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公开(公告)号：CN1939994A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610142160.5
申请日：2006-09-28
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种抛光组合物，含有研磨颗粒例如胶态二氧化硅、酸例如柠檬酸和正磷酸、氧化剂例如过氧化氢、以及一种选自吡咯及其衍生物的化合物例如苯并三唑。这种抛光组合物适用于磁盘基片的抛光。
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