-
公开(公告)号：CN119301741A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202380043492.X
申请日：2023-03-20
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C08K3/36 , C08L29/04 , C08L101/14 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/306
Abstract: 提供能够实现高品质的表面的研磨用组合物。上述研磨用组合物包含：二氧化硅颗粒(A)、碱性化合物(B)、第1水溶性高分子(C1)、第2水溶性高分子(C2)和水(D)，上述第1水溶性高分子(C1)为聚乙烯醇系聚合物。上述研磨用组合物的蚀刻速率ER[μm/h]与上述研磨用组合物的Zeta电位ζ[mV]的积(ER×ζ)为‑900nmV/h以上且‑90nmV/h以下。
-
公开(公告)号：CN118995137A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202411020070.3
申请日：2024-07-29
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: [课题]本发明的课题在于，提供一种新型的研磨用组合物，其能够减少多晶硅等应被研磨的研磨对象物的残留，并且也能够抑制凹陷。[解决方案]一种研磨用组合物，其为包含胶体二氧化硅、碱金属盐和水的、pH为9.0～11.5的研磨用组合物，其中，(i)所述研磨用组合物用于如下工序：在具有设置有凹部的第一层和以填埋该凹部内的方式形成的第二层的研磨对象物中，对所述第二层进行研磨而使所述第一层露出的工序，所述第一层选自具有氧‑硅键的层或具有氮‑硅键的层，所述第二层具有硅‑硅键；和/或(ii)所述胶体二氧化硅的硅烷醇基数为6个/nm2以上且22个/nm2以下。
-
公开(公告)号：CN118109250A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202410170264.5
申请日：2017-08-28
Applicant: 福吉米株式会社
Inventor： 陈景智
Abstract: 本申请涉及表面处理组合物、以及使用其的表面处理方法和半导体基板的制造方法。[课题]提供的方案在于，边使残留于至少含有包含钨的层、以及原硅酸四乙酯或氮化硅的研磨完成后的研磨对象物的表面的杂质充分去除，边抑制钨的溶解速度。[解决方案]一种表面处理组合物，其含有：具有磺酸(盐)基的高分子化合物；选自氨基酸和多元醇中的至少1种化合物；和，分散介质，所述组合物用于对研磨完成后的研磨对象物的表面进行处理，所述研磨完成后的研磨对象物至少含有包含钨的层、以及原硅酸四乙酯或氮化硅。
-
公开(公告)号：CN118019824A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280065938.4
申请日：2022-09-14
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , C08L29/14 , H01L21/304
Abstract: 提供一种过滤性良好且能够减少研磨对象物的表面缺陷的研磨用组合物的制造方法。一种研磨用组合物的制造方法，其中，所述研磨用组合物包含改性聚乙烯醇组合物，所述改性聚乙烯醇组合物含有改性聚乙烯醇或其衍生物、以及水，所述研磨用组合物的制造方法包括以30℃以上且小于60℃的溶液温度保持所述改性聚乙烯醇组合物的保温工序，所述保温工序以参数A为2.0以上的方式进行。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110419094B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN201880018263.1
申请日：2018-01-23
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供一种手段，其可良好地减少利用包含氧化铈的研磨用组合物研磨后得到的研磨完成的研磨对象物中的氧化铈残渣，并可以充分地抑制有机物残渣。本发明涉及一种表面处理组合物，其用于对利用包含氧化铈的研磨用组合物研磨后得到的研磨完成的研磨对象物进行表面处理，该表面处理组合物包含：具有源自含有羧基或其盐基的单体的结构单元的含羧基(共)聚合物、具有SOx或NOy(x及y分别独立地为1～5的实数)所示的部分结构的含有SOx或NOy部分结构的化合物，和分散介质，所述表面处理组合物的
-
公开(公告)号：CN117120181A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280026126.9
申请日：2022-03-23
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 此处公开的层叠造形用粉末材料包含碳化钨(WC)、钴(Co)和含有碳(C)作为主要构成元素的碳添加材料，且是碳含有率A(质量％)的值具备6.4≤A≤7.2的条件的粉末材料，所述碳含有率A由下式所示：(源自WC的C的质量+源自碳添加材料的C的质量)/(WC的质量)×100。
-
公开(公告)号：CN111994888B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202011020708.5
申请日：2018-03-20
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明涉及磷酸钛粉体及其制造方法、化妆品用白色颜料。本发明的磷酸钛粉体是由磷酸钛的板状晶体颗粒形成的磷酸钛粉体，板状晶体颗粒的平均厚度为0.01μm以上且低于0.10μm，板状晶体颗粒的平均一次粒径除以平均厚度而得的值即径厚比为5以上。在本发明的磷酸钛粉体的制造方法中，利用水热合成法使含有钛和磷的原料发生反应，制造由磷酸钛的板状晶体颗粒形成的磷酸钛粉体时，使用硫酸钛与磷酸的混合物作为原料。
-
公开(公告)号：CN117063267A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280024860.1
申请日：2022-03-18
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够减少研磨后的基板的表面缺陷的方案。本发明涉及一种研磨方法，其为基板的研磨方法，所述研磨方法包括研磨工序，所述研磨工序包括：将研磨用组合物供给至所述基板与安装在研磨台上的研磨垫的接触面并且通过旋转所述研磨台来研磨所述基板的、2个以上研磨阶段，所述2个以上研磨阶段包括：在研磨台上使用研磨用组合物S1进行研磨的研磨阶段1；和、所述研磨阶段1之后，在与所述研磨阶段1同一研磨台上使用研磨用组合物S2进行研磨的研磨阶段2，所述研磨用组合物S1含有磨粒1、水和磨粒吸附参数为5以上的水溶性高分子；所述研磨用组合物S2含有磨粒2、水和所述磨粒吸附参数小于5的水溶性高分子，且不以0.005质量％以上的含量含有所述磨粒吸附参数为5以上的水溶性高分子。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
483
records
(took 0.052 seconds)
