公开(公告)号：CN106660190A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580045399.8

申请日：2015-07-30

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 片山浩二 ,  大桥圭吾 ,  山田英一 ,  森永均

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/26

CPC classification number: B24B37/245 ,  B24B37/11 ,  B24B37/22 ,  B24B37/26

Abstract: 本发明提供能够去除具有曲面的被研磨物的表面的起伏的研磨垫。研磨垫(10)具有由硬质树脂层(40)形成的研磨面(30)，且具有使研磨面(30)追随于被研磨物(90)的曲面的构造(40，50)。

公开(公告)号：CN106661433A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580046970.8

申请日：2015-09-10

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 山田英一 ,  玉井一诚

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02

CPC classification number: C09K3/1454 ,  B24B37/00 ,  B24B37/11 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明提供能够通过研磨去除树脂涂膜的外表面的波纹、并且不易产生研磨损伤的研磨材料、研磨用组合物、及研磨方法。研磨用组合物含有由比表面积为5m2/g以上且50m2/g以下、平均2次粒径为0.05μm以上且4.8μm以下的氧化铝的颗粒形成的研磨材料。该研磨用组合物用于树脂涂膜的外表面的研磨。

公开(公告)号：CN103402705B

公开(公告)日：2017-08-08

申请号：CN201280006373.9

申请日：2012-01-19

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 森永均 ,  山田英一 ,  玉井一诚 ,  石桥智明 ,  大津平 ,  石原直幸 ,  高桥洋平

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1409 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 提供一种含有研磨材料和水的研磨用组合物。研磨用组合物中的研磨材料的含量为0.1质量%以上。研磨材料含有氧化锆颗粒。氧化锆颗粒具有1～15m2/g的比表面积。氧化锆颗粒优选具有99质量%以上的纯度。研磨用组合物可用于例如研磨蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的用途。

公开(公告)号：CN103402705A

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201280006373.9

申请日：2012-01-19

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 森永均 ,  山田英一 ,  玉井一诚 ,  石桥智明 ,  大津平 ,  石原直幸 ,  高桥洋平

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1409 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 提供一种含有研磨材料和水的研磨用组合物。研磨用组合物中的研磨材料的含量为0.1质量%以上。研磨材料含有氧化锆颗粒。氧化锆颗粒具有1～15m2/g的比表面积。氧化锆颗粒优选具有99质量%以上的纯度。研磨用组合物可用于例如研磨蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的用途。

公开(公告)号：CN113512402A

公开(公告)日：2021-10-19

申请号：CN202110375215.1

申请日：2015-09-10

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 山田英一 ,  玉井一诚

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种研磨材料、研磨用组合物、及研磨方法。本发明提供能够通过研磨去除树脂涂膜的外表面的波纹、并且不易产生研磨损伤的研磨材料、研磨用组合物、及研磨方法。研磨用组合物含有由比表面积为5m2/g以上且50m2/g以下、平均2次粒径为0.05μm以上且4.8μm以下的氧化铝的颗粒形成的研磨材料。该研磨用组合物用于树脂涂膜的外表面的研磨。

公开(公告)号：CN1923935A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200610126796.0

申请日：2006-08-31

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 山田英一

IPC: C09G1/16 ,  C09G1/02

Abstract: 一种抛光组合物，包含由通式(1)所示的化合物和研磨颗粒。在通式(1)中，X表示由含有活性氢原子和环氧烷烃的化合物而衍生的聚醚多醇(具有环氧乙烷的含量为20～90mass％的聚醚链)的残基；m表示2～8的整数，等于聚醚多醇单分子中所含的羟基数量；Y和Z分别表示通过加成聚合而加入环氧乙烷和环氧丙烷的低级醇残基、烷基或亚烃基；并且n为3或更大的整数。

公开(公告)号：CN1923935B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200610126796.0

申请日：2006-08-31

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 山田英一

IPC: C09G1/16 ,  C09G1/02

Abstract: 一种抛光组合物，包含由下列通式(1)所示的化合物和研磨颗粒。在通式(1)中，X表示由含有活性氢原子和环氧烷烃的化合物而衍生的聚醚多醇(具有环氧乙烷的含量为20～90mass％的聚醚链)的残基；m表示2～8的整数，等于聚醚多醇单分子中所含的羟基数量；Y和Z分别表示通过加成聚合而加入环氧乙烷和环氧丙烷的低级醇残基、烷基或亚烃基；并且n为3或更大的整数。