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公开(公告)号：CN101012313B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200610103020.7
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由下面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
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公开(公告)号：CN101012313A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200610103020.7
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物，字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
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公开(公告)号：CN100347227C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN03140710.2
申请日：2003-05-30
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由下面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
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