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公开(公告)号：CN100389161C
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200410034215.1
申请日：2004-03-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。
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公开(公告)号：CN1550532A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043512.2
申请日：2004-05-09
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α－氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂以及水。
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公开(公告)号：CN1536046A
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：CN200410034215.1
申请日：2004-03-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。
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公开(公告)号：CN1626599B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200410092531.4
申请日：2004-11-04
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C19/00
Abstract: 本发明的抛光组合物含有二氧化硅、酸和水。二氧化硅是例如胶体二氧化硅、热解法二氧化硅或沉淀法二氧化硅。酸是例如盐酸，磷酸，硫酸，膦酸，硝酸，亚磷酸，硼酸，乙酸，衣康酸，丁二酸，酒石酸，柠檬酸，马来酸，乙醇酸，丙二酸，甲基磺酸，甲酸，苹果酸，葡萄糖酸，丙胺酸，甘氨酸，乳酸，羟基亚乙基二磷酸，氮基三(亚甲基磷酸)，或磷酰基丁烷三羧酸。该抛光组合物的pH值优选在0.5～6范围内。该抛光组合物非常适用于抛光玻璃基片。
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公开(公告)号：CN100392035C
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200410043512.2
申请日：2004-05-09
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α-氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂、以及水。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN1626599A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN200410092531.4
申请日：2004-11-04
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C19/00
Abstract: 本发明的抛光组合物含有二氧化硅、酸和水。二氧化硅是例如胶体二氧化硅、热解法二氧化硅或沉淀法二氧化硅。酸是例如盐酸，磷酸，硫酸，膦酸，硝酸，亚磷酸，硼酸，乙酸，衣康酸，丁二酸，酒石酸，柠檬酸，马来酸，乙醇酸，丙二酸，甲基磺酸，甲酸，苹果酸，葡萄糖酸，丙胺酸，甘氨酸，乳酸，羟基亚乙基二磷酸，氮基三(亚甲基磷酸)，或磷酰基丁烷三羧酸。该抛光组合物的pH值优选在0.5～6范围内。该抛光组合物非常适用于抛光玻璃基片。
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公开(公告)号：CN1576339B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200410062868.0
申请日：2004-07-02
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: G11B5/8404 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种抛光组合物，它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂，它含以下组中选出的至少一种：膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L-抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。
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公开(公告)号：CN100497509C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200410104484.0
申请日：2004-12-24
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。
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公开(公告)号：CN1640974A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN200410104484.0
申请日：2004-12-24
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。
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