-
公开(公告)号：CN100347227C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN03140710.2
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由下面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
-
公开(公告)号：CN108473851B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201780007120.6
申请日：2017-03-22
Applicant: 福吉米株式会社
Inventor： 石桥智明
IPC: C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 提供一种用于对具有1500Hv以上的维氏硬度的研磨对象材料进行研磨的研磨用组合物。该研磨用组合物包含氧化铝磨粒和水。氧化铝磨粒的等电点低于8.0、且低于研磨用组合物的pH。
-
公开(公告)号：CN101012313A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200610103020.7
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物，字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
-
-
公开(公告)号：CN100547045C
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200410043511.8
申请日：2004-05-09
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: G11B5/8404 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括研磨剂，它至少含选自以下组分中的一种：氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、碳化硅、氮化硅；抛光促进剂，它至少含选自以下组分中的一种：羧乙基硫代琥珀酸、羧乙基硫代琥珀酸盐；以及水。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1550531A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043511.8
申请日：2004-05-09
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: G11B5/8404 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括研磨剂，它至少含选自以下组分中的一种：氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、碳化硅、氮化硅；抛光促进剂，它至少含选自以下组分中的一种：羧乙基硫代琥珀酸、羧乙基硫代琥珀酸盐以及水。
-
-
公开(公告)号：CN108473851A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201780007120.6
申请日：2017-03-22
Applicant: 福吉米株式会社
Inventor： 石桥智明
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 提供一种用于对具有1500Hv以上的维氏硬度的研磨对象材料进行研磨的研磨用组合物。该研磨用组合物包含氧化铝磨粒和水。氧化铝磨粒的等电点低于8.0、且低于研磨用组合物的pH。
-
公开(公告)号：CN103402705B
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201280006373.9
申请日：2012-01-19
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1409 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 提供一种含有研磨材料和水的研磨用组合物。研磨用组合物中的研磨材料的含量为0.1质量%以上。研磨材料含有氧化锆颗粒。氧化锆颗粒具有1～15m2/g的比表面积。氧化锆颗粒优选具有99质量%以上的纯度。研磨用组合物可用于例如研磨蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的用途。
-
公开(公告)号：CN103402705A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280006373.9
申请日：2012-01-19
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1409 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 提供一种含有研磨材料和水的研磨用组合物。研磨用组合物中的研磨材料的含量为0.1质量%以上。研磨材料含有氧化锆颗粒。氧化锆颗粒具有1～15m2/g的比表面积。氧化锆颗粒优选具有99质量%以上的纯度。研磨用组合物可用于例如研磨蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的用途。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.019 seconds)
