公开(公告)号：CN1939994A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200610142160.5

申请日：2006-09-28

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 松波靖 ,  平野淳一 ,  林杰

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  B24B1/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 一种抛光组合物，含有研磨颗粒例如胶态二氧化硅、酸例如柠檬酸和正磷酸、氧化剂例如过氧化氢、以及一种选自吡咯及其衍生物的化合物例如苯并三唑。这种抛光组合物适用于磁盘基片的抛光。

公开(公告)号：CN102105266A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200980130486.8

申请日：2009-06-12

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 森永均 ,  田原宗明 ,  松波靖

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  C01F7/02

CPC classification number: B24D3/00 ,  C01F7/02 ,  C01F7/441 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/38 ,  C01P2004/39 ,  C01P2004/45 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  Y10T428/2982

Abstract: 本发明提供包含一次颗粒的氧化铝颗粒，其一次颗粒每个具有六面体形状及1至5的纵横比。所述氧化铝颗粒优选地具有0.01至0.6μm的平均一次粒径。所述氧化铝颗粒优选地具有5％至70％的α-转化率。此外，所述氧化铝颗粒优选地具有0.01至2μm的平均二次粒径，并且氧化铝颗粒的90％粒径除以氧化铝颗粒的10％粒径所得值优选等于或小于3。所述氧化铝颗粒可用作，例如，对半导体器件基板、硬盘基片、或显示器基板进行抛光的用途中的磨粒。

公开(公告)号：CN100389161C

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200410034215.1

申请日：2004-03-30

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。

公开(公告)号：CN1536046A

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：CN200410034215.1

申请日：2004-03-30

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。

公开(公告)号：CN102105266B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN200980130486.8

申请日：2009-06-12

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 森永均 ,  田原宗明 ,  松波靖

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  C01F7/02

CPC classification number: B24D3/00 ,  C01F7/02 ,  C01F7/441 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/38 ,  C01P2004/39 ,  C01P2004/45 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  Y10T428/2982

Abstract: 本发明提供包含一次颗粒的氧化铝颗粒，其一次颗粒每个具有六面体形状及1至5的纵横比。所述氧化铝颗粒优选地具有0.01至0.6μm的平均一次粒径。所述氧化铝颗粒优选地具有5％至70％的α-转化率。此外，所述氧化铝颗粒优选地具有0.01至2μm的平均二次粒径，并且氧化铝颗粒的90％粒径除以氧化铝颗粒的10％粒径所得值优选等于或小于3。所述氧化铝颗粒可用作，例如，对半导体器件基板、硬盘基片、或显示器基板进行抛光的用途中的磨粒。

公开(公告)号：CN1746253B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200510099560.8

申请日：2005-09-07

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1463

Abstract: 一种抛光组合物，包含有研磨剂；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1-羟基亚乙基-1，1-焦磷酸中的至少一种酸；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1-羟基亚乙基-1，1-焦磷酸中一种酸的钠盐、钾盐和锂盐中的至少一种盐；氧化剂；以及水。

公开(公告)号：CN1746253A

公开(公告)日：2006-03-15

申请号：CN200510099560.8

申请日：2005-09-07

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1463

Abstract: 一种抛光组合物，包含有研磨剂；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1－羟基亚乙基－1，1－焦磷酸中的至少一种酸；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1－羟基亚乙基－1，1－焦磷酸中一种酸的钠盐、钾盐和锂盐中的至少一种盐；氧化剂；以及水。