公开(公告)号：CN100392035C

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200410043512.2

申请日：2004-05-09

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 宇野贵规 ,  杉山博保 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α-氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂、以及水。

公开(公告)号：CN100497509C

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200410104484.0

申请日：2004-12-24

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 宇野贵规 ,  杉山博保 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02 ,  B24B9/02

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。

公开(公告)号：CN1640974A

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：CN200410104484.0

申请日：2004-12-24

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 宇野贵规 ,  杉山博保 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02 ,  B24B9/02

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。

公开(公告)号：CN1550532A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN200410043512.2

申请日：2004-05-09

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 宇野贵规 ,  杉山博保 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α－氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂以及水。