公开(公告)号：CN1576339A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410062868.0

申请日：2004-07-02

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种抛光组合物，它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂，它含以下组中选出的至少一种：膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L－抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。

公开(公告)号：CN100389161C

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200410034215.1

申请日：2004-03-30

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。

公开(公告)号：CN1536046A

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：CN200410034215.1

申请日：2004-03-30

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。

公开(公告)号：CN100350008C

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200410007656.2

申请日：2004-02-26

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种更适合用于抛光磁盘基片表面的抛光组合物。该抛光组合物包括用作研磨剂的二氧化硅、甲磺酸、过氧化氢和水。

公开(公告)号：CN1532245A

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：CN200410007656.2

申请日：2004-02-26

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种更适合用于抛光磁盘基片表面的抛光组合物。该抛光组合物包括用作研磨剂的二氧化硅、甲磺酸、过氧化氢和水。

公开(公告)号：CN1576339B

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN200410062868.0

申请日：2004-07-02

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种抛光组合物，它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂，它含以下组中选出的至少一种：膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L-抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。

公开(公告)号：CN1746253B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200510099560.8

申请日：2005-09-07

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1463

Abstract: 一种抛光组合物，包含有研磨剂；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1-羟基亚乙基-1，1-焦磷酸中的至少一种酸；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1-羟基亚乙基-1，1-焦磷酸中一种酸的钠盐、钾盐和锂盐中的至少一种盐；氧化剂；以及水。

公开(公告)号：CN1746253A

公开(公告)日：2006-03-15

申请号：CN200510099560.8

申请日：2005-09-07

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 平野淳一 ,  松波靖 ,  横道典孝

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1463

Abstract: 一种抛光组合物，包含有研磨剂；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1－羟基亚乙基－1，1－焦磷酸中的至少一种酸；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1－羟基亚乙基－1，1－焦磷酸中一种酸的钠盐、钾盐和锂盐中的至少一种盐；氧化剂；以及水。