30625 , H01L21/3212
Abstract: 提供一种研磨用组合物，其可以对具有无极性面或半极性面的蓝宝石基板以高研磨速度进行研磨。本发明为一种研磨用组合物，其用于对具有无极性面或半极性面的蓝宝石基板进行研磨的用途，其包含胶体二氧化硅颗粒和水，前述胶体二氧化硅颗粒的比表面积(单位：m2/g)除以前述胶体二氧化硅颗粒的个数平均粒径(单位：nm)而得到的值(比表面积/个数平均粒径)为0.5以上且3.0以下。
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公开(公告)号：CN102834156A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180011496.7
申请日：2011-02-23
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: B01D37/00 , B01D2239/0428 , B01D2239/0618 , B24B57/02
Abstract: 本发明提供可实现过滤器的长寿命化和高过滤效率的过滤方法、以及通过该方法制造的研磨用浆料。在本发明的过滤方法中，在利用过滤器过滤未脱气液体之前，对过滤器通入已脱气的溶剂，然后进行过滤。
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